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액상 감광성 수지에 대해 소정 패턴으로 자외선을 조사 경화하여 제조되는 감광성 수지 템플릿을 이용하여, 상기 감광성 수지 템플릿 제거 후 잔존하는 고체 박막으로 이루어지며 중공 단위 셀이 상호 연결되어 반복적으로 형성된 구조를 갖는 3차원 박막 구조체를 제조하는 방법에 있어서, 상기 박막은 도금으로 형성되는 금속 재질이고, 상기 감광성 수지 템플릿은 도금 전해액에 내성을 갖는 수지 재질로 이루어지진 역상 템플릿으로 대체된 후, 상기 역상 템플릿의 표면에 금속 박막이 형성되되, 상기 감광성 수지 템플릿은 티올렌이고, 상기 역상 템플릿은 폴리에틸렌인 것을 특징으로 하는 3차원 박막 구조체 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 금속은 구리인 것을 특징으로 하는 3차원 박막 구조체 제조방법
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제1에 있어서, 상기 역상 템플릿을 제조하는 단계는, 상기 감광성 수지 템플릿을 폴리에틸렌을 테트라히드로푸란 용매로 용해한 용액에 침지 후 건조하는 단계; 상기 감광성 수지 템플릿을 메탄올에 침지하는 단계; 및 상기 감광성 수지 템플릿을 수산화나트륨과 메탄올 혼합액에 침지하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 3차원 박막 구조체 제조방법
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액상 감광성 수지에 대해 소정 패턴으로 자외선을 조사 경화하여 제조되는 감광성 수지 템플릿을 이용하여, 상기 감광성 수지 템플릿 제거 후 잔존하는 중공 단위 셀이 상호 연결되어 반복적으로 형성된 구조의 3차원 박막 구조체를 제조하는 방법에 있어서, 상기 박막은 원자막적층법으로 형성되는 세라믹 재질이고, 상기 세라믹 박막을 상기 감광성 수지 템플릿에 형성하기 전후 과정에서 상기 감광성 수지 템플릿 제거 식각액에 내성을 갖는 수지 재질로 이루어진 피복층을 형성하되, 상기 감광성 수지는 티올렌이고, 상기 피복층은 폴리에틸렌인 것을 특징으로 하는 3차원 박막 구조체 제조방법
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제5항에 있어서, 상기 세라믹은 실리카인 것을 특징으로 하는 3차원 박막 구조체 제조방법
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제5항에 있어서, 상기 피복층을 형성하는 단계는, 상기 감광성 수지 템플릿에 실리카 박막을 형성하기 전후 과정에서 상기 감광성 수지 템플릿을 폴리에틸렌을 테트라히드로푸란 용매로 용해한 용액에 침지한 후 건조하는 방식으로 수행되는 것을 특징으로 하는 3차원 박막 구조체 제조방법
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제8항에 있어서, 상기 감광성 수지 템플릿 제거 후 폴리에틸렌 피복층을 제거하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 3차원 박막 구조체 제조방법
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