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액상 매질을 수용하며 접지된 매질 수용부; 및적어도 일부가 상기 액상 매질에 잠기는 플라즈마 전극부를 포함하며,상기 플라즈마 전극부는,기체 공급부로부터 기체를 공급받아 누설 없이 온전하게 이송하면서 기체 반응에 의해 활성종의 밀도를 지속적으로 높이는 기체 이송관과, 상기 기체 이송관의 단부에 연결되며 기체를 미세한 기포 형태로 쪼개어 상기 액상 매질로 분출하는 다공성 튜브를 포함하는 제1 전극; 및상기 제1 전극과 거리를 두고 상기 제1 전극의 외주면을 둘러싸며, 내부 공간에 상기 액상 매질이 침투하도록 일단이 개방된 관형의 제2 전극을 포함하고,기체의 흐름 방향에 따른 상기 기체 이송관의 길이는 상기 다공성 튜브의 길이보다 크며, 상기 다공성 튜브와 상기 제2 전극의 사이 공간은 분출된 기체와 유동하는 액상 매질이 공존하는 혼합 영역을 이루는 플라즈마 발생기
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제1항에 있어서,상기 다공성 튜브는 바닥부를 포함하고, 상기 다공성 튜브는 복수의 관통홀이 형성된 금속의 타공판과, 모양이 일정하지 않은 미세 기공들이 서로 통해 있는 금속 발포체 중 어느 하나로 구성되는 플라즈마 발생기
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제2항에 있어서,상기 플라즈마 전극부는, 상기 제1 전극과 거리를 두고 상기 제2 전극의 내주면과 접촉하는 유전체관을 더 포함하는 플라즈마 발생기
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제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,상기 매질 수용부는 금속 용기로 구성되고,상기 플라즈마 전극부는 상기 다공성 튜브와 상기 다공성 튜브를 둘러싸는 상기 제2 전극의 일부가 상기 액상 매질에 잠기도록 상기 액상 매질의 수면 근처에 설치되는 플라즈마 발생기
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제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,상기 매질 수용부는 측벽을 가지는 금속 용기로 구성되고,상기 플라즈마 전극부는 수평 방향으로 상기 측벽을 관통하며, 상기 다공성 튜브와 상기 다공성 튜브를 둘러싸는 상기 제2 전극의 일부가 상기 액상 매질에 잠기는 플라즈마 발생기
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제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,상기 매질 수용부는 금속관으로 구성되고,상기 플라즈마 전극부는 상기 금속관의 길이 방향과 수직한 방향으로 상기 금속관을 관통하며, 상기 다공성 튜브와 상기 다공성 튜브를 둘러싸는 상기 제2 전극의 일부가 상기 액상 매질에 잠기는 플라즈마 발생기
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액상 매질을 수용하며 접지된 매질 수용부; 및적어도 일부가 상기 액상 매질에 잠기는 플라즈마 전극부를 포함하며,상기 플라즈마 전극부는,기체 공급부로부터 기체를 공급받아 누설 없이 온전하게 이송하면서 기체 반응에 의해 활성종의 밀도를 지속적으로 높이는 기체 이송관과, 상기 기체 이송관의 단부에 연결되며 제공받은 기체를 미세한 기포 형태로 쪼개어 상기 액상 매질로 분출하는 다공성 튜브를 포함하는 제1 전극;상기 제1 전극의 내측에서 상기 제1 전극과 거리를 두고 상기 제1 전극의 길이 방향과 나란하게 위치하는 제2 전극; 및상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 위치하는 유전체를 포함하고,기체의 흐름 방향에 따른 상기 기체 이송관의 길이는 상기 다공성 튜브의 길이보다 크며, 상기 다공성 튜브의 내부 공간은 플라즈마 방전 기체와 유동하는 액상 매질이 공존하는 혼합 영역을 이루는 플라즈마 발생기
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제7항에 있어서,상기 다공성 튜브는 바닥부를 포함하고, 상기 다공성 튜브는 복수의 관통홀이 형성된 금속의 타공판과, 모양이 일정하지 않은 미세 기공들이 서로 통해 있는 금속 발포체 중 어느 하나로 구성되는 플라즈마 발생기
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제8항에 있어서,상기 제2 전극은 상기 제1 전극의 중심에 위치하는 금속봉으로 구성되고, 상기 기체 이송관의 내측에 위치하는 부분과, 상기 다공성 튜브의 내측에 위치하는 부분을 포함하며,상기 유전체는 상기 제2 전극의 표면을 덮는 유전층으로 구성되는 플라즈마 발생기
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제8항에 있어서,상기 제2 전극은 상기 제1 전극의 중심에 위치하면서 내부에 기체 통로를 구비한 금속관으로 구성되고, 상기 기체 이송관의 내측에 위치하는 부분과, 상기 다공성 튜브의 내측에 위치하는 부분을 포함하며,상기 유전체는 상기 제2 전극의 외주면을 덮는 유전층으로 구성되는 플라즈마 발생기
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제10항에 있어서,상기 기체 공급부는 상기 기체 이송관으로 기체를 공급하는 제1 공급부와, 상기 기체 통로의 입구로 기체를 공급하는 제2 공급부를 포함하며,상기 제1 공급부와 상기 제2 공급부는 서로 다른 종류의 기체를 공급하는 플라즈마 발생기
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제8항에 있어서,상기 제2 전극은 상기 제1 전극의 중심에 위치하는 금속봉으로 구성되고, 상기 기체 이송관의 내측에 위치하는 부분과, 상기 다공성 튜브의 내측에 위치하는 부분을 포함하며,상기 유전체는 상기 제1 전극의 내부에 위치하는 복수의 유전체볼로 구성되는 플라즈마 발생기
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제12항에 있어서,상기 복수의 유전체볼 각각은 표면에 코팅된 촉매층으로 둘러싸이는 플라즈마 발생기
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제7항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서,상기 매질 수용부는 금속 용기로 구성되고,상기 플라즈마 전극부는 상기 다공성 튜브가 상기 액상 매질에 잠기도록 상기 액상 매질의 수면 근처에 설치되는 플라즈마 발생기
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제7항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서,상기 매질 수용부는 측벽을 가지는 금속 용기로 구성되고,상기 플라즈마 전극부는 수평 방향으로 상기 측벽을 관통하며, 상기 다공성 튜브가 상기 액상 매질에 잠기는 플라즈마 발생기
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제7항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서,상기 매질 수용부는 금속관으로 구성되고,상기 플라즈마 전극부는 상기 금속관의 길이 방향과 수직한 방향으로 상기 금속관을 관통하며, 상기 다공성 튜브가 상기 액상 매질에 잠기는 플라즈마 발생기
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