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탄소 기판의 상면에서 하면으로 관통하는 복수 개의 제 1 비아홀을 형성하는 제 1 비아홀 형성 단계;상기 탄소 기판의 상면과 상기 제 1 비아홀의 내주면에 배리어막을 형성하는 배리어막 형성 단계;상기 배리어막의 상면과 상기 제 1 비아홀에 제 1 도전형 실리콘층을 형성하는 제 1 도전형 실리콘층 형성 단계; 상기 탄소 기판의 하면에서 상기 탄소 기판과 배리어막 및 제 1 도전형 실리콘층의 상면으로 관통하는 복수 개의 제 2 비아홀을 형성하는 제 2 비아홀 형성 단계;상기 제 1 도전형 실리콘층의 상면과 제 2 비아홀에 제 2 도전형 실리콘층을 형성하는 제 2 도전형 실리콘층 형성 단계;상기 제 2 도전형 실리콘층의 상면에 반사 방지막을 형성하는 반사 방지막 형성 단계;상기 탄소 기판의 하면에서 상기 제 1 비아홀을 통하여 노출되는 제 1 도전형 실리콘층과 전기적으로 연결하는 제 1 전극을 형성하는 제 1 전극 형성 단계 및상기 탄소 기판의 하면에서 상기 제 2 비아홀을 통하여 노출되는 제 2 도전형 실리콘층과 전기적으로 연결하는 제 2 전극을 형성하는 제 2 전극 형성 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 탄소 기판을 이용한 태양 전지 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 비아홀과 제 2 비아홀은 직경 또는 폭이 50 ~ 200㎛의 크기로 형성되며, 상기 제 1 비아홀이 상기 제 2 비아홀보다 크게 형성되는 것을 특징으로 하는 탄소 기판을 이용한 태양 전지 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 비아홀은 상기 탄소 기판에서 전측에서 후측으로 소정 간격으로 이격되어 제 1 열을 이루고, 상기 제 1 열이 일측에서 타측으로 소정 간격으로 이격되어 형성되며, 상기 제 2 비아홀은 상기 탄소 기판에서 전측에서 후측으로 소정 간격으로 이격되어 제 2 열을 이루고, 상기 제 2 열이 일측에서 타측으로 소정 간격으로 이격되면서 상기 제 1 열 사이에 위치하여 형성되는 것을 특징으로 하는 탄소 기판을 이용한 태양 전지 제조 방법
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4 |
4
제 1 항에 있어서,상기 제 1 도전형 실리콘층은 상기 제 1 비아홀의 내부를 채우면서 상기 탄소 기판의 하면까지 연장되어 상기 탄소 기판의 하면으로 노출되는 제 1 노출면을 형성하며,상기 제 1 전극은 상기 제 1 노출면과 직접 접촉하여 상기 제 1 도전형 실리콘층과 전기적으로 연결되는 것을 특징으로 하는 탄소 기판을 이용한 태양 전지 제조 방법
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제 4 항에 있어서,상기 제 2 도전형 실리콘층은 상기 제 2 비아홀의 내부를 채우면서 상기 탄소 기판의 하면까지 연장되어 상기 탄소 기판의 하면으로 노출되는 제 2 노출면을 형성하며,상기 제 2 전극은 상기 제 2 노출면과 직접 접촉하여 상기 제 2 도전형 실리콘층과 전기적으로 연결되는 것을 특징으로 하는 탄소 기판을 이용한 태양 전지 제조 방법
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6 |
6
제 1 항에 있어서,상기 제 2 도전형 실리콘층은 상기 제 1 도전형 실리콘층과 상기 제 2 비아홀에서 p-n접합을 이루도록 형성되는 것을 특징으로 하는 탄소 기판을 이용한 태양 전지 제조 방법
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7 |
7
제 1 항에 있어서, 상기 제 2 도전형 실리콘층의 상면에 패시베이션층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 탄소 기판을 이용한 태양 전지 제조 방법
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