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레이저빔을 조사(照射)하는 레이저 다이오드와,상기 레이저빔을 확대 평행빔으로 형성하는 렌즈와,서로 이격된 위치에 상기 레이저빔이 관통할 수 있는 복수의 관통공이 각각 형성되는 제1 빔마스크와,상기 제1 빔마스크와 이격된 위치에서 상기 레이저빔이 관통할 수 있고, 상기 제1 빔마스크에 에 형성된 관통공과 마주보는 위치에 복수의 관통공이 각각 형성되는 제2 빔마스크와,상기 제1 빔마스크와 상기 제2 빔마스크 사이에설치되고, 상기 레이저빔을 수직 편광 성분과 수평 편광 성분으로 분할하는 편광빔스플리터와,상기 제2 빔마스크의 후방에 설치되어, 상기 제1 빔마스크와 상기 제2 빔마스크를 통과한 상기 레이저빔의 일부는 통과시키고, 나머지 일부는 상기 제1 빔마스크 쪽으로 반사시키는 미러블록과,상기 미러블록의 중심에 설치되어 상기 미러블록을 관통하는 레이저빔과 상기 미러블록에서 반사되는 레이저빔이 통과하는 원자가스쉘과,상기 미러블록의 외측에 설치되어 상기 원자가스쉘을 통과하는 레이저빔을 광펌핑하는 코일 및 상기 미러블록을 통과한 레이저빔, 상기 편광빔스플리터에서 분리된 수평방향의 레이저빔과 수직방향의 레이저빔을 각각 감지하는 제1 포토다이오드, 제2 포토다이오드 및 제3 포토다이오드를 포함하는 단일 광선을 이용한 원자 스핀 자이로스코프
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제1항에 있어서,상기 미러블록은,상기 제2 빔마스크와 상기 원자가스쉘을 통과한 레이저빔이 관통하도록 중앙에 관통부가 형성되고,상기 관통부의 일측으로 상기 제2 빔마스크를 통과한 레이저빔이 입사되고 상기 레이저빔을 상기 원자가스쉘로 반사키는 입사미러와,상기 입사미러에서 반사된 레이저빔이 상기 원자가스쉘을 통과한 후 상기 제2 빔마스크로 반사시키는 반사미러를 포함하는 것을 특징으로 하는 단일 광선을 이용한 원자 스핀 자이로스코프
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제2 항에 있어서,상기 입사미러와 상기 반사미러는 상기 레이저다이오드로부터 조사된 레이저빔의 광축과 각각 45도 경사지게 형성되는 것을 특징으로 하는 단일 광선을 이용한 원자 스핀 자이로스코프
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제2항에 있어서,상기 제1 빔마스크에는,중앙에 형성되어 상기 레이저다이오드로부터 조사된 레이저빔을 통과시키는 제1 관통공과,상기 제1 관통공과 이격된 위치에 형성되어 상기 입사미러로 입사시키는 제2 관통공과,상기 제1 관통공 및 상기 제2 관통공와 이격되어, 상기 반사미러로부터 반사된 레이저빔을 통과하는 제3 관통공이 형성되고,상기 제2 빔마스크에는 상기 제1 관통공, 상기 제2 관통공 및 상기 제3 관통공이 형성된 위치에 대응하는 위치에 각각 제1 관통공, 제2 관통공 및 제3 관통공이 형성되는 것을 특징으로 하는 단일 광선을 이용한 원자 스핀 자이로스코프
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제4항에 있어서,상기 제2 빔마스크의 제1 관통공에는 1/4파장판으로 형성되는 제1 파장판이 설치되고,상기 제2 빔마스크의 제2 관통공에는 1/2파장판으로 형성되는 제2 파장판이 설치되는 것을 특징으로 하는 단일 광선을 이용한 원자 스핀 자이로스코프
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제1항에 있어서,상기 미러블록의 외측에는 상기 미러블록의 관통부를 통과한 레이저빔을 감지하는 제1 포토다이오드가 설치되는 것을 특징으로 하는 단일 광선을 이용한 원자 스핀 자이로스코프
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제2항에 있어서,상기 반사미러에서 반사된 레이저빔은 상기 편광빔스플리터에서 수평방향과 수직방향으로 분리되고,상기 제1 빔마스크의 제3 관통공에는 상기 편광빔스플리터에서 분리된 수평 편광 성분을 측정하고, 상기 제2 빔마스크를 향하도록 제2 포토다이오드가 설치되며,상기 편광빔스플리터에서 분리된 수직 평광 성분을 측정하고, 상기 제2 포토다이오드와 수직하게 제3 포토다이오드가 설치되는 것을 특징으로 하는 단일 광선을 이용한 원자 스핀 자이로스코프
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제1항에 있어서,상기 미러블록은 제로듀어(Zerodur)를 재질로 하는 것을 특징으로 하는 단일 광선을 이용한 원자 스핀 자이로스코프
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제1항에 있어서,상기 제1 빔마스크와 상기 제2 빔마스크는 알루미늄을 양극산화하여 제조되는 것을 특징으로 하는 단일 광선을 이용한 원자 스핀 자이로스코프
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제1항에 있어서,상기 제1 빔마스크와 상기 제2 빔마스크는 흑색의 다공성 플라스틱을 재질로 하는 것을 특징으로 하는 단일 광선을 이용한 원자 스핀 자이로스코프
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