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필름의 적어도 일면 상에 형성되고, 단위 구조인 마이크로미터 스케일(micrometer scale)의 함몰부를 복수개 가지는 제1 패턴 - 상기 마이크로미터 스케일의 함몰부는 폭이 높이보다 더 큰 크기를 가지는 오목 렌즈 형태이고, 폭은 5㎛ 내지 50㎛이고, 높이는 0
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필름의 적어도 일면 상에 형성되고, 단위 구조인 마이크로미터 스케일(micrometer scale)의 함몰부를 가지는 복수개 제1 패턴 - 상기 마이크로미터 스케일의 함몰부는 폭이 높이보다 더 큰 크기를 가지는 오목 렌즈 형태이고, 폭은 5㎛ 내지 50㎛이고, 높이는 0
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제3항 또는 제4항에 있어서,상기 제1 패턴은 입사된 광을 산란시키는 방현 패턴으로 사용되는, 방현 및 반사 방지 필름
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제5항에 있어서,상기 제1 패턴의 표면 각 부분마다 빛의 굴절각이 상이한, 방현 및 반사 방지 필름
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제3항 또는 제4항에 있어서,상기 제2 패턴은 입사된 광의 반사를 방지하는 반사 방지 패턴으로 사용되는, 방현 및 반사 방지 필름
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제3항에 있어서,상기 제2 패턴의 돌출부의 상단에서 하단으로 갈수록, 해당 평단면에서의 굴절률은 공기의 굴절률에서 상기 필름의 굴절률에 수렴하는, 방현 및 반사 방지 필름
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제4항에 있어서,상기 제2 패턴의 함몰부의 상단에서 하단으로 갈수록, 해당 평단면에서의 굴절률은 공기의 굴절률에서 상기 필름의 굴절률에 수렴하는, 방현 및 반사 방지 필름
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제3항 또는 제4항에 있어서,상기 제2 패턴의 단위 구조의 높이는 일정한, 방현 및 반사 방지 필름
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제3항 또는 제4항에 있어서,상기 제2 패턴의 단위 구조의 높이는 20nm 내지 300nm이며, 각각의 상기 제2 패턴의 단위 구조 간의 피치는 50nm 내지 300nm인, 방현 및 반사 방지 필름
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제3항 또는 제4항에 있어서,상기 필름은 전광선 투과율(%)이 적어도 90보다 크고, 반사도(60° gloss)가 적어도 80보다 작은, 방현 및 반사 방지 필름
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(a) 평판 또는 원통 형상의 금속 마스터 기판을 준비하는 단계;(b) 상기 금속 마스터 기판의 표면에 마이크로미터 스케일(micrometer scale)의 복수의 함몰부를 가지는 몰드 패턴을 형성하는 단계;(c) 상기 금속 마스터 기판을 베이스 기판에 압착하여 상기 베이스 기판에 상기 몰드 패턴의 역상(reverse image)인 제1 마스터 패턴을 형성하는 단계; 및(d) 상기 베이스 기판의 상기 제1 마스터 패턴 상에 나노미터 스케일(nanometer scale)의 복수의 함몰부를 가지는 제2 마스터 패턴을 형성하는 단계(e) 상기 제1 마스터 패턴 및 상기 제2 마스터 패턴이 형성된 상기 베이스 기판의 면과 대향하도록 타겟 필름을 배치하는 단계; 및(f) 상기 타겟 필름에 상기 제1 마스터 패턴 및 상기 제2 마스터 패턴의 역상을 전사하여 제1 패턴 및 제2 패턴을 형성하는 단계를 포함하고,(f) 단계 후, 상기 타겟 필름은,단위 구조인 마이크로미터 스케일(micrometer scale)의 함몰부를 복수개 가지는 제1 패턴 - 상기 마이크로미터 스케일의 함몰부는 폭이 높이보다 더 큰 크기를 가지는 오목 렌즈 형태이고, 폭은 5㎛ 내지 50㎛이고, 높이는 0
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(a) 평판 또는 원통 형상의 금속 마스터 기판을 준비하는 단계;(b) 상기 금속 마스터 기판의 표면에 마이크로미터 스케일(micrometer scale)의 복수의 함몰부를 가지는 몰드 패턴을 형성하는 단계;(c) 상기 금속 마스터 기판을 베이스 기판에 압착하여 상기 베이스 기판에 상기 몰드 패턴의 역상(reverse image)인 제1 마스터 패턴을 형성하는 단계; 및(d) 상기 베이스 기판의 상기 제1 마스터 패턴 상에 나노미터 스케일(nanometer scale)의 복수의 돌출부를 가지는 제2 마스터 패턴을 형성하는 단계(e) 상기 제1 마스터 패턴 및 상기 제2 마스터 패턴이 형성된 상기 베이스 기판의 면과 대향하도록 타겟 필름을 배치하는 단계; 및(f) 상기 타겟 필름에 상기 제1 마스터 패턴 및 상기 제2 마스터 패턴의 역상을 전사하여 제1 패턴 및 제2 패턴을 형성하는 단계를 포함하고,(f) 단계 후, 상기 타겟 필름은,단위 구조인 마이크로미터 스케일(micrometer scale)의 함몰부를 복수개 가지는 제1 패턴 - 상기 마이크로미터 스케일의 함몰부는 폭이 높이보다 더 큰 크기를 가지는 오목 렌즈 형태이고, 폭은 5㎛ 내지 50㎛이고, 높이는 0
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제16항 또는 제17항에 있어서,상기 (d) 단계에서, 상기 제2 마스터 패턴은 플라즈마 건식 에칭을 사용하여 형성하는, 방현 및 반사 방지 필름 제조 방법
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제16항 또는 제17항에 있어서,상기 제2 마스터 패턴의 단위 구조의 높이는 20nm 내지 300nm이며, 각각의 상기 제2 마스터 패턴의 단위 구조 간의 피치는 50nm 내지 300nm인, 방현 및 반사 방지 필름 제조 방법
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