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서로 대향하는 제1 표면 및 제2 표면을 갖는 샘플 시편; 및상기 샘플 시편의 유전율을 측정하는 유전율 측정 장치;를 포함하고,상기 유전율 측정 장치는,상기 샘플 시편을 사이에 두고 서로 마주보게 배치되어 전자파를 송수신하는 제1 전자파 안테나 및 제2 전자파 안테나; 및상기 제1 표면 및 제2 표면에서 상기 전자파로 인해 발생하는 파브리-페로 공진 주파수(Fabry-Perot resonance frequency)를 이용하여 유전율을 연산하는 제어유닛을 포함하는 파브리-페로 공진을 이용한 유전율 측정 시스템
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제1항에 있어서,상기 제1 표면 및 제2 표면은,전자파의 일부는 투과되고 나머지는 반사되면서 상기 샘플 시편에서 파브리-페로 공진이 일어날 수 있도록, 기설정된 값 이상의 조도를 가지는 것을 특징으로 하는 파브리-페로 공진을 이용한 유전율 측정 시스템
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제2항에 있어서,상기 제1 표면 및 제2 표면은 서로 평행한 것을 특징으로 하는 파브리-페로 공진을 이용한 유전율 측정 시스템
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제3항에 있어서,상기 샘플 시편은 상기 제1 전자파 안테나와 제2 전자파 안테나를 연결하는 축과 상기 제1 표면 및 제2 표면이 직교하도록 배치되는 것을 특징으로 하는 파브리-페로 공진을 이용한 유전율 측정 시스템
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제1항에 있어서,상기 유전율 측정 장치는 전자파를 가두어 넣고 전송할 수 있도록 중공 형상으로 형성된 도파관을 더 포함하고,상기 샘플 시편은 상기 도파관의 중공 내에 구비되는 것을 특징으로 하는 파브리-페로 공진을 이용한 유전율 측정 시스템
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제1항에 있어서,상기 제어유닛은 이하의 수학식을 이용하여 재료의 유전율()을 연산하고,여기서, m은 공진 차수로서 자연수이고, c는 빛의 속도이고, d는 상기 전자파가 상기 제1 표면과 제2 표면의 사이를 투과할 때 지나는 길이이고, 는 파브리-페로 공진 주파수인 것을 특징으로 하는 파브리-페로 공진을 이용한 유전율 측정 시스템
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제1항에 있어서,상기 유전율 측정 장치는,상기 제1 전자파 안테나 및 제2 전자파 안테나의 사이에 구비되고, 상기 샘플 시편을 가열하도록 이루어지는 열원을 구비하는 가열부;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 파브리-페로 공진을 이용한 유전율 측정 시스템
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제7항에 있어서,상기 가열부는 상기 샘플 시편의 전체를 고르게 가열시키도록 상기 샘플 시편을 내부에 수용하는 수용함을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 파브리-페로 공진을 이용한 유전율 측정 시스템
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서로 마주보면서 전자파를 송수신할 수 있도록 제1 전자파 안테나 및 제2 전자파 안테나를 서로 이격하여 배치시키는 단계;상기 제1 전자파 안테나 및 제2 전자파 안테나의 사이에, 서로 대향하는 제1 표면 및 제2 표면을 갖는 샘플 시편을 배치하는 단계;상기 제1 전자파 안테나 및 제2 전자파 안테나가 전자파를 송수신하는 단계;상기 샘플 시편에서 발생되는 파브리-페로 공진 주파수를 이용하여 상기 샘플 시편의 유전율을 연산하는 단계;를 포함하는 파브리-페로 공진을 이용하여 유전율을 측정하는 방법
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