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정제 조성물 총 100 중량부에 대하여 테노포비어 디소프록실 유리염기 35 내지 45 중량부, 락토오스(Lactose) 30 내지 40 중량부, 아비셀 pH 101(Avicel pH 101) 5 내지 10 중량부, 크로스포비돈(Crospovidone) 4 내지 6 중량부, 크로스 카르멜로스 나트륨(Croscarmellose sodium) 4 내지 6 중량부, 에어로실 R 972(Aerosil R 972) 1 내지 2 중량부 및 마그네슘 스테아레이트(Mg
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청구항 1에 있어서, 상기 테노포비어 디소프록실 유리염기는 제트 분쇄기를 사용하여 평균 입자경이 5 내지 20 ㎛인 마이크로 크기의 입자를 얻은 것을 특징으로 하는 정제 조성물
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청구항 1에 있어서, 상기 정제 조성물은 직타법 또는 습식 과립법을 통해 제조하는 것을 특징으로 하는 정제 조성물
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청구항 1에 있어서, 상기 정제 조성물은 폴리비닐피롤리돈 K 30(Polyvinylpyrrolidone K 30)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 정제 조성물
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제트 분쇄기를 사용하여 테노포비어 디소프록실 유리염기의 평균 입자경을 5 내지 20 ㎛로 조정하는 단계;상기 평균 입자경 5 내지 20 ㎛로 조정된 테노포비어 디소프록실 유리염기, 락토오스(Lactose), 아비셀 pH 101(Avicel pH 101), 크로스포비돈(Crospovidone), 크로스 카르멜로스 나트륨(Croscarmellose sodium) 및 에어로실 R 972(Aerosil R 972)를 혼합하는 단계; 및상기 혼합한 혼합물에 마그네슘 스테아레이트(Mg
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제트 분쇄기를 사용하여 테노포비어 디소프록실 유리염기의 평균 입자경을 5 내지 20 ㎛로 조정하는 단계;상기 평균 입자경 5 내지 20 ㎛로 조정된 테노포비어 디소프록실 유리염기, 락토오스(Lactose) 및 아비셀 pH 101(Avicel pH 101)를 혼합한 후, 정제수를 첨가하여 습식 과립을 제조하는 단계;상기 습식 과립에 크로스포비돈(Crospovidone), 크로스 카르멜로스 나트륨(Croscarmellose sodium) 및 에어로실 R 972(Aerosil R 972)를 혼합하는 단계; 및상기 혼합한 혼합물에 마그네슘 스테아레이트(Mg
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청구항 7에 있어서, 상기 습식 과립은 폴리비닐피롤리돈 K 30(Polyvinylpyrrolidone K 30)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 정제 조성물의 제조방법
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