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유연 기재, 및 상기 유연 기재 표면에 형성된 패턴화된 금속 층을 포함하는 유연 플라즈모닉 구조체를 포함하는, 유연 플라즈모닉 센서로서,상기 유연 플라즈모닉 구조체는 연신(stretching) 특성을 가지며,상기 유연 기재의 신장 및 수축의 변형을 이용하여 상기 패턴화된 금속 층의 패턴 주기 및 이방성을 조절함으로써 상기 유연 플라즈모닉 센서의 광학적 성질을 가시광에서 근적외선 영역까지 확장 조절하는 것이고,상기 유연 플라즈모닉 구조체가 연신 특성을 가짐으로써 표면 증강 라만 산란 현상 및 상기 유연 플라즈모닉 구조체의 물성 변화를 측정할 수 있는 것인,유연 플라즈모닉 센서
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제 1 항에 있어서,상기 유연 기재는 고분자, 실리콘 고무, 탄성중합체 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택되는 물질을 포함하는 것인, 유연 플라즈모닉 센서
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제 1 항에 있어서,상기 금속은 금(Au), 은(Ag), 백금(Pt), 팔라듐(Pd), 구리(Cu), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 니켈(Ni), 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택되는 금속을 포함하는 것인, 유연 플라즈모닉 센서
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제 1 항에 있어서,상기 금속 층의 두께는 1 nm 내지 200 nm인, 유연 플라즈모닉 센서
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제 1 항에 있어서,상기 패턴화된 금속 층은 정육방형 배열의 패턴 형태를 가지는 것인, 유연 플라즈모닉 센서
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유연 기재, 및 상기 유연 기재 표면에 형성된 패턴화된 금속 층을 포함하는 유연 플라즈모닉 구조체를 포함하는 유연 플라즈모닉 센서의 제조 방법으로서,상기 유연 플라즈모닉 센서의 제조 방법은,상기 유연 기재에 고분자 입자 층을 형성하고,상기 고분자 입자 층에 금속을 코팅하고,상기 고분자 입자 층을 제거하여 상기 유연 기재 표면에 형성된 패턴화된 상기 금속 층을 포함하는 상기 유연 플라즈모닉 구조체를 수득하는 것을 포함하고,상기 유연 플라즈모닉 구조체는 연신 특성을 가지며,상기 유연 기재의 신장 및 수축의 변형을 이용하여 상기 패턴화된 금속 층의 패턴 주기 및 이방성을 조절함으로써 상기 유연 플라즈모닉 센서의 광학적 성질을 가시광에서 근적외선 영역까지 확장 조절하는 것이고,상기 유연 플라즈모닉 구조체는 연신 특성을 가짐으로써 표면 증강 라만 산란 현상 및 상기 유연 플라즈모닉 구조체의 물성 변화를 측정할 수 있는 것인,유연 플라즈모닉 센서의 제조 방법
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제 8 항에 있어서,상기 유연 기재는 고분자, 실리콘 고무, 탄성중합체 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택되는 물질을 포함하는 것인, 유연 플라즈모닉 센서의 제조 방법
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제 8 항에 있어서,상기 고분자 입자의 크기는 100 nm 내지 2 μm인, 유연 플라즈모닉 센서의 제조 방법
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제 8 항에 있어서,상기 금속은 금(Au), 은(Ag), 백금(Pt), 팔라듐(Pd), 구리(Cu), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 니켈(Ni), 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택되는 금속을 포함하는 것인, 유연 플라즈모닉 센서의 제조 방법
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제 8 항에 있어서,상기 금속 층의 두께는 1 nm 내지 200 nm인, 유연 플라즈모닉 센서의 제조 방법
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제 8 항에 있어서,상기 패턴화된 금속 층은 정육방형 배열의 패턴 형태를 가지는 것인, 유연 플라즈모닉 센서의 제조 방법
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