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광상에서 채취한 원광석을 파쇄하는 단계(제1단계);상기 파쇄된 원광석을 150 메쉬(mesh) 미만으로 분쇄하여 입도를 균질화 하는 단계(제2단계);상기 균질화된 원광석에 시약을 첨가하고 광액농도를 조절하여 교반하며, 조선부선을 통해 조선정광을 수득하는 단계(제3단계); 및 상기 조선정광을 정선부선하여 주석정광을 회수하는 단계(제4단계);를 포함하되, 상기 제3단계에서 시약의 첨가는,억제제를 첨가하여 3 내지 5분간 교반하고, 포수제를 첨가하고 1 내지 2분간 교반하며, 기포제를 첨가하여 30초간 교반하며,상기 억제제는,실리코플루오르화나트륨(sodium silicofluoride)이고, 500 내지 1500 g/t으로 첨가되는 것을 특징으로 하는 부유선별법에 의한 고품위 주석 정광 회수방법
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제1항에 있어서,상기 제2단계에서 분쇄된 원광석이,150 매쉬(mesh) 이상인 경우에는 다시 반복 분쇄하여 입도를 균질하게 하는 것을 특징으로 하는 부유선별법에 의한 고품위 주석 정광 회수방법
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제1항에 있어서,상기 원광석은,국내 광상에 부존되어 있는 주석광으로서, 석석(cassiterite; SnO2)과 맥석광물로 이루어진 것을 특징으로 하는 부유선별법에 의한 고품위 주석 정광 회수방법
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제3항에 있어서,상기 맥석광물은,석영, 백운모, 조장석, 녹니석 및 각섬석으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 또는 둘 이상의 광물을 함유하는 규산염 광물인 것을 특징으로 하는 부유선별법에 의한 고품위 주석 정광 회수방법
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제1항에 있어서,상기 제1단계의 파쇄는 조크러셔 또는 콘크러셔를 사용하여 상기 원광석을 파쇄하여 평균 입도를 감소시키는 것을 특징으로 하는 부유선별법에 의한 고품위 주석 정광 회수방법
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제1항에 있어서,상기 제2단계의 분쇄는 로드 밀을 이용하여 상기 제1단계에서 파쇄된 원광석을 평균 입도가 150(mesh) 미만이 되도록 분쇄하는 것을 특징으로 하는 부유선별법에 의한 고품위 주석 정광 회수방법
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제1항에 있어서,상기 제3단계에서 pH조절제로 황산 및 수산화나트륨을 첨가하여 조선부선 및 정선부선 과정 동안 광액의 pH를 4 내지 7로 유지하는 것을 특징으로 하는 부유선별법에 의한 고품위 주석 정광 회수방법
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제1항에 있어서,상기 광액농도는,20 내지 30 %로 조절되는 것을 특징으로 하는 부유선별법에 의한 고품위 주석 정광 회수방법
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제1항에 있어서,상기 교반은,1500 내지 1800 rpm 수행되는 것을 특징으로 하는 부유선별법에 의한 고품위 주석 정광 회수방법
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제1항에 있어서,상기 제3단계에서 교반은,상기 광액의 온도를 15 내지 75 ℃로 유지하여 수행하는 것을 특징으로 하는 부유선별법에 의한 고품위 주석 정광 회수방법
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12
삭제
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제1항에 있어서,상기 포수제는, 알킬-하이드록삼산(alky-lhydroxamic acid) 이고, 500 내지 700 g/t으로 첨가되는 것을 특징으로 하는 부유선별법에 의한 고품위 주석 정광 회수방법
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제1항에 있어서,상기 포수제로 알킬-하이드록삼산(alky-lhydroxamic acid)를 사용하는 경우에는 상기 억제제로 실리코플루오르화나트륨(sodium silicofluoride)를 사용하는 것을 특징으로 하는 부유선별법에 의한 고품위 주석 정광 회수방법
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제1항에 있어서,상기 제4단계의 정선부선은,2 내지 4회 수행되어 주석정광을 회수하는 것을 특징으로 하는 부유선별법에 의한 고품위 주석 정광 회수방법
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제1항에 있어서,상기 제3단계에서 조선정광을 수득하고, 침전되는 산물을 회수하고, 상기 제4단계에서 주석정광을 수득하고, 침전되는 산물을 회수하여 처리하는 것을 특징으로 하는 부유선별법에 의한 고품위 주석 정광 회수방법
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