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흡입구와 배기구를 가지는 하우징;상기 하우징의 내부에서 서로 맞물리게 설치되며, 모터의 동력에 의해 회전하여 압력을 저감시키고, 상기 하우징과 함께 접지되어 접지 전극을 이루는 한 쌍의 로터;상기 한 쌍의 로터와 마주하도록 상기 하우징에 설치된 판형의 유전체; 및상기 유전체의 외면에 위치하고, 전원으로부터 구동 전압을 인가받아 상기 유전체와 상기 한 쌍의 로터 사이의 공간에 플라즈마를 생성하여 상기 한 쌍의 로터를 세정하는 판형의 고전압 전극을 포함하는 플라즈마 반응기 일체형 진공 펌프
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제1항에 있어서,상기 한 쌍의 로터는 서로 맞물려 회전하는 제1 스크류 로터와 제2 스크류 로터로 구성되며, 한 쌍의 전동축과 기어 조립체에 의해 상기 모터의 동력을 전달받아 회전하는 플라즈마 반응기 일체형 진공 펌프
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제1항에 있어서,상기 유전체는 상기 흡입구와 거리를 두고 상기 하우징의 상면에 위치하며, 상기 흡입구는 상기 유전체보다 상기 배기구로부터 더 멀리 위치하는 플라즈마 반응기 일체형 진공 펌프
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제3항에 있어서,상기 유전체는 단일 유전체이고, 상기 유전체의 전체 폭은 상기 한 쌍의 로터의 전체 폭보다 작으며, 상기 유전체는 상기 한 쌍의 로터 각각과 동일한 면적으로 마주하는 플라즈마 반응기 일체형 진공 펌프
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제4항에 있어서,상기 유전체는 가장자리가 실런트에 의해 밀봉된 상태로 상기 하우징에 설치되고, 상기 고전압 전극은 상기 하우징과 거리를 두고 상기 유전체의 가장자리 안쪽에 위치하는 플라즈마 반응기 일체형 진공 펌프
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제3항에 있어서,상기 유전체는 상기 한 쌍의 로터 각각에 대응하는 한 쌍의 유전체로 구성되고, 상기 한 쌍의 유전체 각각의 폭은 상기 한 쌍의 로터 각각의 폭보다 작으며, 상기 한 쌍의 유전체 각각의 중심은 상기 한 쌍의 로터 각각의 중심과 일치하는 플라즈마 반응기 일체형 진공 펌프
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제6항에 있어서,상기 한 쌍의 유전체 각각은 가장자리가 실런트에 의해 밀봉된 상태로 상기 하우징에 설치되고, 상기 한 쌍의 고전압 전극 각각은 상기 하우징과 거리를 두고 상기 한 쌍의 유전체 각각의 가장자리 안쪽에 위치하는 플라즈마 반응기 일체형 진공 펌프
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진공관을 통해 공정 챔버와 연결되어 상기 공정 챔버의 내부를 진공으로 배기시키는 진공 펌프에 있어서,하우징의 내부에서 서로 맞물리게 설치되며, 모터의 동력에 의해 회전하여 압력을 저감시키고, 상기 하우징과 함께 접지되어 접지 전극을 이루는 한 쌍의 로터;상기 한 쌍의 로터와 마주하도록 상기 하우징에 설치된 판형의 유전체; 및상기 유전체의 외면에 위치하며, 상기 공정 챔버의 세정 단계에서 전원으로부터 구동 전압을 인가받아 상기 유전체와 상기 한 쌍의 로터 사이의 공간에 플라즈마를 생성하여 상기 한 쌍의 로터를 세정하는 판형의 고전압 전극을 포함하는 플라즈마 반응기 일체형 진공 펌프
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제8항에 있어서,상기 플라즈마 발생 영역의 폭은 상기 한 쌍의 로터 전체의 폭보다 작으며, 상기 플라즈마 발생 시 상기 한 쌍의 로터는 회전하여 원주 방향에 따른 상기 로터의 전체면이 상기 플라즈마에 노출되는 플라즈마 반응기 일체형 진공 펌프
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제9항에 있어서,상기 유전체와 상기 고전압 전극은 상기 하우징의 흡입구와 거리를 두고 상기 하우징의 상면에 위치하며, 상기 하우징과 상기 유전체 사이에 실런트가 제공되어 상기 하우징 내부의 기밀을 유지하는 플라즈마 반응기 일체형 진공 펌프
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