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반도체성 화합물을 포함하며, 비정질 상을 갖는 나노클러스터를 준비하는 단계;상기 나노클러스터와 동일한 반도체성 화합물을 포함하며, 상기 나노클러스터보다 큰 직경을 가지며, 결정성을 갖는 시드 입자를 준비하는 단계; 및상기 시드 입자와 상기 나노클러스터를 반응시켜, 상기 시드 입자보다 큰 양자점을 형성하는 단계를 포함하며,상기 반도체성 화합물은 III-V족 화합물을 포함하고, 상기 나노클러스터를 준비하는 단계는, III족 전구체와 V족 전구체를 40℃ 이하에서 반응시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노클러스터를 이용한 양자점의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 반도체성 화합물은, 인듐 아세나이드를 포함하는 것을 특징으로 하는 양자점의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 시드 입자를 준비하는 단계는,III족 전구체와 V족 전구체를 200℃ 내지 320℃에서 반응시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 양자점의 제조방법
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반도체성 화합물을 포함하며, 비정질 상을 갖는 나노클러스터를 준비하는 단계;상기 나노클러스터와 동일한 반도체성 화합물을 포함하며, 상기 나노클러스터보다 큰 직경을 가지며, 결정성을 갖는 시드 입자를 준비하는 단계; 및상기 시드 입자와 상기 나노클러스터를 반응시켜, 상기 시드 입자보다 큰 양자점을 형성하는 단계를 포함하며,상기 반도체성 화합물은 III-V족 화합물을 포함하고, 상기 나노클러스터의 직경은 1nm 내지 4nm인 것을 특징으로 하는 양자점의 제조 방법
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제6항에 있어서, 상기 시드 입자의 직경은 2nm 내지 3nm인 것을 특징으로 하는 양자점의 제조 방법
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