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탄소 섬유 직물/탄소 나노 튜브 전극의 제조 방법

  • 기술번호 : KST2019028341
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본원발명에 의하면, 전극의 제조 방법에 있어서, 전자빔 증발기(E-beam Evaporator)에서 이산화규소(SiO2) 희생층(Sacrificial Layer) 위에 금속 촉매(Metallic Catalyst)를 증착한 후 CVD(Chemical Vapor Deposition) 장비에서 상기 금속 촉매 위에 탄소나노튜브(CNT: Carbon Nanotube)를 성장시키는 성장 과정; 수조 내의 증류수(Di-Water) 상에서 불화수소(HF)를 이용하여 상기 이산화규소(SiO2) 희생층을 제거하는 제거 과정; 상기 수조 내의 상기 증류수의 표면 상에 상기 탄소나노튜브(CNT)가 분자간의 거리를 유지하면서 뜬 상태에서, 상기 증류수의 표면 아래로 탄소섬유직물(Carbon Fiber Woven Fabric)이 얹혀진 이산화규소(SiO2) 임시층(Temporary Layer)을 담금하는 담금 과정; 상기 수조 내의 상기 증류수 상에서 상기 탄소섬유직물 위에 상기 탄소나노튜브(CNT)를 적층(Laminating)한 후 상기 이산화규소(SiO2) 임시층을 상기 증류수 밖으로 꺼내는 전사(Transfer) 과정; 및 상기 탄소섬유직물을 진공 오븐(Vacuum Furnace)에서 기 설정된 온도 및 시간만큼 건조시킨 후 진공 열처리(Vacuum Annealing)하여 상기 탄소섬유직물과 상기 탄소나노튜브(CNT)가 구조를 유지하도록 하는 접합 상태로 만드는 접합 과정을 포함하는 것을 특징으로 하는 탄소섬유직물/탄소나노튜브 전극의 제조 방법을 제공할 수 있다.
Int. CL H01M 4/1393 (2010.01.01) H01M 4/04 (2006.01.01) H01M 4/587 (2010.01.01) H01M 4/133 (2010.01.01) H01G 11/22 (2013.01.01) D01F 9/12 (2006.01.01)
CPC H01M 4/1393(2013.01) H01M 4/1393(2013.01) H01M 4/1393(2013.01) H01M 4/1393(2013.01) H01M 4/1393(2013.01) H01M 4/1393(2013.01) H01M 4/1393(2013.01) H01M 4/1393(2013.01) H01M 4/1393(2013.01) H01M 4/1393(2013.01)
출원번호/일자 1020150188941 (2015.12.29)
출원인 국방과학연구소
등록번호/일자 10-1703516-0000 (2017.02.01)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20170207) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2015.12.29)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 국방과학연구소 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이정민 대한민국 대전광역시 유성구
2 안준모 대한민국 경기도 성남시 분당구
3 김천곤 대한민국 대전광역시 유성구
4 박미영 대한민국 서울특별시 관악구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박장원 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, *층~*층 (논현동, 비너스빌딩)(박장원특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 국방과학연구소 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2015.12.29 수리 (Accepted) 1-1-2015-1284571-75
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2016.10.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0780768-10
3 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2016.11.30 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-1176834-67
4 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2016.11.30 수리 (Accepted) 1-1-2016-1176821-74
5 등록결정서
Decision to grant		 2017.01.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0030197-59
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번호 청구항
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전극의 제조 방법에 있어서,전자빔 증발기(E-beam Evaporator)에서 이산화규소(SiO2) 희생층(Sacrificial Layer) 위에 금속 촉매(Metallic Catalyst)를 증착한 후 CVD(Chemical Vapor Deposition) 장비에서 상기 금속 촉매 위에 탄소나노튜브(CNT: Carbon Nanotube)를 성장시키는 성장 과정;수조 내의 증류수(Di-Water) 상에서 불화수소(HF)를 이용하여 상기 이산화규소(SiO2) 희생층을 제거하는 제거 과정;상기 수조 내의 상기 증류수의 표면 상에 상기 탄소나노튜브(CNT)가 분자간의 거리를 유지하면서 뜬 상태에서, 상기 증류수의 표면 아래로 탄소섬유직물(Carbon Fiber Woven Fabric)이 얹혀진 이산화규소(SiO2) 임시층(Temporary Layer)을 담금하는 담금 과정;상기 수조 내의 상기 증류수 상에서 상기 탄소섬유직물 위에 상기 탄소나노튜브(CNT)를 적층(Laminating)한 후 상기 이산화규소(SiO2) 임시층을 상기 증류수 밖으로 꺼내는 전사(Transfer) 과정; 및상기 탄소섬유직물을 진공 오븐(Vacuum Furnace)에서 기 설정된 온도 및 시간만큼 건조시킨 후 진공 열처리(Vacuum Annealing)하여 상기 탄소섬유직물과 상기 탄소나노튜브(CNT)가 구조를 유지하도록 하는 접합 상태로 만드는 접합 과정을 포함하고,상기 전사 과정에서 상기 이산화규소(SiO2) 임시층 위에 적층되어 있는 상기 탄소섬유직물은 니켈(Ni) 원자를 박막(Thin-Film) 형태로 300 nm ~ 600 nm 두께를 갖도록 증착하여 열처리한 상태이며,상기 접합 과정은 상기 탄소섬유직물을 상기 진공 오븐에서 80 ℃로 1시간 이내로 건조 시킨 후 1000 ℃ 이내에서 10 ~ 15 분 동안 강화 어닐링을 수행하는 것을 특징으로 하는 탄소섬유직물/탄소나노튜브 전극의 제조 방법
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전극의 제조 방법에 있어서,전자빔 증발기(E-beam Evaporator)에서 이산화규소(SiO2) 희생층(Sacrificial Layer) 위에 금속 촉매(Metallic Catalyst)를 증착한 후 CVD(Chemical Vapor Deposition) 장비에서 상기 금속 촉매 위에 탄소나노튜브(CNT: Carbon Nanotube)를 성장시키는 성장 과정;수조 내의 증류수(Di-Water) 상에서 불화수소(HF)를 이용하여 상기 이산화규소(SiO2) 희생층을 제거하는 제거 과정;상기 수조 내의 상기 증류수의 표면 상에 상기 탄소나노튜브(CNT)가 분자간의 거리를 유지하면서 뜬 상태에서, 상기 증류수의 표면 아래로 탄소섬유직물(Carbon Fiber Woven Fabric)이 얹혀진 이산화규소(SiO2) 임시층(Temporary Layer)을 담금하는 담금 과정;상기 수조 내의 상기 증류수 상에서 상기 탄소섬유직물 위에 상기 탄소나노튜브(CNT)를 적층(Laminating)한 후 상기 이산화규소(SiO2) 임시층을 상기 증류수 밖으로 꺼내는 전사(Transfer) 과정; 및상기 탄소섬유직물을 진공 오븐(Vacuum Furnace)에서 기 설정된 온도 및 시간만큼 건조시킨 후 진공 열처리(Vacuum Annealing)하여 상기 탄소섬유직물과 상기 탄소나노튜브(CNT)가 구조를 유지하도록 하는 접합 상태로 만드는 접합 과정을 포함하고,상기 전사 과정에서 상기 이산화규소(SiO2) 임시층 위에 적층되어 있는 상기 탄소섬유직물은 니켈(Ni) 원자를 박막(thin-film) 형태로 300 nm ~ 600 nm 두께를 갖도록 증착하여 열처리한 후 그래핀(Graphene)을 기상 증착하여 상기 그래핀을 다층(Multi-layer)으로 성장시키며,상기 접합 과정은 상기 탄소섬유직물을 상기 진공 오븐에서 80 ℃로 1시간 이내로 건조 시킨 후 1000 ℃ 이내에서 10 ~ 15 분 동안 강화 어닐링을 수행하는 것을 특징으로 하는 탄소섬유직물/탄소나노튜브 전극의 제조 방법
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삭제
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제1항 또는 제2항에 있어서,상기 전사 과정에서,상기 이산화규소(SiO2) 임시층에 적층되어 있는 상기 탄소섬유직물은 14mm ~ 20mm의 직경을 갖는 것을 특징으로 하는 탄소섬유직물/탄소나노튜브 전극의 제조 방법
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제1항 또는 제2항에 있어서,상기 전사 과정에서,상기 이산화규소(SiO2) 임시층은 상기 증류수 밖으로 꺼내진 후 상기 탄소섬유직물로부터 제거되는 것을 특징으로 하는 탄소섬유직물/탄소나노튜브 전극의 제조 방법
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제1항 또는 제2항에 있어서,상기 금속 촉매는,철 촉매(Fe-Catalyst) 및 니켈 촉매층(Ni-Seed Layer) 중 적어도 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 탄소섬유직물/탄소나노튜브 전극의 제조 방법
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제1항 또는 제2항에 있어서,상기 성장 과정은,상기 CVD 장비에서 상기 탄소섬유직물 위에 균일한 모폴로지를 갖는 상기 탄소나노튜브(CNT)의 성장시키기 위해 500 nm 두께로 절연막이 증착되어 있는 상기 이산화규소(SiO2) 희생층 위에 플라즈마를 추가적인 에너지원으로 이용하는 화학 기상 증착법인 PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) 공정을 이용하여 상기 탄소나노튜브(CNT)를 성장시키는 것을 특징으로 하는 탄소섬유직물/탄소나노튜브 전극의 제조 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.