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불활성 기체를 방전기체로 이용하는 플라즈마 방전으로 아크를 발생시키고, 분출구로 아크 제트를 분출하는 플라즈마 반응부; 및상기 플라즈마 반응부의 상기 분출구 측을 수용하는 탄화 체적을 형성하고, 투입구와 인출구를 경유하는 폴리머 구조물의 중공사를 상기 아크 제트에 노출시켜 수분 이내에 C-H 결합을 깨어서(brake) 카본 구조만을 남기는 탄화가 일어나게 하여 카본 재료의 다공 구조물을 형성시키는 케이스를 포함하며,상기 플라즈마 반응부는전압이 인가되는 전극, 및전기적으로 접지되어 상기 전극을 수용하고 상기 전극과의 사이에 방전갭을 형성하여 플라즈마 방전을 일으키는 하우징을 포함하고,상기 하우징은상기 전극의 외곽에 형성되는 원통부,상기 원통부의 단부에서 멀어져 가면서 점진적으로 좁아지는 직경 감소부, 및상기 직경 감소부에서 상기 분출구 측으로 가면서 점진적으로 넓어지는 직경 증대부를 포함하는 중공사 탄화 장치
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제1항에 있어서,상기 하우징은상기 분출구 측에서 상기 케이스에 수용되는 중공사 탄화 장치
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제2항에 있어서,상기 투입구와 상기 인출구는상기 분출구를 중심으로 상기 케이스의 좌우 양측에 배치되며,탄화 중 및 탄화 후, 방전기체를 배출하도록 상기 중공사 외표면과의 사이에 간극을 형성하는 중공사 탄화 장치
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제2항에 있어서,상기 케이스는상기 플라즈마 반응부의 측방에 구비되어 방전기체를 배출하는 배출구를 더 포함하는 중공사 탄화 장치
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제1항에 있어서,상기 플라즈마 반응부와 상기 중공사는중공사의 길이 방향을 따라 상대적으로 직선 운동하는 중공사 탄화 장치
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제1항에 있어서,상기 플라즈마 반응부와 상기 중공사는 중공사의 직경 방향을 따라 상대적으로 회전 운동하는 중공사 탄화 장치
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불활성 기체를 방전기체로 이용하는 플라즈마 방전으로 아크를 발생시키는 제1단계;상기 제1단계에서 발생되는 아크의 집중과 분산 과정을 통하여 고온 상태의 넓은 체적의 아크 제트를 형성하는 제2단계; 및상기 제2단계에서 형성되는 아크 제트의 영역으로 폴리머 구조물의 중공사를 상기 아크 제트에 노출 및 경유시키면서 상기 중공사에서 수분 이내에 C-H 결합을 깨어서(brake) 카본 구조만을 남기는 탄화(carbonization)가 일어나게 하여 카본 재료의 다공 구조물이 형성되게 하는 제3단계를 포함하는 중공사 탄화 방법
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제8항에 있어서,상기 제2단계는탄화가 일어나는 탄화 체적을 폐쇄 체적(closed volume)으로 형성하는 중공사 탄화 방법
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제8항에 있어서,상기 제3단계는플라즈마로 형성되는 아크 제트와 상기 중공사를 중공사의 길이 방향을 따라 상대적으로 직선 운동시키는 중공사 탄화 방법
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제8항에 있어서,상기 제3단계는플라즈마로 형성되는 아크 제트와 상기 중공사를 중공사의 직경 방향을 따라 상대적으로 회전 운동시키는 중공사 탄화 방법
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