| 1 |
1
공진 구조물을 형성하는 고분자 공진기의 제조방법에 있어서,베이스 패턴의 상면이 노출되도록 상기 베이스 패턴을 수용하는 제1 고분자층을 제공하는 단계;상기 제1 고분자층 상에 제공되며 상기 베이스 패턴의 상부에 미세 박막 공간을 형성하는 고분자 커버를 형성하는 단계;상기 미세 박막 공간에 액상의 자외선 경화 수지를 충진하는 단계;소정의 마스크 패턴에 따라 상기 미세 박막 공간에 있는 액상의 상기 자외선 경화 수지를 선택적으로 경화시켜 상기 베이스 패턴과 일체를 이루는 공진 패턴을 형성하는 단계; 및상기 제1 고분자층 및 상기 고분자 커버로부터 일체화된 상기 공진 패턴과 상기 베이스 패턴을 분리하는 단계;를 구비하는 공진 구조물의 제조방법
|
| 2 |
2
제1항에 있어서,상기 베이스 패턴을 수용하는 상기 제1 고분자층을 제공하는 단계는,제2 고분자층을 제공하는 단계;상기 제2 고분자층의 일면에 경계층을 형성하는 단계;상기 경계층 상에 적어도 하나의 상기 베이스 패턴을 배치하는 단계;상기 경계층 상에 상기 베이스 패턴을 수용하는 상기 제1 고분자층을 형성하는 단계; 및상기 경계층의 경계로 상기 베이스 패턴과 상기 제1 고분자층을 상기 제2 고분자층으로부터 분리하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 공진 구조물의 제조방법
|
| 3 |
3
제2항에 있어서,상기 경계층은 상기 제2 고분자층의 상기 일면을 실란 처리하여 형성되는 것을 특징으로 하는 공진 구조물의 제조방법
|
| 4 |
4
제1항에 있어서,상기 베이스 패턴과 일체화된 상기 공진 패턴 상면 중 전부 또는 일부에 반사 코팅을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 공진 구조물의 제조방법
|
| 5 |
5
제1항에 있어서,상기 베이스 패턴은 중앙에 기둥 형상의 적어도 하나의 빈 공간을 포함하며,상기 공진 패턴은 상기 빈 공간의 입구 주변으로 형성된 링 베이스 및 상기 링 베이스로부터 상기 빈 공간의 입구 상으로 연장된 캔틸레버를 포함하는 것을 특징으로 하는 공진 구조물의 제조방법
|
| 6 |
6
제1항에 있어서,상기 베이스 패턴은 중앙에 기둥 형상의 적어도 하나의 빈 공간을 포함하며,상기 공진 패턴은 상기 빈 공간의 입구 주변으로 형성된 링 베이스 및 상기 빈 공간의 입구를 가로 질러 상기 링 베이스에 양단이 연결된 브릿지를 포함하는 것을 특징으로 하는 공진 구조물의 제조방법
|
| 7 |
7
제1항에 있어서,상기 베이스 패턴은 중앙에 기둥 형상의 적어도 하나의 빈 공간을 포함하며,상기 공진 패턴은 상기 빈 공간의 입구 주변으로 형성된 링 베이스, 상기 빈 공간의 입구 상에 위치한 플로팅 플레이트, 및 상기 플로팅 플레이트와 상기 링 베이스를 연결하는 복수의 연결부를 포함하는 것을 특징으로 하는 공진 구조물의 제조방법
|
| 8 |
8
제1항에 있어서,상기 베이스 패턴은 중앙에 기둥 형상의 적어도 하나의 빈 공간을 포함하며,상기 공진 패턴은 상기 빈 공간의 입구를 덮는 멤브레인을 포함하는 것을 특징으로 하는 공진 구조물의 제조방법
|
| 9 |
9
제1항에 있어서,액상의 상기 자외선 경화 수지를 선택적으로 경화시켜 상기 베이스 패턴과 일체를 이루는 상기 공진 패턴을 형성하는 단계에서, 상기 마스크 패턴을 통과하는 자외선의 세기를 달리하여 강성 구배가 위치에 따라 다른 상기 공진 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 공진 구조물의 제조방법
|
| 10 |
10
제9항에 있어서,디지털 마이크로-미러 디바이스를 포함하는 리소그래피 장비를 이용하여 상기 미세 박박 공간에 충진된 액상의 상기 자외선 경화 수지로 조사되는 자외선의 패턴과 세기를 조절하는 것을 특징으로 하는 공진 구조물의 제조방법
|
| 11 |
11
제10항에 있어서,상기 리소그래피 장비는 회색조 마스크를 이용하는 것을 특징으로 하는 공진 구조물의 제조방법
|
| 12 |
12
패턴은 중앙에 기둥 형상의 적어도 하나의 빈 공간을 포함하는 베이스 패턴;상기 베이스 패턴과 결합된 공진 패턴;을 구비하며,상기 공진 패턴은 자외선 경화 수지를 경화시켜 제공되며,상기 베이스 패턴과는 별도로 제작되고, 상기 베이스 패턴 상에 일시적으로 저장된 액상의 자외선 경화 수지를 선택적으로 경화시켜 상기 베이스 패턴과 일체를 이루는 것을 특징으로 하는 공진 구조물
|
| 13 |
13
제12항에 있어서,상기 베이스 패턴과 일체화된 상기 공진 패턴 상면 중 전부 또는 일부에 형성된 반사 코팅을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 공진 구조물
|
| 14 |
14
제12항에 있어서,상기 공진 패턴은 상기 빈 공간의 입구 주변으로 형성된 링 베이스 및 상기 링 베이스로부터 상기 빈 공간의 입구 상으로 연장된 캔틸레버를 포함하는 것을 특징으로 하는 공진 구조물
|
| 15 |
15
제12항에 있어서,상기 공진 패턴은 상기 빈 공간의 입구 주변으로 형성된 링 베이스 및 상기 빈 공간의 입구를 가로 질러 상기 링 베이스에 양단이 연결된 브릿지를 포함하는 것을 특징으로 하는 공진 구조물
|
| 16 |
16
제12항에 있어서,상기 공진 패턴은 상기 빈 공간의 입구 주변으로 형성된 링 베이스, 상기 빈 공간의 입구 상에 위치한 플로팅 플레이트, 및 상기 플로팅 플레이트와 상기 링 베이스를 연결하는 복수의 연결부를 포함하는 것을 특징으로 하는 공진 구조물
|
| 17 |
17
제12항에 있어서,상기 공진 패턴은 상기 빈 공간의 입구를 덮는 멤브레인을 포함하는 것을 특징으로 하는 공진 구조물
|
