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제1 전극부, 제1 전극부와 이격 형성되는 제2 전극부 및 상기 제1 전극부와 상기 제2 전극부 사이에 형성되는 유전체부를 포함하는, 플라즈마 전극; 및상기 플라즈마 전극 상에 형성되는 멤브레인;을 포함하고, 상기 제1 전극부는 복수 개의 선형 전극을 포함하는 것인,멤브레인 플라즈마 전극모듈
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제1항에 있어서,상기 플라즈마 전극은 중공형 튜브 구조 또는 선형 구조를 포함하고, 상기 제1 전극부는 상기 제2 전극부보다 상기 플라즈마 전극의 중앙에 가깝도록 위치하며 단면이 링 또는 원을 형성하고, 상기 제2 전극부는 복수 개의 관통홀을 포함하는 것인, 멤브레인 플라즈마 전극모듈
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제1항에 있어서,상기 플라즈마 전극; 및 상기 멤브레인;을 이격시키는 스페이서;를 더 포함하는,멤브레인 플라즈마 전극모듈
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제3항에 있어서,상기 플라즈마 전극과 상기 멤브레인 사이의 공간으로 외부 기체를 주입하여 플라즈마 방전 특성 및 플라즈마로부터 발생하는 활성종을 제어하는, 멤브레인 플라즈마 전극모듈
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제3항에 있어서,상기 스페이서는, (i) 상기 멤브레인으로부터 상기 플라즈마 전극을 향해 연장 형성된 것이거나, (ii) 상기 플라즈마 전극의 상기 유전체부로부터 상기 멤브레인을 향해 연장 형성된 것이거나,(iii) 상기 플라즈마 전극의 상기 제2 전극부 중 일부의 높이가 나머지의 높이보다 높게 형성되어 스페이서 역할을 하는 것인, 멤브레인 플라즈마 전극모듈
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삭제
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제1항에 있어서,상기 플라즈마 전극은 직조(weaving) 또는 편조(knitting)된 것인,멤브레인 플라즈마 전극모듈
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제1항에 있어서,상기 멤브레인은 복수 개의 층을 포함하는 것인,멤브레인 플라즈마 전극모듈
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제8항에 있어서,상기 복수 개의 층은, 각각 다른 평균 기공 크기를 가지는 것인,멤브레인 플라즈마 전극모듈
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제1항에 있어서,상기 멤브레인의 기공은 평균 크기가 0
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제1항에 있어서,상기 멤브레인은 교체가 가능한 것인,멤브레인 플라즈마 전극모듈
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제1항에 있어서,상기 유전체부, 제2 전극부 및 멤브레인 중 하나 이상은, TiO2, Zr(OH)4를 포함하는 금속 산화물, 금속-유기물 골격체(MOF), PTFE 및 불소 수지로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상을 포함하는 촉매 코팅층을 포함하는 것인,멤브레인 플라즈마 전극모듈
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제1항에 있어서,상기 멤브레인은, 일면 상에 형성된 TiO2 를 포함하는 금속 산화물 촉매 코팅층 및 타면 상에 형성된 MOF를 포함하는 반응성 촉매 코팅층을 포함하는 것인,멤브레인 플라즈마 전극모듈
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14
제1항에 있어서,상기 멤브레인은 친수성 또는 소수성의 이물질 흡착용 소재를 포함하는 것인,멤브레인 플라즈마 전극모듈
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제1항에 있어서,상기 멤브레인은 폴리머, 세라믹, 규소산화물 및 알루미나로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함하는 것인,멤브레인 플라즈마 전극모듈
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16
제1항에 있어서, 상기 멤브레인 플라즈마 전극모듈은 플렉시블한 것인,멤브레인 플라즈마 전극모듈
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제1항 내지 제5항, 제7항 내지 제16항 중 어느 한 항의 멤브레인 플라즈마 전극모듈; 상기 멤브레인 플라즈마 전극모듈에 기체를 공급하는 기체 공급부; 및상기 멤브레인 플라즈마 전극모듈에 전원을 인가하는 전원 공급부;를 포함하는, 멤브레인 플라즈마 발생장치
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제17항에 있어서, 자외선 조사부;를 더 포함하는,멤브레인 플라즈마 발생장치
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제17항에 있어서,피처리대상과 플라즈마 발생장치 간의 거리를 유지할 수 있는 이격 유지부;를 더 포함하는,멤브레인 플라즈마 발생장치
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제17항에 있어서,상기 멤브레인 플라즈마 전극모듈의 온도를 조절하는 냉각부;를 더 포함하는,멤브레인 플라즈마 발생장치
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제17항에 있어서,상기 플라즈마 전극을 지지하는 지지보조대;를 더 포함하는,멤브레인 플라즈마 발생장치
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제17항에 있어서,상기 플라즈마 발생장치는 수 처리용 또는 피부 치료용인 것인,멤브레인 플라즈마 발생장치
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