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배리스터 기반의 신호 증폭이 가능한 광 검출기 및 이를 포함하는 이미지 센서

  • 기술번호 : KST2019027526
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 배리스터 기반의 신호 증폭이 가능한 광 검출기 및 이를 포함하는 이미지 센서가 개시된다. 일 실시예에 따른 광 검출기는 제1 기판, 및 상기 제1 기판의 하부에 배치되는 제2 기판을 포함하는 기판과, 상기 제1 기판 위에 적층되는 게이트 전극과, 상기 제2 기판에 형성되는 제1 전극과, 상기 제1 기판 위에 적층되고, 상기 게이트 전극과 이격되어 배치되는 제2 전극과, 상기 제1 기판, 및 상기 제2 전극 사이에 형성되고, 상기 제2 전극에서 상기 게이트 전극을 향하여 연장되는 그래핀층과, 상기 게이트 전극, 및 상기 그래핀층 사이에 형성되는 게이트 절연층을 포함한다.
Int. CL H01L 31/09 (2006.01.01) H01L 29/16 (2006.01.01) H01L 29/78 (2006.01.01)
CPC H01L 31/09(2013.01) H01L 31/09(2013.01) H01L 31/09(2013.01) H01L 31/09(2013.01) H01L 31/09(2013.01) H01L 31/09(2013.01) H01L 31/09(2013.01)
출원번호/일자 1020170133371 (2017.10.13)
출원인 건국대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1918862-0000 (2018.11.08)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20181114) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2017.10.13)
심사청구항수 20

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 건국대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 광진구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정현종 경기도 화성

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 무한 대한민국 서울특별시 강남구 언주로 ***, *층(역삼동,화물재단빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 건국대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 광진구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2017.10.13 수리 (Accepted) 1-1-2017-1010597-27
2 등록결정서
Decision to grant
2018.11.06 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0757563-08
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번호 청구항
1 1
제1 기판, 및 상기 제1 기판의 하부에 배치되는 제2 기판을 포함하는 기판;상기 제1 기판 위에 적층되는 게이트 전극;상기 제2 기판에 형성되는 제1 전극;상기 제1 기판 위에 적층되고, 상기 게이트 전극과 이격되어 배치되는 제2 전극;상기 제1 기판, 및 상기 제2 전극 사이에 형성되고, 상기 제2 전극에서 상기 게이트 전극을 향하여 연장되는 그래핀층; 및상기 게이트 전극, 및 상기 그래핀층 사이에 형성되는 게이트 절연층을 포함하는 광 검출기
2 2
제1항에 있어서,상기 제1 기판은 Si로 형성되고,상기 제2 기판은 SiO2, 및 Si 중에서 적어도 하나로 형성되는 광 검출기
3 3
제2항에 있어서,상기 제1 기판은,n- type으로 도핑되는 영역;n+ type으로 도핑되는 영역; 및진성 영역(intrinsic region)을 포함하는 광 검출기
4 4
제3항에 있어서,상기 n- type으로 도핑되는 영역은 상기 제1 기판의 상단에 형성되고,상기 n+ type으로 도핑되는 영역은 상기 제1 기판의 하단에 형성되고,상기 진성 영역은 상기 제1 기판에서 상기 n- type으로 도핑되는 영역, 및 상기 n+ type으로 도핑되는 영역을 제외한 영역에 형성되는 광 검출기
5 5
제3항에 있어서,상기 제1 전극은 상기 n+ type으로 도핑되는 영역의 양 끝단에 대응하도록 배치되는 복수의 전극들을 포함하는 광 검출기
6 6
제3항에 있어서,상기 제1 전극은 상기 n+ type으로 도핑되는 영역의 끝단에 대응하도록 배치되여 일체형으로 구현된 원형 전극인 광 검출기
7 7
제3항에 있어서,상기 제1 전극은 상기 n+ type으로 도핑되는 영역 전체에 대응하도록 배치되는 광 검출기
8 8
제1항에 있어서,상기 제2 전극은 상기 게이트 절연층, 및 상기 게이트 전극의 양 끝단에 이격되어 대응하도록 배치되는 복수의 전극들을 포함하는 광 검출기
9 9
제1항에 있어서,상기 제2 전극은 상기 게이트 절연층, 및 상기 게이트 전극의 양 끝단에 이격되어 대응하도록 배치되여 일체형으로 구현된 원형 전극인 광 검출기
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제1항에 있어서,상기 게이트 전극은 투명하고, 상기 게이트 전극의 상단에 방사방지 코팅되는 광 검출기
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복수의 컬러 픽셀들 및 IR(infrared ray) 대역의 빛을 검출하기 위해 배리스터 소자 기반의 광 검출기를 포함하는 IR 픽셀을 포함하는 픽셀 어레이를 포함하고,상기 광 검출기는,제1 기판, 및 상기 제1 기판의 하부에 배치되는 제2 기판을 포함하는 기판;상기 제1 기판 위에 적층되는 게이트 전극;상기 제2 기판에 형성되는 제1 전극;상기 제1 기판 위에 적층되고, 상기 게이트 전극과 이격되어 배치되는 제2 전극;상기 제1 기판, 및 상기 제2 전극 사이에 형성되고, 상기 제2 전극에서 상기 게이트 전극을 향하여 연장되는 그래핀층; 및상기 게이트 전극, 및 상기 그래핀층 사이에 형성되는 게이트 절연층을 포함하는 이미지 센서
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제11항에 있어서,상기 제1 기판은 Si로 형성되고,상기 제2 기판은 SiO2, 및 Si 중에서 적어도 하나로 형성되는 이미지 센서
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제12항에 있어서,상기 제1 기판은,n- type으로 도핑되는 영역;n+ type으로 도핑되는 영역; 및진성 영역(intrinsic region)을 포함하는 이미지 센서
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제13항에 있어서,상기 n- type으로 도핑되는 영역은 상기 제1 기판의 상단에 형성되고,상기 n+ type으로 도핑되는 영역은 상기 제1 기판의 하단에 형성되고,상기 진성 영역은 상기 제1 기판에서 상기 n- type으로 도핑되는 영역, 및 상기 n+ type으로 도핑되는 영역을 제외한 영역에 형성되는 이미지 센서
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제13항에 있어서,상기 제1 전극은 상기 n+ type으로 도핑되는 영역의 양 끝단에 대응하도록 배치되는 복수의 전극들을 포함하는 이미지 센서
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제13항에 있어서,상기 제1 전극은 상기 n+ type으로 도핑되는 영역의 끝단에 대응하도록 배치되여 일체형으로 구현된 원형 전극인 이미지 센서
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제13항에 있어서,상기 제1 전극은 상기 n+ type으로 도핑되는 영역 전체에 대응하도록 배치되는 이미지 센서
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제11항에 있어서,상기 제2 전극은 상기 게이트 절연층, 및 상기 게이트 전극의 양 끝단에 이격되어 대응하도록 배치되는 복수의 전극들을 포함하는 이미지 센서
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제11항에 있어서,상기 제2 전극은 상기 게이트 절연층, 및 상기 게이트 전극의 양 끝단에 이격되어 대응하도록 배치되여 일체형으로 구현된 원형 전극인 이미지 센서
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제11항에 있어서,상기 게이트 전극은 투명하고, 상기 게이트 전극의 상단에 방사방지 코팅되는 이미지 센서
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.