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탄화수소계 고분자 용액을 양친매성 고분자를 함유한 수용액 상에 적하시켜 고분자 비드를 제조하는 단계,상기 제조된 고분자 비드에 방사선을 조사하는 단계,상기 방사선이 조사된 고분자 비드의 안정화 단계 및상기 안정화된 고분자 비드를 탄화시키는 단계를 포함하는 다공성 탄소 비드의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 양친매성 고분자는 양이온성계면활성제, 음이온성계면활성제, 양쪽성계면활성제 및 비이온성계면활성제 중에서 선택되는 어느 하나 이상인 다공성 탄소 비드의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 양친매성 고분자는 폴리에틸렌옥사이드-블록-폴리프로필렌옥사이드 블록공중합체, 폴리에틸렌옥사이드-블록-폴리스티렌 블록공중합체, 폴리에틸렌옥사이드-블록-폴리메틸메타크릴레이트 블록공중합체, 폴리아이소프렌-블록-폴리에틸렌옥사이드 블록공중합체 및 폴리아이소프렌-블록-폴리스티렌-블록-폴리에틸렌옥사이드 블록공중합체로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상의 양친매성 블록공중합체인 다공성 탄소 비드의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 탄화수소계 고분자 용액은 디메틸설폭사이드, 디메틸포름아마이드, 테트라하이드로퓨란 및 이소프로필알콜로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상의 용매에 탄화수소계 고분자를 용해시킨 것인 다공성 탄소 비드의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 탄화수소계 고분자 용액은 탄화수소계 고분자를 2 내지 20중량% 포함하는 다공성 탄소 비드의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 양친매성 고분자를 함유한 수용액은 양친매성 고분자를 0
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제1항에 있어서,상기 탄화수소계 고분자는 폴리아크릴로니트릴, 폴리스타이렌, 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌 및 폴리프로필렌으로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상의 고분자인 다공성 탄소 비드의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 방사선은 감마선, 전자선, 이온빔, 중성자빔, 자외선 및 X선으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것인 다공성 탄소 비드의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 방사선의 조사는 총 조사량이 100 내지 2,000 kGy인 다공성 탄소 비드의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 안정화 단계는 승온 속도를 분당 1 내지 10℃로 하고, 200 내지 300℃에서 열처리하는 것인 다공성 탄소 비드의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 탄화는 승온 속도를 분당 2 내지 20℃로 하고, 500 내지 2000℃에서 실시되는 것인 다공성 탄소 비드의 제조방법
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