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탄소 기판을 이용한 태양 전지 제조 방법

  • 기술번호 : KST2019027018
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 탄소 기판의 상면에서 하면으로 관통하는 복수 개의 비아홀을 형성하는 비아홀 형성 단계, 상기 탄소 기판의 상면과 상기 비아홀의 내주면에 배리어막을 형성하는 배리어막 형성 단계, 상기 배리어막의 상면에 제 1 도전형 실리콘층을 형성하는 제 1 도전형 실리콘층 형성 단계, 상기 제 1 도전형 실리콘층의 상면에 진성 실리콘층을 형성하는 진성 실리콘층 형성 단계, 상기 진성 실리콘층의 상면에 제 2 도전형 실리콘층을 형성하는 제 2 도전형 실리콘층 형성 단계, 상기 제 2 도전형 실리콘층의 상면에 반사 방지막을 형성하는 반사 방지막 형성 단계, 상기 탄소 기판의 하면에 코팅되어 형성되며 상기 비어홀을 상기 제 1 도전형 실리콘층과 직접 전기적으로 연결되는 후면 전극을 형성하는 후면 전극 형성 단계 및 상기 반사 방지막의 상면에 상기 제 2 도전형 실리콘층과 전기적으로 연결되는 전면 전극을 형성하는 전면 전극 형성 단계를 포함하는 탄소 기판을 이용한 태양 전지 제조 방법을 개시한다.
Int. CL H01L 31/18 (2006.01.01) H01L 31/0236 (2006.01.01) H01L 31/0216 (2014.01.01) H01L 31/0224 (2006.01.01) H01L 31/0376 (2006.01.01)
CPC H01L 31/18(2013.01) H01L 31/18(2013.01) H01L 31/18(2013.01) H01L 31/18(2013.01) H01L 31/18(2013.01) H01L 31/18(2013.01)
출원번호/일자 1020170103558 (2017.08.16)
출원인 충남대학교산학협력단
등록번호/일자 10-1866384-0000 (2018.06.04)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20180612) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2017.08.16)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 충남대학교산학협력단 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 장효식 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김호종 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로*길 **-*, *층 (역삼동, 신도빌딩)(태산특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 충남대학교산학협력단 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2017.08.16 수리 (Accepted) 1-1-2017-0788371-73
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2017.12.11 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2018.01.11 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2018-0010150-69
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2018.01.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0041904-25
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2018.03.19 수리 (Accepted) 1-1-2018-0270184-16
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2018.03.19 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2018-0270210-16
7 등록결정서
Decision to grant
2018.04.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0267545-71
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
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탄소 기판의 상면에서 하면으로 관통하는 복수 개의 비아홀을 형성하는 비아홀 형성 단계;상기 탄소 기판의 상면과 상기 비아홀의 내주면에 SiOx막과 SiNx막을 교대로 적층하여 배리어막을 형성하되, 상기 배리어막의 최상층에 상기 SiNx막을 배치하는 배리어막 형성 단계;상기 배리어막의 상면에 제 1 도전형 실리콘층을 형성하는 제 1 도전형 실리콘층 형성 단계;상기 제 1 도전형 실리콘층의 상면에 진성 실리콘층을 형성하는 진성 실리콘층 형성 단계;상기 진성 실리콘층의 상면에 제 2 도전형 실리콘층을 형성하는 제 2 도전형 실리콘층 형성 단계;상기 제 2 도전형 실리콘층의 상면에 반사 방지막을 형성하는 반사 방지막 형성 단계;상기 탄소 기판의 하면에 코팅되어 형성되며 상기 비아홀을 상기 제 1 도전형 실리콘층과 직접 전기적으로 연결되는 후면 전극을 형성하는 후면 전극 형성 단계; 및상기 반사 방지막의 상면에 상기 제 2 도전형 실리콘층과 전기적으로 연결되는 전면 전극을 형성하는 전면 전극 형성 단계를 포함하고,상기 배리어막 형성 단계에서, 수소 함유량이 5% 이하가 되도록 상기 SiNx막을 형성하고,상기 제 1 도전형 실리콘층, 상기 진성 실리콘층 및 상기 제 2 도전형 실리콘을 형성하는 단계에서, 수소 함유량이 10% 이하가 되도록 상기 제 1 도전형 실리콘층, 상기 진성 실리콘층 및 상기 제 2 도전형 실리콘을 형성하고,상기 제1 도전형 실리콘층 및 상기 제2 도전형 실리콘층의 도핑량에 비례하여 상기 진성 실리콘층의 두께가 증가하고,상기 진성 실리콘층 및 상기 제2 도전형 실리콘층이 팬덤 구조로 형성되어 광 흡수층으로 작용하도록 하는 것을 특징으로 하는 탄소 기판을 이용한 태양 전지 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 제 1 도전형 실리콘층과 진성 실리콘층 및 제 2 도전형 실리콘층은 각각 제 1 비정질 실리콘층과 진성 비정질 실리콘층 및 제 2 비정질 실리콘층이 결정화되어 형성되며, 상기 제 1 비정질 실리콘층과 진성 비정질 실리콘층 및 제 2 비정질 실리콘층은 상기 배리어막의 상면에 순차적으로 증착되어 동시에 결정화되는 것을 특징으로 하는 탄소 기판을 이용한 태양 전지 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 진성 실리콘층의 두께는 100nm 내지 1000nm인 것을 특징으로 하는 탄소 기판을 이용한 태양 전지 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 제 2 도전형 실리콘층 형성 단계 이후에, 상기 제 2 도전형 실리콘층의 상면에 패시베이션층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 탄소 기판을 이용한 태양 전지 제조 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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1 산업통상자원부 (주)뉴파워프라즈마 전략적핵심소재기술개발사업 셀효율 15% 이상의 실리콘 코팅 Carbon fiber 전자소재 개발