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2차원 스캐닝을 하는 이송 스테이지;상기 이송 스테이지에 장착된 반사 광학 부품;상기 반사 광학 부품에 레이저 클리닝 빔을 조사하는 레이저 광원; 및그 중심에 중심 개구부 및 상기 레이저 클리닝 빔이 진행하는 레이저 빔 접근 개구부를 구비하고 상기 반사 광학 부품에서 반사된 레이저 클리닝 빔에 의하여 조사되는 이온 추출 전극 격판를 포함하고,상기 레이저 클리닝 빔은 오염된 이온 추출 전극 격판에 형성된 레이저 빔 접근 개구부를 통과하여 상기 반사 광학 부품에 제공되고, 상기 반사된 레이저 클리닝 빔은 상기 이온 추출 전극 격판를 조사하여 세정하고,상기 반사 광학부품을 2차원 스캐닝을 하는 XY 평면에서 이동시키면서 상기 이온 추출 전극 격판를 세정하는 것을 특징으로 하는 레이저 세정 질량 분석 장치
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제1 항에 있어서,상기 반사 광학 부품은 볼록 거울, 오목 거울, 또는 프레넬 렌즈인 것을 특징으로 하는 레이저 세정 질량 분석 장치
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제1 항에 있어서,상기 반사 광학 부품은 샘플 홀더에 배치되고,상기 반사 광학 부품은 상기 이송 스테이지에 의하여 공간적으로 스캐닝되는 것을 특징으로 하는 레이저 세정 질량 분석 장치
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제1 항에 있어서,상기 레이저 광원은 시료 이온화용 펄스 레이저인 것을 특징으로 하는 레이저 세정 질량 분석 장치
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제1 항에 있어서,상기 레이저 광원과 반사 광학 부품 사이에 배치되어 상기 레이저 클리닝 빔의 크기와 집속도를 조절하는 빔 확대기 및 집속 렌즈를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 세정 질량 분석 장치
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반사 광학 부품을 이송하는 2차원 이송 스테이지, 상기 반사 광학 부품에 레이저 클리닝 빔을 조사하는 레이저 광원, 및 반사된 레이저 클리닝 빔이 조사되는 이온 추출 전극 격판를 포함하는 질량 분석 장치의 세정 방법에 있어서,상기 반사 광학부품이 XY 평면에서 이동할 수 있는 최대 이동 범위 및 이동을 위한 기본 간격을 설정하여 2차원 이송 격자 행렬을 산출하고, 상기 2차 이송 격자 행렬에 대응하여 상기 이온 추출 전극 격판 위치에서 상기 반사 광학부품에 의하여 반사된 레이저 클리닝 빔을 나타내는 레이저 스폿 다이어그램을 추출하는 단계;상기 레이저 스폿 다이어그램에서 세정이 요구되지 않는 비세정 영역에 대응하는 영역을 상기 2차원 격자 행렬에서 제거하여 유효 2차원 격자 행렬을 산출하는 단계; 및상기 유효 2차원 격자 행렬에 따라 상기 반사 광학부품이 XY 평면에서 이동하면서 상기 이온 추출 전극 격판를 세정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 질량 분석 장치의 세정 방법
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제6 항에 있어서,상기 유효 2차원 격자 행렬은 상기 레이저 스폿 다이어그램에서 균일한 레이저 빔 조사 밀도 분포를 가지도록 상기 이온 추출 전극 격판의 중심부에서 기본 간격을 넓게 하고 상기 이온 추출 전극 격판의 주변부에서 기본 간격을 좁게 하는 것을 특징으로 하는 질량 분석 장치의 세정 방법
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제6 항에 있어서,상기 유효 2차원 격자 행렬은 상기 레이저 스폿 다이어그램에서 균일한 레이저 빔 조사 밀도 분포를 가지도록 상기 이온 추출 전극 격판의 중심부에서 짧은 픽셀 체류 시간을 가지고, 상기 이온 추출 전극 격판의 주변부에서 긴 픽셀 체류 시간을 가지는 것을 특징으로 하는 질량 분석 장치의 세정 방법
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제6 항에 있어서,상기 기본 간격은 상기 레이저 스폿 다이어그램 상에서 이웃한 스폿 사이의 최대 거리가 상기 레이저 빔의 강도 분포의 반치폭보다 작은 것을 특징으로 하는 질량 분석 장치의 세정 방법
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