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인체 움직임이 측정 가능한 고감도 감지 센서에 있어서,지지 소재를 표면 처리하는 단계;상기 고감도 감지 센서의 감도를 극대화하기 위하여 표면 처리된 지지 소재의 표면에 금 나노 입자를 코팅하는 단계; 및금 나노 입자가 코팅된 지지 소재의 표면에 상기 고감도 감지 센서의 전도체 역할을 수행하는 전도성 필름을 코팅하여 고감도 감지 센서를 생성하는 단계를 포함하고,상기 생성하는 단계는,상기 금 나노 입자가 코팅된 지지 소재에 화학적 표면 처리하여 상기 금 나노 입자 위에 상기 전도성 필름을 코팅하는 단계를 포함하고,상기 화학적 표면 처리는 환원제를 이용한 무전극 코팅 기법이 사용되는 고감도 감지 센서 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 표면 처리하는 단계는,상기 지지 소재에 아민 그룹이 형성되도록 화학 용액에 담그거나 증기화하여 상기 지지 소재를 표면 처리하는 단계를 포함하는 고감도 감지 센서 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 코팅하는 단계는,상기 표면 처리된 지지 소재를 상기 금 나노 입자의 용액에 담그어 코팅하는 단계를 포함하는 고감도 감지 센서 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 지지 소재는 실(yarn), 띠(strip), 및 필름(film)과 같은 직물(textile) 중에서 하나인 고감도 감지 센서 제조 방법
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제5항에 있어서,상기 실은 면사, 마사, 복합사, 폴리에스터 사, 나일론 사, 실크 사, 폴리우레탄 사 중에서 하나인 고감도 감지 센서 제조 방법
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제2항에 있어서,상기 화학 용액은 3-Aminopropyltriethoxysilane, 3-Aminopropyltrimethoxysilane, 3-(2-aminoethylamino)propyl] trimethoxysilane, 3-Mercaptopropyltrimethoxy silane (SH), 3-Glycidyloxypropyltrimethoxysilane, 3-Chloropropyltriethoxysilane 중에서 하나를 포함하는 고감도 감지 센서 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 금 나노 입자의 크기는 10 nm 에서 150 nm 범위인 고감도 감지 센서 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 전도성 필름은 은(Ag), 금(Au), 백금(Pt), 팔라듐 (Pd), 알루미늄 (Al), 구리(Cu) 중에서 하나인 고감도 감지 센서 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 고감도 감지 센서의 센티미터(centimeter)당 저항의 크기는 50Ω ~ 1 MΩ의 범위인 고감도 감지 센서 제조 방법
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인체 움직임이 측정 가능한 고감도 감지 센서에 있어서,지지 소재;상기 고감도 감지 센서의 감도를 극대화하기 위하여 상기 지지 소재의 표면에 아민 그룹이 형성되도록 화학 용액에 담그거나 증기화하여 표면 처리된 지지 소재의 표면에 코팅되는 금 나노 입자; 및상기 고감도 감지 센서의 전도체 역할을 수행하기 위해 상기 금 나노 입자 위로 코팅된 지지 소재의 표면에 코팅되는 전도성 필름을 포함하고,상기 전도성 필름은 환원제를 이용한 무전극 코팅 기법으로 화학적 표면 처리되어 상기 금 나노 입자 위에 코팅되는 고감도 감지 센서
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제11항에 있어서,상기 지지 소재는 실(yarn), 띠(strip), 및 필름(film)과 같은 직물(textile) 중에서 하나인 고감도 감지 센서
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제12항에 있어서,상기 실은 면사, 마사, 복합사, 폴리에스터 사, 나일론 사, 실크 사, 폴리우레탄 사 중에서 하나인 고감도 감지 센서
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제11항에 있어서,상기 금 나노 입자의 크기는 10 nm 에서 150 nm 범위인 고감도 감지 센서
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제11항에 있어서,상기 전도성 필름은 은(Ag), 금(Au), 백금(Pt), 팔라듐 (Pd), 알루미늄 (Al), 구리(Cu) 중에서 하나인 고감도 감지 센서
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제11항에 있어서,상기 고감도 감지 센서의 센티미터(centimeter)당 저항의 크기는 50Ω ~ 1 MΩ의 범위인 고감도 감지 센서
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