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기판, 제 1 전극, 제 1 비정질 실리콘 흡수층, 페로브스카이트 흡수층, 제 2 비정질 실리콘 흡수층 및 제 2 전극을 순서대로 적층한 구조로서, 상기 페로브스카이트 흡수층은 ABX3(식 중, A는 메틸암모늄(CH3NH3+) 또는 에틸암모늄(CH3CH2NH3+)을 나타내고, B는 Pb 또는 Sn을 나타내고, X는 I, Br 또는 Cl을 나타냄)의 화학식을 갖는 페로브스카이트를 포함하며,상기 제 1 비정질 실리콘 흡수층 및 제 2 비정질 실리콘 흡수층의 두께는 동일 또는 상이하게 25 nm 내지 75 nm이고, 상기 페로브스카이트 흡수층의 두께는 50 nm 내지 150 nm로서,상기 페로브스카이트 흡수층에 의해 태양전지의 변환효율을 증가시키고, 상기 제 1 비정질 실리콘 흡수층 및 제 2 비정질 실리콘 흡수층에 의해 수분을 포함하는 외부 요인으로부터 상기 페로브스카이트 흡수층을 보호하되, 상기 제 1 비정질 실리콘 흡수층, 상기 페로브스카이트 흡수층 및 상기 제 2 비정질 실리콘 흡수층의 총 두께를 300nm 이하로 하여, 얇고 투명한 태양전지를 실현하기 위한 페로브스카이트-비정질 실리콘 이종접합 태양전지
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 전극 및 제 2 전극은, 동일 또는 상이하게, ZnO, ITO(indium-tin oxide) 또는 FTO(fluorine-doped tin oxide)인, 페로브스카이트-비정질 실리콘 이종접합 태양전지
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제 1 항에 있어서,상기 기판은 보로실리케이트(borosilicate) 유리, 석영(quartz) 유리, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리이미드(PI), 폴리카보네이트(PC), 폴리프로필렌(PP), 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 또는 폴리에테르술폰(PES)인, 페로브스카이트-비정질 실리콘 이종접합 태양전지
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기판; 제 1 전극; 제 1 비정질 실리콘 흡수층; 페로브스카이트 흡수층; 제 2 비정질 실리콘 흡수층; 및 제 2 전극을 순서대로 적층하는 단계를 포함하고,상기 페로브스카이트 흡수층은 ABX3(식 중, A는 메틸암모늄(CH3NH3+) 또는 에틸암모늄(CH3CH2NH3+)을 나타내고, B는 Pb 또는 Sn을 나타내고, X는 I, Br 또는 Cl을 나타냄)의 화학식을 갖는 페로브스카이트를 포함하며,상기 제 1 비정질 실리콘 흡수층 및 제 2 비정질 실리콘 흡수층의 두께는 동일 또는 상이하게 25 nm 내지 75 nm이고, 상기 페로브스카이트 흡수층의 두께는 50 nm 내지 150 nm로서,상기 페로브스카이트 흡수층에 의해 태양전지의 변환효율을 증가시키고, 상기 제 1 비정질 실리콘 흡수층 및 제 2 비정질 실리콘 흡수층에 의해 수분을 포함하는 외부 요인으로부터 상기 페로브스카이트 흡수층을 보호하되, 상기 제 1 비정질 실리콘 흡수층, 상기 페로브스카이트 흡수층 및 상기 제 2 비정질 실리콘 흡수층의 총 두께를 300nm 이하로 하여, 얇고 투명한 태양전지를 실현하기 위한 페로브스카이트-비정질 실리콘 이종접합 태양전지의 제조 방법
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