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광을 제1 방향을 향해 조사하는 간섭계; 상기 간섭계로부터 상기 제1 방향으로 이격된 반사경; 상기 반사경과 상기 간섭계 사이에 위치되고, 상기 반사경의 정점 영역에 상기 간섭계에서 조사된 광의 초점 영역을 형성하는 홀로그램 부재; 상기 홀로그램 부재로부터 상기 제1 방향으로 이격된 광 섬유; 상기 광의 초점 영역 상에 상기 광 섬유의 일단을 위치시키는 광 섬유 이동 유닛; 및상기 광 섬유의 일단의 위치를 측정하는 위치 측정 유닛을 포함하는 반사경 측정 시스템
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제1항에 있어서,상기 광 섬유 이동 유닛은 상기 광 섬유의 일단에서 반사된 광에 의해 상기 간섭계가 간섭 무늬를 감지할 때까지, 상기 광 섬유의 일단의 위치를 변경시키는 반사경 측정 시스템
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제1항에 있어서, 상기 광 섬유와 연결되고, 상기 광 섬유의 일단에 입사된 광량을 측정하는 광 센서 유닛을 더 포함하고, 상기 광 섬유 이동 유닛은 측정한 상기 광량의 세기가 최대인 지점에 상기 광 섬유의 일단을 위치시키는 반사경 측정 시스템
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제1항에 있어서, 상기 홀로그램 부재는:메인 영역; 및상기 메인 영역의 둘레를 따라 이격되는 복수의 투과 영역들을 포함하고, 상기 투과 영역들 중 적어도 일부는, 상기 반사경의 정점 영역에 상기 광의 초점 영역을 형성하는 홀로그램 패턴을 갖는 반사경 측정 시스템
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제1항에 있어서, 상기 광 섬유의 일단은 곡면으로 제공되는 반사경 측정 시스템
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제1항에 있어서, 상기 반사경은, 상기 홀로그램 부재와 마주보고, 상기 제1 방향으로 오목한 반사면; 및상기 반사면의 중심 영역을 관통하는 개구부를 포함하고, 상기 반사경의 정점 영역은 상기 반사면의 중심 영역에 위치하는 반사경 측정 시스템
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간섭계, 홀로그램 부재, 광 섬유 및 반사경을 제1 방향으로 정렬하고;정렬된 상기 간섭계가 상기 홀로그램 부재를 향해 광을 조사하고;상기 홀로그램 부재를 투과한 광의 초점 영역에 상기 광 섬유의 일단을 위치시키고, 상기 광의 초점 영역은 상기 반사경의 정점 영역에 위치되고; 및상기 광의 초점 영역에 위치된 상기 광 섬유의 일단의 위치를 측정하는 것을 포함하는 반사경 측정 방법
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제7항에 있어서, 상기 반사경의 일측에 설치된 기준 표식 부재의 위치를 측정하는 것; 및상기 광 섬유의 일단의 위치 정보와 상기 기준 표식 부재의 위치 정보를 이용하여, 상기 광 섬유의 일단과 상기 기준 표식 부재 간의 상대 좌표 값을 산출하는 것을 더 포함하는 반사경 측정 방법
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