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탄소 기판의 상면에서 하면으로 관통하는 복수 개의 비아홀을 형성하는 비아홀 형성 단계;상기 탄소 기판의 상면과 상기 비아홀의 내주면에 SiOx막과 SiNx막을 교대로 적층하여 배리어막을 형성하되, 상기 배리어막의 최상층에 상기 SiNx막을 배치하는 배리어막 형성 단계;상기 배리어막의 상면에 제 1 도전형 실리콘층을 형성하는 제 1 도전형 실리콘층 형성 단계;상기 제 1 도전형 실리콘층의 상면에 진성 실리콘층을 형성하는 진성 실리콘층 형성 단계;상기 진성 실리콘층의 상면에 제 2 도전형 실리콘층을 형성하는 제 2 도전형 실리콘층 형성 단계;상기 제 2 도전형 실리콘층의 상면에 반사 방지막을 형성하는 반사 방지막 형성 단계;상기 탄소 기판의 하면에 코팅되어 형성되며 상기 비아홀을 상기 제 1 도전형 실리콘층과 직접 전기적으로 연결되는 후면 전극을 형성하는 후면 전극 형성 단계; 및상기 반사 방지막의 상면에 상기 제 2 도전형 실리콘층과 전기적으로 연결되는 전면 전극을 형성하는 전면 전극 형성 단계를 포함하고,상기 배리어막 형성 단계에서, 수소 함유량이 5% 이하가 되도록 상기 SiNx막을 형성하고,상기 제 1 도전형 실리콘층, 상기 진성 실리콘층 및 상기 제 2 도전형 실리콘을 형성하는 단계에서, 수소 함유량이 10% 이하가 되도록 상기 제 1 도전형 실리콘층, 상기 진성 실리콘층 및 상기 제 2 도전형 실리콘을 형성하고,상기 제1 도전형 실리콘층 및 상기 제2 도전형 실리콘층의 도핑량에 비례하여 상기 진성 실리콘층의 두께가 증가하고,상기 진성 실리콘층 및 상기 제2 도전형 실리콘층이 팬덤 구조로 형성되어 광 흡수층으로 작용하도록 하는 것을 특징으로 하는 탄소 기판을 이용한 태양 전지 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 제 1 도전형 실리콘층과 진성 실리콘층 및 제 2 도전형 실리콘층은 각각 제 1 비정질 실리콘층과 진성 비정질 실리콘층 및 제 2 비정질 실리콘층이 결정화되어 형성되며, 상기 제 1 비정질 실리콘층과 진성 비정질 실리콘층 및 제 2 비정질 실리콘층은 상기 배리어막의 상면에 순차적으로 증착되어 동시에 결정화되는 것을 특징으로 하는 탄소 기판을 이용한 태양 전지 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 진성 실리콘층의 두께는 100nm 내지 1000nm인 것을 특징으로 하는 탄소 기판을 이용한 태양 전지 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 제 2 도전형 실리콘층 형성 단계 이후에, 상기 제 2 도전형 실리콘층의 상면에 패시베이션층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 탄소 기판을 이용한 태양 전지 제조 방법
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