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피코에리트린(phycoerythrins) 함량이 증가한 돌연변이 방사무늬김 503PE(Porphyra yezoensis 503PE)
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제1항에 있어서, 상기 돌연변이 방사무늬김은, 에틸 메탄설포네이트가 처리된 방사무늬김(Porphyra yezoensis)으로부터 방출된 포자로서 얻어지는 것인, 돌연변이 방사무늬김
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제1항에 있어서, 상기 돌연변이 방사무늬김의 피코에리트린 함량은 1
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다음의 단계를 포함하는 피코에리트린(phycoerythrins) 함량이 증가한 돌연변이 방사무늬김 503PE(Porphyra yezoensis 503PE)의 제조방법:방사무늬김(Porphyra yezoensis)에 에틸 메탄설포네이트를 처리하여 배양하는 배양 단계; 및피코에리트린 함량이 높은 방사무늬김을 선별하는 선별 단계
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제4항에 있어서, 상기 배양 단계는 MGM(Modified Grund Media) 배지 조건하에서 수행되는 것인, 돌연변이 방사무늬김의 제조방법
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제5항에 있어서, 상기 MGM 배지는 C10H14O6N2Na2·2H2O(Na2EDTA), FeSO4·7H2O, Na2HPO4·12H2O, NaNO3, MnCl2·7H2O 및 시아노코발라민(Cyanocobalamin)을 포함하는 것인, 돌연변이 방사무늬김의 제조방법
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제4항에 있어서, 상기 배양 단계는 10 내지 50 umol/m2s의 광도에서 수행되는 것인, 돌연변이 방사무늬김의 제조방법
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제4항에 있어서, 상기 배양 단계는 12h:12h의 명:암 사이클로 수행되는 것인, 돌연변이 방사무늬김의 제조방법
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제4항에 있어서, 상기 배양 단계는 10 내지 25℃의 온도에서 수행되는 것인, 돌연변이 방사무늬김의 제조방법
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제4항에 있어서, 상기 돌연변이 방사무늬김의 피코에리트린 함량은 1
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제4항에 있어서, 상기 배양 단계는 다음의 단계를 포함하는 것인, 돌연변이 방사무늬김의 제조방법:에틸 메탄설포네이트를 처리한 방사무늬김을 배양하는 제1 배양 단계;제1 배양 단계에서 생존한 방사무늬김을 선별하여 배양하는 제2 배양 단계; 및제2 배양 단계에서 방사무늬김이 방출한 포자를 배양하는 제3 배양 단계
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다음 단계를 포함하는 피코에리트린의 제조방법:돌연변이 방사무늬김 503PE(Porphyra yezoensis 503PE)를 배양하는 배양 단계; 및상기 방사무늬김 503PE로부터 피코에리트린을 추출하는 추출 단계
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제12항에 있어서, 상기 배양 단계는 MGM(Modified Grund Media) 배지 조건하에서 수행되는 것인, 피코에리트린의 제조방법
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제13항에 있어서, 상기 배지는 C10H14O6N2Na2·2H2O(Na2EDTA), FeSO4·7H2O, Na2HPO4·12H2O, NaNO3, MnCl2·7H2O 및 시아노코발라민(Cyanocobalamin)을 포함하는 것인, 피코에리트린의 제조방법
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제12항에 있어서, 상기 배양 단계는 10 내지 50 umol/m2s의 광도에서 수행되는 것인, 피코에리트린의 제조방법
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제12항에 있어서, 상기 돌연변이 방사무늬김의 피코에리트린 함량은 1
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