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경질 박막을 포함하는 극저밀도 3차원 박막 격자 구조체 제조방법으로서, (a) 제1 액상 감광성수지 벌크에 대해 면외 방향에서 점형 패턴에 따라 자외선을 조사하여 3차원 격자 형태의 면외 고상수지 격자 구조체를 형성하는 단계; (b) 면내 방향으로 배치된 제2 액상 감광성수지층에 대해 선형 패턴에 따라 자외선을 조사하는 과정을 반복하여, 상기 면외 고상수지 격자 구조체의 면내 방향에 수직한 방향으로 일정한 간격을 두고 형성되되 상기 면외 고상수지 격자 구조체와 일체를 이루는 2차원 격자 형태의 복수의 면내 고상수지 격자 구조체를 형성하는 단계; (c) 상기 면외 고상수지 격자 구조체 및 면내 고상수지 격자 구조체로 이루어진 고상수지 격자 구조체의 표면에 경질 박막을 형성하는 단계; 및 (d) 상기 경질 박막의 일부를 제거하여 내부의 상기 고상수지 격자 구조체의 일부를 노출시킨 후 제거하는 단계;를 포함하고, 상기 극저밀도 3차원 격자 구조체는 상기 (a) 및 (b) 단계를 통해 형성된 고상수지 격자 구조체를 템플릿으로 하여 중공격자형의 면외 격자 요소 및 면내 격자 요소가 일체로 형성되는 것을 특징으로 하는 극저밀도 3차원 박막 격자 구조체 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 (b)에서, (b-1) 표면이 상기 면외 고상수지 격자 구조체의 면내 방향으로 상기 제2 액상 감광성수지층를 제공하는 단계;와(b-2) 상기 제2 액상 감광성수지층의 표면에 선형 패턴에 따라 자외선을 조사하는 단계;를 포함하고,상기 (b-1) 및 (b-2)는 상기 면외 고상 수지 격자 구조체의 면내 방향에 수직한 방향으로 일정한 간격을 두고 반복적으로 수행되는 것을 특징으로 하는 극저밀도 3차원 박막 격자 구조체 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 (a)에서, 제1 액상 감광성수지 벌크의 대향되는 면 쌍에 자외선 투과성 판을 배치한 상태에서 자외선을 조사하는 것을 특징으로 하는 극저밀도 3차원 박막 격자 구조체 제조방법
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제2항에 있어서, 상기 면외 고상 수지 격자 구조체의 면내 방향에 수직한 방향에 대한 상기 제2 액상 감광성수지층의 높이 조절은 불활성 유체를 이용하는 것을 특징으로 하는 극저밀도 3차원 박막 격자 구조체 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 (d)에서, 상기 고상수지 격자 구조체의 측면이 노출되는 것을 특징으로 하는 극저밀도 3차원 박막 격자 구조체 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 (b)에서, 상기 고상수지 격자 구조체의 상하면 또는 측면에 고상수지 면재를 일체로 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 극저밀도 3차원 박막 격자 구조체 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 (d)에서, 상기 경질 박막 일부의 제거는 기계적 연마, 전해 연마 또는 화학적 에칭 중 어느 하나의 방식으로 수행되는 것을 특징으로 하는 극저밀도 3차원 박막 격자 구조체 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 (d)에서, 상기 고상수지 격자 구조체의 제거는 화학적, 물리적, 열적 또는 광학적인 방법 중 어느 하나의 방식으로 수행되는 것을 특징으로 하는 극저밀도 3차원 박막 격자 구조체 제조방법
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