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하기의 화학식으로 표시되는 페로브스카이트 화합물
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제1 전극;상기 제1 전극 상에 형성되는 광 흡수층; 및상기 광 흡수층 상에 형성되는 제2 전극을 포함하고,상기 광 흡수층은 하기의 화학식으로 표시되는 페로브스카이트 화합물을 포함하는 태양전지
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제2항에 있어서, 상기 제1 전극, 상기 제2 전극은 상기 페로브스카이트 화합물의 접착력에 의해 상기 광 흡수층과 접착되는 태양전지
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제2항에 있어서,상기 제1 전극은유리 기판, ITO(indium tin oxide) 기판, FTO(Fluorine Doped Tin Oxide) 기판 및 유연 투명 전극 기판 중 어느 하나로 선택되는 제1 기판; 및상기 제1 기판 상에 형성되는 TiO2층을 포함하는 태양전지
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제4항에 있어서,상기 유연 투명 전극 기판은, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 (PET), 폴리에틸렌 설폰(PES), 폴리에틸렌 나프탈레이트(PEN), 폴리카보네이트(PC), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA), 폴리이미드 (PI), 에틸렌비닐아세테이트(EVA), 아몰포스폴리에틸렌테레프탈레이트(APET), 폴리프로필렌테레프탈레이트(PPT), 폴리에틸렌테레프탈레이트글리세롤(PETG), 폴리사이클로헥실렌디메틸렌테레프탈레이트(PCTG), 변성트리아세틸셀룰로스(TAC), 사이클로올레핀폴리머(COP), 사이클로올레핀코폴리머(COC), 디시클로펜타디엔폴리머(DCPD), 시클로펜타디엔폴리머(CPD), 폴리아릴레이트(PAR), 폴리에테르이미드(PEI), 폴리다이메틸실론세인(PDMS), 실리콘수지, 불소수지 및 변성 에폭시수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 폴리머 기판으로 형성되는 태양전지
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제4항에 있어서,상기 TiO2층은,blocking TiO2층; 및 상기 blocking TiO2층 상에 형성되는 mesoporous TiO2층을 포함하는 태양전지
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제4항에 있어서,상기 제1 전극은 상기 TiO2층 상에 형성되는 ZrO2층을 더 포함하는 태양전지
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제2항에 있어서,상기 제2 전극은 카본을 포함하는 태양전지
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AC 화합물 분말 및 BC3 화합물 분말을 준비하는 단계; 상기 AC 화합물 분말 및 상기 BC3 화합물 분말을 혼합하여 혼합 분말을 형성하는 단계; 및상기 혼합 분말을 열처리하여, 하기의 화학식으로 표시되는 화합물을 제조하는 단계를 포함하는, 페로브스카이트 화합물 제조방법
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제9항에 있어서, 상기 AC 화합물의 농도는 1mmol이고, 상기 BC3 화합물의 농도는 2mmol인 페로브스카이트 화합물 제조방법
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제1 전극을 형성하는 단계;상기 제1 전극 상에 광 흡수층을 형성하는 단계; 및 상기 광 흡수층 상에 제2 전극을 형성하는 단계를 포함하고,상기 광 흡수층은 하기의 화학식으로 표시되는 페로브스카이트 화합물을 포함하는 태양전지 제조방법
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제11항에 있어서, 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극은 상기 페로브스카이트 화합물의 접착력에 의해 상기 광 흡수층에 접착되는 태양전지 제조방법
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제11항에 있어서, 상기 제1 전극을 형성하는 단계는,유리 기판, ITO(indium tin oxide) 기판, FTO(Fluorine Doped Tin Oxide) 기판 및 유연 투명 전극 기판 중 어느 하나로 선택되는 제1 기판을 준비하는 단계; 및상기 제1 기판 상에 TiO2층을 형성하는 단계를 포함하는 태양전지 제조방법
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제13항에 있어서,상기 제1 전극을 형성하는 단계는,상기 TiO2층 상에 ZrO2층을 형성하는 단계를 더 포함하는 태양전지 제조방법
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제11항에 있어서,상기 광 흡수층을 형성하는 단계는A1B2C7 용액을 형성하는 단계; 및A1B2C7 용액을 상기 제1 전극 상에 드롭핑(dropping), 스핀 코팅(spin coating) 또는 스크린 프린팅(screen printing)하는 단계를 포함하는 태양전지 제조방법
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제11항에 있어서,상기 A1B2C7 용액을 형성하는 단계는,AC 화합물 분말 및 BC3 화합물 분말을 준비하는 단계; 상기 AC 화합물 분말 및 상기 BC3 화합물 분말을 혼합하여 혼합 분말을 형성하는 단계; 상기 혼합 분말을 열처리하여, 하기의 화학식으로 표시되는 화합물을 제조하는 단계; 및 상기 열처리 된 혼합 분말을 DMF(dimethyl formamide) 또는 DMSO(Dimethyl sulfoxide) 용매에 용해시키는 단계를 포함하는 태양전지 제조방법
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제15항에 있어서, 상기 광 흡수층을 형성하는 단계는,상기 A1B2C7 용액을 건조하는 단계를 더 포함하는 태양전지 제조방법
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제11항에 있어서, 상기 제2 전극을 형성하는 단계는,유리 기판, ITO(indium tin oxide) 기판, FTO(Fluorine Doped Tin Oxide) 기판 및 유연 투명 전극 기판 중 어느 하나로 선택되는 제2 기판을 준비하는 단계;탄소 분말을 준비하는 단계;상기 제2 기판 상에 상기 탄소 분말을 코팅하는 단계; 및 상기 탄소 분말이 코팅된 상기 제2 기판을 열처리하는 단계를 포함하는 태양전기 제조방법
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제18항에 있어서,상기 탄소 분말이 코팅된 상기 제2 기판을 열처리하는 단계는 300℃ 이상 600℃ 이하에서 수행되는 태양전지 제조방법
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제11항에 있어서,상기 제2 전극을 형성하는 단계는, 탄소를 함유하는 페이스트를 상기 광 흡수층 상에 도포하는 단계를 포함하는 태양전지 제조방법
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