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플라즈마 발생 장치

  • 기술번호 : KST2019028069
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 발생 장치는 플라즈마 발생부를 포함한다. 상기 플라즈마 발생부는, 구형 또는 타원체형의 케비티를 구비한다. 상기 플라즈마 발생부는 상기 케비티에 RF 전력을 공급받아 전자가 되튐공진하여 플라즈마를 생성한다. 상기 케비티는 외부 공간과 서로 연통되도록 플라즈마 추출 홀을 포함한다.
Int. CL H01J 37/32 (2006.01.01) H05H 1/46 (2006.01.01)
CPC H01J 37/32082(2013.01) H01J 37/32082(2013.01) H01J 37/32082(2013.01) H01J 37/32082(2013.01) H01J 37/32082(2013.01) H01J 37/32082(2013.01) H01J 37/32082(2013.01)
출원번호/일자 1020170000559 (2017.01.03)
출원인 한국표준과학연구원
등록번호/일자 10-1850895-0000 (2018.04.16)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20180420) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2017.01.03)
심사청구항수 19

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대한민국 대전 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이효창 대한민국 대전광역시 유성구
2 김정형 대한민국 대전광역시 유성구
3 성대진 대한민국 충청남도 공주시

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 누리 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 **길 **-*(역삼동, IT빌딩 *층)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대전 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2017.01.03 수리 (Accepted) 1-1-2017-0005796-65
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2017.10.13 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2017.12.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2017-0180442-48
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2017.12.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0872140-84
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2018.01.15 수리 (Accepted) 1-1-2018-0043787-79
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2018.01.15 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2018-0043786-23
7 등록결정서
Decision to grant		 2018.04.05 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0239585-96
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266645-00
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266627-88
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266640-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
플라즈마 발생부를 포함하는 플라즈마 발생 장치에 있어서,상기 플라즈마 발생부는, 구형 또는 타원체형의 케비티를 구비하고,상기 플라즈마 발생부는 상기 케비티에 RF 전력을 공급받아 전자가 되튐공진하여 플라즈마를 생성하고, 상기 케비티는 외부 공간과 서로 연통되도록 플라즈마 추출 홀을 포함하고,전자 에너지와 케비티의 지름에 의하여 주어진 되튐 공진 주파수에 대응하는 구동 주파수의 상기 RF 전력을 상기 플라즈마 발생부에 제공하는 RF 전원을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
2 2
제1 항에 있어서, 기생 플라즈마가 형성되지 못하도록 상기 플라즈마 발생부를 감싸도록 배치되고 상기 플라즈마 추출 홀에 정렬된 보조 홀을 구비하고 절연체로 형성된 기생 방전 방지부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
3 3
플라즈마 발생부를 포함하는 플라즈마 발생 장치에 있어서,상기 플라즈마 발생부는, 구형 또는 타원체형의 케비티를 구비하고,상기 플라즈마 발생부는 상기 케비티에 RF 전력을 공급받아 전자가 되튐공진하여 플라즈마를 생성하고, 상기 케비티는 외부 공간과 서로 연통되도록 플라즈마 추출 홀을 포함하고,전자의 온도와 케비티의 지름에 의하여 주어진 되튐 공진 주파수에 대응하는 구동 주파수의 상기 RF 전력을 상기 플라즈마 발생부에 제공하는 RF 전원을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
4 4
삭제
5 5
제1 항에 있어서, 상기 RF 전원은 가변 주파수 전원 또는 복수의 구동 주파수를 구비한 전원인 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
6 6
플라즈마 발생부를 포함하는 플라즈마 발생 장치에 있어서,상기 플라즈마 발생부는, 구형 또는 타원체형의 케비티를 구비하고,상기 플라즈마 발생부는 상기 케비티에 RF 전력을 공급받아 전자가 되튐공진하여 플라즈마를 생성하고, 상기 케비티는 외부 공간과 서로 연통되도록 플라즈마 추출 홀을 포함하고,기생 플라즈마가 형성되지 못하도록 상기 플라즈마 발생부를 감싸도록 배치되고 상기 플라즈마 추출 홀에 정렬된 보조 홀을 구비하고 절연체로 형성된 기생 방전 방지부를 더 포함하고,상기 플라즈마 발생부는 상기 플라즈마 추출홀을 구비한 좌측 반구 케비티를 구비한 좌측 플라즈마 발생부와 상기 좌측 반구 케비티와 정렬된 우측 반구 케비티를 구비한 우측 플라즈마 발생부를 포함하고, 상기 기생 방전 방지부는 원통 형상이고,상기 기생 방전 방지부의 일단은 그 중심에 보조 홀을 구비하고, 상기 기생 방전 방지부의 타단은 개방되고, 일단이 상기 플라즈마 발생부의 타단에 접촉하는 원기둥 형상의 보조 절연부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
7 7
제1 항에 있어서, 상기 플라즈마 발생부는 진공 챔버 내에 배치되고, 복수의 구형 또는 타원체형의 케비티들을 구비하고, 상기 케비티들 각각과 진공 챔버의 내부 공간을 서로 연통되도록 형성된 플라즈마 추출 홀들을 포함하고, 상기 RF 전력을 공급받아 상기 케비티들 내부에 플라즈마를 생성시키는 플라즈마 발생장치
8 8
제7 항에 있어서, 상기 플라즈마 발생부는:상기 케비티들에서 상기 플라즈마 추출 홀들이 마주보는 위치에 각각 형성된 가스 공급홀들; 및 상기 가스 공급홀들에 연통되는 가스 분배 공간을 구비한 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
9 9
제7 항에 있어서, 상기 플라즈마 추출 홀들은 방위각 방향 및 중심축 방향으로 이격되어 주기적으로 배열되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
10 10
제7 항에 있어서, 상기 진공 챔버의 개방된 일단에 연결된 원통형태의 공정 챔버; 상기 공정 챔버 내에서 상기 플라즈마 발생부가 생성한 활성종을 공급받는 기판 홀더; 및 상기 기판 홀더 상에 배치되어 상기 활성종을 제공받는 기판을 더 포함하고,상기 기판 홀더는 디스크 형상인 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
11 11
구형 또는 타원체형의 케비티를 구비하고 상기 케비티와 외부 공간을 서로 연통되도록 형성된 플라즈마 추출 홀을 포함하고, RF 전력을 공급받아 상기 케비티 내부에 플라즈마를 발생시키고, 도전성 물질로 형성된 플라즈마 발생부;기생 플라즈마가 형성되지 못하도록 상기 플라즈마 발생부를 감싸도록 배치되고 상기 플라즈마 추출 홀에 정렬된 보조 홀을 구비하고 절연체로 형성된 기생 방전 방지부; 및상기 케비티 내부의 전자의 온도와 케비티의 지름에 의하여 주어진 되튐 공진 주파수에 대응하는 구동 주파수의 RF 전력을 상기 플라즈마 발생부에 제공하는 RF 전원을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
12 12
제11 항에 있어서,상기 RF 전원은 가변 주파수 전원인 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
13 13
제11 항에 있어서,상기 플라즈마 발생부는 일단에 상기 플라즈마 추출 홀을 구비한 원기둥 형상이고, 상기 플라즈마 발생부는 상기 플라즈마 추출홀을 구비한 좌측 반구 케비티를 구비한 좌측 플라즈마 발생부와 상기 좌측 반구 케비티와 정렬된 우측 반구 케비티를 구비한 우측 플라즈마 발생부를 포함하고,상기 기생 방전 방지부는 원통 형상이고, 상기 기생 방전 방지부의 일단은 그 중심에 보조 홀을 구비하고, 상기 기생 방전 방지부의 타단은 개방되고, 일단이 상기 플라즈마 발생부의 타단에 접촉하는 원기둥 형상의 보조 절연부; 상기 보조 절연부의 중심을 관통하여 배치되고 상기 플라즈마 발생부의 타단과 전기적으로 접촉하는 전력 공급 봉; 일단은 상기 보조 절연부의 타단 결합하고, 도전성 재질로 형성되고 상기 보조 절연부의 연장 방향으로 연장되는 원통 형상의 가이드 파이프;상기 가이드 파이프의 내부에 배치되고 상기 전력 공급 봉에 전력을 공급하는 동축 케이블;상기 가이드 파이프의 타단에 삽입되어 상기 가이드 파이프의 타단을 감싸도록 배치되고 진공 챔버에 포트에 결합하는 플랜지; 및상기 가이드 파이프의 타단에 결합하고 상기 동축 케이블에 전력을 공급하는 전기 커넥터를 구비한 전력 케이블 연결부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
14 14
제11 항에 있어서,상기 플라즈마 발생부는:상기 플라즈마 추출홀과 상부 반구 케비티를 구비한 상부 플라즈마 발생부; 및 상기 플라즈마 추출홀과 마주보는 면에 형성된 가스 공급홀을 구비하고 상기 상부 반구 케비티와 정렬된 하부 반구 케비티를 구비한 하부 플라즈마 발생부를 포함하고,상기 기생 방전 방지부는 보조 홀을 구비하고 상기 플라즈마 발생부를 완전히 감싸도록 형성되고,상기 기생 방전 방지부 및 상기 플라즈마 발생부는 진공 챔버 내부에 배치되고,상기 진공 챔버에 설치된 진공 포트를 통하여 가스는 상기 가스 공급홀에 공급되고,상기 진공 챔버에 설치된 진공 포트를 통하여 하고, 상기 하부 플라즈마 발생부는 RF 전력을 공급받는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
15 15
진공 챔버;상기 진공 챔버 내에 배치되고, 복수의 구형 또는 타원체형의 케비티들을 구비하고 상기 케비티들 각각과 진공 챔버의 내부 공간을 서로 연통되도록 형성된 플라즈마 추출 홀들을 포함하고, RF 전력을 공급받아 상기 케비티들 내부에 플라즈마를 발생시키고, 도전성 물질로 형성된 플라즈마 발생부;기생 플라즈마가 형성되지 못하도록 상기 플라즈마 발생부를 감싸도록 배치되고 상기 플라즈마 추출 홀들에 각각 정렬된 보조 홀들을 구비하고 절연체로 형성된 기생 방전 방지부; 및상기 케비티 내부의 전자의 온도와 케비티의 지름에 의하여 주어진 되튐 공진 주파수에 대응하는 구동 주파수의 RF 전력을 상기 플라즈마 발생부에 제공하는 RF 전원을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치
16 16
제15 항에 있어서,상기 플라즈마 발생부는:상기 케비티들에서 상기 플라즈마 추출 홀들이 마주보는 위치에 각각 형성된 가스 공급홀들; 및상기 가스 공급홀들에 연통되는 가스 분배 공간을 구비한 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치
17 17
제16 항에 있어서,상기 진공 챔버는 원통 형상이고,상기 플라즈마 발생부는 원판 형태이고, 상기 진공 챔버의 내부 상부에 배치되고,상기 진공 챔버 내에서 상기 플라즈마 발생부의 플라즈마 추출홀들을 마주보는 기판 홀더; 및상기 기판 홀더 상에 배치되어 상기 플라즈마 추출홀들에 의하여 추출된 플라즈마를 제공받는 기판을 더 포함하고,상기 기판 홀더는 디스크 형상인 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치
18 18
제16 항에 있어서,상기 진공 챔버는 사각통 형상이고,상기 플라즈마 발생부는 사각판 형태이고, 상기 진공 챔버의 내부 상부에 배치되고,상기 진공 챔버 내에서 상기 플라즈마 발생부의 플라즈마 추출홀들을 마주보는 기판 홀더; 및상기 기판 홀더 상에 배치되어 상기 플라즈마 추출홀들에 의하여 추출된 플라즈마를 제공받는 기판을 더 포함하고,상기 기판 홀더는 사각 기둥 형상인 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치
19 19
제16 항에 있어서,상기 진공 챔버는 원통 형상이고,상기 플라즈마 발생부는 원통 형태이고, 상기 진공 챔버의 내측면에 배치되고,상기 가스 분배 공간은 상기 플라즈마 발생부 내에 매몰된 원통 형상이고,상기 플라즈마 발생부의 상기 플라즈마 추출홀들은 상기 플라즈마 발생부의 중심축을 바라보도록 배열되고,상기 플라즈마 추출홀들은 방위각 방향 및 중심축 방향으로 이격되어 주기적으로 배열되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치
20 20
제19 항에 있어서,상기 진공 챔버의 개방된 일단에 연결된 원통형태의 공정 챔버;상기 공정 챔버 내에서 상기 플라즈마 발생부가 생성한 활성종을 공급받는 기판 홀더; 및상기 기판 홀더 상에 배치되어 상기 활성종을 제공받는 기판을 더 포함하고,상기 기판 홀더는 디스크 형상인 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치
지정국 정보가 없습니다
순번, 패밀리번호, 국가코드, 국가명, 종류의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 패밀리정보 - 패밀리정보 표입니다.
순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 CN110050324 CN 중국 FAMILY
2 US20190355558 US 미국 FAMILY
3 WO2018128339 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

순번, 패밀리번호, 국가코드, 국가명, 종류의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 패밀리정보 - DOCDB 패밀리 정보 표입니다.
순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 CN110050324 CN 중국 DOCDBFAMILY
2 US2019355558 US 미국 DOCDBFAMILY
3 WO2018128339 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.