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템플릿을 제조하는 단계; 상기 템플릿의 외부에 박막을 형성하는 단계; 상기 박막의 일부를 제거하여 템플릿의 일부를 노출시키는 단계; 및 상기 템플릿을 제거하는 단계를 포함하고, 상기 템플릿은 단위셀이 액상 물질로 충진되어 고형화된 트러스 형태의 3차원 경량 구조체이고, 상기 액상 물질의 표면 장력과 액상 물질과 트러스 요소 사이의 분자간력이 균형을 이루어 충진된 액상 물질의 곡면이 균일 평균곡률을 갖도록 제어되는 것을 특징으로 하는, 극저밀도 3차원 박막 다공질 구조체의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 단위셀은 카고메, 팔면체, 육면체, 사방 십이면체, 육팔면체 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는, 극저밀도 3차원 박막 다공질 구조체의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 3차원 경량 구조체는 유연한 선상체 또는 나선형 와이어로 직조되는 것을 특징으로 하는, 극저밀도 3차원 박막 다공질 구조체의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 액상 물질은 수지 또는 금속인 것을 특징으로 하는, 극저밀도 3차원 박막 다공질 구조체의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 박막은 금속, 수지 또는 세라믹인 것을 특징으로 하는, 극저밀도 3차원 박막 다공질 구조체의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 박막은 동종 또는 이종 재질이 복층으로 형성되는 것을 특징으로 하는, 극저밀도 3차원 박막 다공질 구조체의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 박막은 도금 또는 증착 방식으로 형성되는 것을 특징으로 하는 극저밀도 3차원 박막 다공질 구조체의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 박막 일부의 제거는 기계적 연마, 전해 연마 또는 화학적 에칭 중 어느 하나의 방법으로 수행되는 것을 특징으로 하는, 극저밀도 3차원 박막 다공질 구조체의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 템플릿의 제거는 화학적, 물리적, 열적, 또는 광학적인 방법 중 어느 하나의 방법으로 수행되는 것을 특징으로 하는, 극저밀도 3차원 박막 다공질 구조체의 제조방법
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10
제1항에 있어서, 상기 템플릿의 제거 전 또는 후에 발포성 재료를 충진하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 극저밀도 3차원 박막 다공질 구조체 제조방법
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박막형 셀이 3차원 공간상에서 규칙적으로 배열되어 연결된 구조로 이루어지고, 상기 박막형 셀의 표면은 균일 평균곡률을 갖는 곡면인 것을 특징으로 하는 극저밀도 3차원 박막 다공질 구조체
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제11항에 있어서, 상기 박막형 셀의 표면은 P-Surface 형태의 3주기적 최소곡면을 이루는 것을 특징으로 하는 극저밀도 3차원 박막 다공질 구조체
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제11항에 있어서, 상기 박막형 셀의 표면은 D-Surface 형태의 3주기적 최소곡면을 이루는 것을 특징으로 하는 극저밀도 3차원 박막 다공질 구조체
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제11항에 있어서, 상기 박막형 셀이 점유하는 내부 공간 또는 외부공간 중 어느 하나 또는 양자 모두에에 충진되는 발포성 재료를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 극저밀도 3차원 박막 다공질 구조체
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제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 따라 제조된 극저밀도 3차원 박막 다공질 구조체
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