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피시험체가 설치되는 공간을 구비하는 시험 챔버;설정된 염도 및 온도를 가지는 염수를 생성하고, 상기 염수를 상기 시험 챔버의 내부로 공급하기 위한 염수 공급부;상기 염수 공급부에서 생성되는 염수와 혼합되어 상기 시험 챔버의 내부로 제1 기체를 공급하기 위한 기체 공급부; 및상기 염수와 상기 제1 기체를 혼합하여 상기 시험 챔버의 내부로 분사하기 위한 분사 노즐을 포함하고,상기 기체 공급부는, 설정된 온도로 가열되는 제2 기체를 상기 시험 챔버에 공급하고, 상기 염수가 균일한 농도를 가지도록 상기 염수 공급부에 제3 기체를 공급하며,상기 분사 노즐은,상기 제1 기체와 염수가 혼합된 상태로 분사하는 염수 분무 노즐; 및상기 제2 기체를 상기 시험 챔버의 내부를 향해 분사하는 건조 공기 분사 노즐; 및상기 염수 분무 노즐의 내 외부에 형성된 이물질을 제거하도록, 일정한 압력에 따라 유체를 분사하는 노즐 세척 장치를 포함하며,상기 시험 챔버의 내부에서 상기 피시험체가 상기 염수에 노출되도록 하는 것을 특징으로 하는 염수 분무 시험 시스템
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제1항에 있어서,상기 염수 공급부의 염수를 교반하도록 제어하고, 상기 제1 기체, 제2 기체 및 제3 기체의 분사를 제어하는 제어부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 염수 분무 시험 시스템
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제1항에 있어서,상기 염수 공급부는,상기 제3 기체가 유입되어 수용된 증류수 및 염화나트륨(NaCl)을 혼합시키는 염수 교반 탱크; 및상기 염수를 설정된 온도를 가지고 상기 분사 노즐로 이동시키는 염수 공급 탱크를 포함하는 것을 특징으로 하는 염수 분무 시험 시스템
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제4항에 있어서,상기 염수 공급부는, 상기 염수 공급 탱크와 연결되어 상기 염수 공급 탱크에 수용된 염수가 이동하여 수용되는 사이폰 탱크를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 염수 분무 시험 시스템
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제4항에 있어서,상기 염수 교반 탱크의 내부에는, 일 방향으로 연장 형성되는 교반 부재가 설치되고,상기 교반 부재는, 상기 제3 기체를 하방향으로 토출하여 공기층을 형성시키며, 상기 공기층에 의해 상기 염수 교반 탱크에 수용된 상기 증류수와 염화나트륨(NaCl)을 혼합하는 것을 특징으로 하는 염수 분무 시험 시스템
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제6항에 있어서,상기 교반 부재는, 상기 염수 교반 탱크의 내부에서 회전 가능하도록 설치되고, 일 방향으로 회전하여 상기 증류수와 염화나트륨(NaCl)이 혼합시키는 것을 특징으로 하는 염수 분무 시험 시스템
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제1항에 있어서,상기 시험 챔버의 일 측에 설치되어 상기 시험 챔버의 내부 공기를 외부로 토출시키며, 외부의 공기를 상기 시험 챔버의 내부로 흡입하는 공기 순환 장치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 염수 분무 시험 시스템
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제1항에 있어서,상기 시험 챔버의 일 측에는 상기 시험 챔버 내부의 온도를 상승시키기 위한 히터가 설치되는 것을 특징으로 하는 염수 분무 시험 시스템
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