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탄소 기판을 이용한 태양 전지 제조 방법

  • 기술번호 : KST2019026897
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 탄소 기판의 상면에서 하면으로 관통하는 복수 개의 제 1 비아홀을 형성하는 제 1 비아홀 형성 단계와, 탄소 기판의 상면과 제 1 비아홀의 내주면에 배리어막을 형성하는 배리어막 형성 단계와, 배리어막의 상면과 제 1 비아홀에 제 1 도전형 실리콘층을 형성하는 제 1 도전형 실리콘층 형성 단계와, 탄소 기판의 하면에서 상기 탄소 기판과 배리어막 및 제 1 도전형 실리콘층의 상면으로 관통하는 복수 개의 제 2 비아홀을 형성하는 제 2 비아홀 형성 단계와, 제 1 도전형 실리콘층의 상면과 제 2 비아홀에 제 2 도전형 실리콘층을 형성하는 제 2 도전형 실리콘층 형성 단계와, 상기 제 2 도전형 실리콘층의 상면에 반사 방지막을 형성하는 반사 방지막 형성 단계와, 상기 탄소 기판의 하면에서 상기 제 1 비아홀을 통하여 노출되는 제 1 도전형 실리콘층과 전기적으로 연결하는 제 1 전극을 형성하는 제 1 전극 형성 단계 및 상기 탄소 기판의 하면에서 상기 제 2 비아홀을 통하여 노출되는 제 2 도전형 실리콘층과 전기적으로 연결하는 제 2 전극을 형성하는 제 2 전극 형성 단계를 포함하는 탄소 기판을 이용한 태양 전지 제조 방법을 개시한다.
Int. CL H01L 31/18 (2006.01.01) H01L 31/0216 (2014.01.01) H01L 31/0224 (2006.01.01) H01L 31/06 (2006.01.01)
CPC H01L 31/18(2013.01) H01L 31/18(2013.01) H01L 31/18(2013.01) H01L 31/18(2013.01) H01L 31/18(2013.01) H01L 31/18(2013.01)
출원번호/일자 1020160096062 (2016.07.28)
출원인 충남대학교산학협력단
등록번호/일자 10-1755030-0000 (2017.06.30)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20170707) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2016.07.28)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 충남대학교산학협력단 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 장효식 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김호종 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로*길 **-*, *층 (역삼동, 신도빌딩)(태산특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 충남대학교산학협력단 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2016.07.28 수리 (Accepted) 1-1-2016-0735001-30
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2016.12.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2017.02.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2017-0026427-95
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2017.02.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0129561-64
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2017.04.20 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2017-0387961-51
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2017.04.20 수리 (Accepted) 1-1-2017-0387939-56
7 등록결정서
Decision to grant
2017.04.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0307197-78
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
탄소 기판의 상면에서 하면으로 관통하는 복수 개의 제 1 비아홀을 형성하는 제 1 비아홀 형성 단계;상기 탄소 기판의 상면과 상기 제 1 비아홀의 내주면에 배리어막을 형성하는 배리어막 형성 단계;상기 배리어막의 상면과 상기 제 1 비아홀에 제 1 도전형 실리콘층을 형성하는 제 1 도전형 실리콘층 형성 단계; 상기 탄소 기판의 하면에서 상기 탄소 기판과 배리어막 및 제 1 도전형 실리콘층의 상면으로 관통하는 복수 개의 제 2 비아홀을 형성하는 제 2 비아홀 형성 단계;상기 제 1 도전형 실리콘층의 상면과 제 2 비아홀에 제 2 도전형 실리콘층을 형성하는 제 2 도전형 실리콘층 형성 단계;상기 제 2 도전형 실리콘층의 상면에 반사 방지막을 형성하는 반사 방지막 형성 단계;상기 탄소 기판의 하면에서 상기 제 1 비아홀을 통하여 노출되는 제 1 도전형 실리콘층과 전기적으로 연결하는 제 1 전극을 형성하는 제 1 전극 형성 단계 및상기 탄소 기판의 하면에서 상기 제 2 비아홀을 통하여 노출되는 제 2 도전형 실리콘층과 전기적으로 연결하는 제 2 전극을 형성하는 제 2 전극 형성 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 탄소 기판을 이용한 태양 전지 제조 방법
2 2
제 1 항에 있어서,상기 제 1 비아홀과 제 2 비아홀은 직경 또는 폭이 50 ~ 200㎛의 크기로 형성되며, 상기 제 1 비아홀이 상기 제 2 비아홀보다 크게 형성되는 것을 특징으로 하는 탄소 기판을 이용한 태양 전지 제조 방법
3 3
제 1 항에 있어서,상기 제 1 비아홀은 상기 탄소 기판에서 전측에서 후측으로 소정 간격으로 이격되어 제 1 열을 이루고, 상기 제 1 열이 일측에서 타측으로 소정 간격으로 이격되어 형성되며, 상기 제 2 비아홀은 상기 탄소 기판에서 전측에서 후측으로 소정 간격으로 이격되어 제 2 열을 이루고, 상기 제 2 열이 일측에서 타측으로 소정 간격으로 이격되면서 상기 제 1 열 사이에 위치하여 형성되는 것을 특징으로 하는 탄소 기판을 이용한 태양 전지 제조 방법
4 4
제 1 항에 있어서,상기 제 1 도전형 실리콘층은 상기 제 1 비아홀의 내부를 채우면서 상기 탄소 기판의 하면까지 연장되어 상기 탄소 기판의 하면으로 노출되는 제 1 노출면을 형성하며,상기 제 1 전극은 상기 제 1 노출면과 직접 접촉하여 상기 제 1 도전형 실리콘층과 전기적으로 연결되는 것을 특징으로 하는 탄소 기판을 이용한 태양 전지 제조 방법
5 5
제 4 항에 있어서,상기 제 2 도전형 실리콘층은 상기 제 2 비아홀의 내부를 채우면서 상기 탄소 기판의 하면까지 연장되어 상기 탄소 기판의 하면으로 노출되는 제 2 노출면을 형성하며,상기 제 2 전극은 상기 제 2 노출면과 직접 접촉하여 상기 제 2 도전형 실리콘층과 전기적으로 연결되는 것을 특징으로 하는 탄소 기판을 이용한 태양 전지 제조 방법
6 6
제 1 항에 있어서,상기 제 2 도전형 실리콘층은 상기 제 1 도전형 실리콘층과 상기 제 2 비아홀에서 p-n접합을 이루도록 형성되는 것을 특징으로 하는 탄소 기판을 이용한 태양 전지 제조 방법
7 7
제 1 항에 있어서, 상기 제 2 도전형 실리콘층의 상면에 패시베이션층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 탄소 기판을 이용한 태양 전지 제조 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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1 산업통상자원부 (주)뉴파워프라즈마 전략적핵심소재기술개발사업 셀효율 15% 이상의 실리콘 코팅 Carbon fiber 전자소재 개발