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유전 탄성층;상기 유전 탄성층과 물리적으로 결합되며, 다수의 결정 구조물의 입자가 내부에 분포된 광결정층;상기 유전 탄성층에 대해 일면에 형성된 투명 전극층; 및상기 유전 탄성층에 대해 타면에 형성된 하부 전극층;을 구비하며,상기 투명 전극층 및 상기 하부 전극층 간의 전압 변화에 따라, 상기 유전 탄성층의 면적이 변화하고, 상기 유전 탄성층의 변화에 대응하여 상기 광결정층도 면적이 변화하고, 상기 광결정층의 두께가 아닌 상기 광결정층 내부에 분포된 상기 결정 구조물의 입자 간 거리가 수정됨으로써 색채 반응을 보이는 것을 특징으로 하는 광결정 구조
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제1항에 있어서,상기 유전 탄성층은 프리-스트레치된 상태로 제공되는 것을 특징으로 하는 광결정 구조
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제1항에 있어서,상기 광결정층은 상기 결정 구조물 사이에 충진된 유연재질층을 더 포함하며, 상기 광결정층에서 상기 유연재질층은 상기 결정 구조물의 상면 하부에만 존재하여 상기 결정 구조물의 상면이 상기 투명 전극층 또는 상기 하부 전극층과 직접 접촉하는 것을 특징으로 하는 것을 특징으로 하는 광결정 구조
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제3항에 있어서,상기 광결정층은 상기 결정 구조물 사이에 충진된 유연재질층을 더 포함하며, 상기 결정 구조물의 상면은 상기 결정 구조물 위를 덮는 상부층을 벗겨 내는 과정을 통해서 상기 결정 구조물의 상면이 외부로 직접 노출되는 것을 특징으로 하는 광결정 구조
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제4항에 있어서,상기 유연재질층을 형성하는 재질의 파단 강도가 상기 결정 구조물을 구성하는 입자 간의 반데르발스 힘보다 작은 것을 특징으로 하는 광결정 구조
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제1항에 있어서,상기 결정 구조물의 입자는 입자 코어, 상기 입자 코어의 외면을 덮는 소프트 폴리머 코팅, 및 상기 소프트 폴리머 코팅의 외면을 덮는 폴리도파민 코팅을 포함하는 것을 특징으로 하는 광결정 구조
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제1항에 있어서,상기 투명 전극층은 은나노 와이어를 이용하여 형성되는 것을 특징으로 하는 광결정 구조
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제1항에 있어서,상기 하부 전극층은 카본 그리스를 이용하여 형성되는 것을 특징으로 하는 광결정 구조
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유전 탄성층을 제공하는 단계;상기 유전 탄성층 상에 다수의 결정 구조물의 입자가 내부에 분포된 광결정층을 형성하는 단계;상기 유전 탄성층에 대해 일면에 투명 전극층을 형성하는 단계; 및상기 유전 탄성층에 대해 타면에 형성된 하부 전극층을 형성하는 단계;를 구비하며,상기 투명 전극층 및 상기 하부 전극층 간의 전압 변화에 따라, 상기 유전 탄성층의 면적이 변화하고, 상기 유전 탄성층의 변화에 대응하여 상기 광결정층의 두께가 아닌 상기 광결정층 내부에 분포된 상기 결정 구조물의 입자 간 거리가 수정됨으로써 색채 반응을 보이는 것을 특징으로 하는 광결정 구조의 제조방법
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제9항에 있어서,상기 유전 탄성층을 제공하는 단계에서,상기 유전 탄성층은 프리-스트레치된 상태로 제공되는 것을 특징으로 하는 광결정 구조의 제조방법
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제9항에 있어서,상기 광결정층을 형성하는 단계는 상기 결정 구조물 사이에 충진된 유연재질층을 형성하고, 상기 유연재질층에서 상기 결정 구조물을 덮는 상부층을 벗겨 내는 단계를 더 포함하며, 상기 유연재질층을 형성하는 재질의 파단 강도를 상기 결정 구조물을 구성하는 입자 간의 반데르발스 힘보다 작게 설계하여, 상기 결정 구조물의 상면에서 상기 상부층의 파열이 전파되도록 하는 것을 특징으로 하는 광결정 구조의 제조방법
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제9항에 있어서,상기 결정 구조물의 입자는 입자 코어, 상기 입자 코어의 외면을 덮는 소프트 폴리머 코팅, 및 상기 소프트 폴리머 코팅의 외면을 덮는 폴리도파민 코팅을 포함하는 것을 특징으로 하는 광결정 구조의 제조방법
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제9항에 있어서,상기 투명 전극층 또는 상기 하부 전극층을 형성하기 전에, 상기 광결정층을 스웰링하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광결정 구조의 제조방법
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제13항에 있어서,상기 광결정층을 스웰링 하는 단계는, 상기 광결정층에 무극성 물질을 흡수시키는 단계 및 상기 흡수된 무극성 물질을 유연재질 성분으로 대체하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광결정 구조의 제조방법
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제9항에 있어서,상기 투명 전극층은 은나노 와이어를 이용하여 형성하는 것을 특징으로 하는 광결정 구조의 제조방법
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제9항에 있어서,상기 하부 전극층은 카본 그리스를 이용하여 형성하는 것을 특징으로 하는 광결정 구조의 제조방법
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