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강화복합막 및 그 제조방법

  • 기술번호 : KST2019029611
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 강화복합막에 관한 것으로, 본 발명에서 제공하는 강화복합막은, 다공성 지지체층; 및 상기 다공성 지지체층의 일면 또는 양면 상에 형성된 전해질막층;을 포함하고, 상기 전해질막층은, 전해질 물질; 및 제1 첨가제와 제2 첨가제 중 하나 이상;을 포함하는 것이다.
Int. CL H01M 8/1053 (2016.01.01) H01M 8/1046 (2016.01.01) H01M 8/1048 (2016.01.01) H01M 8/1062 (2016.01.01) H01M 8/1023 (2016.01.01) H01M 8/1039 (2016.01.01) H01M 8/1081 (2016.01.01)
CPC H01M 8/1053(2013.01) H01M 8/1053(2013.01) H01M 8/1053(2013.01) H01M 8/1053(2013.01) H01M 8/1053(2013.01) H01M 8/1053(2013.01) H01M 8/1053(2013.01) H01M 8/1053(2013.01) H01M 8/1053(2013.01)
출원번호/일자 1020170085365 (2017.07.05)
출원인 한국에너지기술연구원
등록번호/일자 10-2018323-0000 (2019.08.29)
공개번호/일자 10-2019-0004949 (2019.01.15) 문서열기
공고번호/일자 (20190904) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2017.07.05)
심사청구항수 10

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국에너지기술연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 배병찬 대한민국 대전광역시 유성구
2 박석희 대한민국 대전광역시 유성구
3 김민진 대한민국 대전광역시 유성구
4 손영준 대한민국 대전광역시 유성구
5 김승곤 대한민국 대전광역시 유성구
6 김창수 대한민국 인천광역시 중구
7 이원용 대한민국 대전광역시 유성구
8 박구곤 대한민국 대전광역시 유성구
9 양태현 대한민국 대전광역시 유성구
10 임성대 대한민국 대전광역시 유성구
11 신동원 대한민국 대전광역시 유성구
12 이혜진 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 무한 대한민국 서울특별시 강남구 언주로 ***, *층(역삼동,화물재단빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국에너지기술연구원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2017.07.05 수리 (Accepted) 1-1-2017-0643856-04
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2018.01.11 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2018.02.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2018-0030969-03
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2018.03.05 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0153745-11
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2018.05.03 수리 (Accepted) 1-1-2018-0438289-07
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2018.06.05 수리 (Accepted) 1-1-2018-0553888-55
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2018.07.03 수리 (Accepted) 1-1-2018-0652863-69
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2018.07.03 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2018-0652864-15
9 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2018.11.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0813167-23
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2018.12.31 수리 (Accepted) 1-1-2018-1324121-85
11 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)		 2018.12.31 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2018-1324122-20
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.01.08 수리 (Accepted) 4-1-2019-5004978-55
13 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2019.01.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0075905-46
14 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2019.04.01 수리 (Accepted) 1-1-2019-0331276-17
15 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2019.04.01 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2019-0331277-63
16 등록결정서
Decision to Grant Registration		 2019.08.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0594763-33
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.21 수리 (Accepted) 4-1-2019-5166803-39
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.21 수리 (Accepted) 4-1-2019-5166801-48
19 [일부 청구항 포기]취하(포기)서
[Abandonment of Partial Claims] Request for Withdrawal (Abandonment)		 2019.08.29 수리 (Accepted) 2-1-2019-0594103-63
20 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.09.01 수리 (Accepted) 4-1-2020-5197654-62
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
다공성 지지체층; 및상기 다공성 지지체층의 일면 또는 양면 상에 형성된 전해질막층;을 포함하고,상기 전해질막층은,전해질 물질; 다공성 지지체층; 및상기 다공성 지지체층의 일면 또는 양면 상에 형성된 전해질막층;을 포함하고,상기 전해질막층은,전해질 물질;제1 첨가제; 및제2 첨가제; 를 포함하고,상기 전해질 물질은, 술폰화된 과불소화계 고분자, 술폰화된 탄화수소계 고분자, 폴리페닐설폰(polyphenylsulfone), 폴리페닐렌(polyphenylene), 폴리에스테르(polyester), 폴리페닐렌 옥사이드(poly(phenylene oxide)), 폴리페닐렌설파이드(poly(phenylene sulfide)), 폴리술폰(polysulfone), 폴리아릴렌에테르술폰(poly(arylene ether sulfone)), 폴리아릴렌티오에테르술폰(poly(arylene thioether sulfone)), 폴리아릴렌에테르케톤(poly(arylene ether ketone), 폴리아릴렌티오에테르케톤(poly(aryelen thioether ketone), 술폰화 폴리에테르이미드계, 술폰화 폴리에테르술폰계, 술폰화 폴리에테르-에테르케톤계, 술폰화 부분 불소계 및 술폰화 불소계 고분자로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함하고;상기 제1 첨가제는,트롤록스(Trolox), 하이드로퀴논(hydroquinone), 이미다졸(imidazole), 벤즈옥사졸(benzoxazole), 벤즈티아졸(benzthiazole), 옥사디아졸(oxadiazole), 이미드(imide), 아마이드(amide), 피리딘(pyridine), 피롤(pyrrole), 유레아(urea), 퀴녹살린(quinoxaline), 피리미딘(pyrimidine), 피라진-2-카르복실산, 피라진-2,3-디카 르복실산, 2(-나프탈렌-2-일)-1-(나프탈렌-7-일)히드라진, 4-(3-(피리딘-4-일)프로필)피리딘, 2,2'-바이피리딘 및 트리스(5-옥소-L-프롤리나토-N1, O2)-(9CI) 세륨(III) 염 내의 리간드로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 유기화합물 또는 이들의 고분자형태를 포함하는 것이거나,세륨, 망간, 코발트, 아연 및 구리로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 금속 이온 또는 금속 이온염을 포함하는 분말, 결정 및 젤 중 하나이고;상기 제2 첨가제는, 폴리아마이드 (polyamide), 폴리이민(polyimine), 폴리하이드라지드(polyhydrazide), 폴리시오하이드라지드(polythiohydrazide), 폴리유레 아(polyurea), 폴리시오유레아 (polythiourea), 폴리피롤(polypyrrole), 폴리퓨란(polyfuran), 폴리시오펜(polythiophene), 폴리시아누레이트(polycyanurate), 폴리프탈로시아닌(polyphthalocyanine), 폴리벤조옥사졸(polybenzoxazole), 폴리벤조시아졸(polybenzothiazole), 폴리히단토인(polyhydantoin), 폴리바라반산(poly(parabanicacid)), 폴리퀴녹살린(polyquinoxaline), 폴리피라진(polypyrazine), 폴리피라졸(polypyrazole), 폴리트리아진(poly(as-triazine)),폴리트리아졸린(polytriazoline), 폴리퀴놀린(polyquinoline), 폴리안트라졸린(polyanthrazoline), 폴리시아졸린(polythiazoline), 폴리이미딘 (polyimidine),폴리벤족사지논(polybenzoxazinone), 폴리벤족사진디온(polybenzoxazinedione), 폴리퀴나졸린디온(polyquinazolinedione), 폴리이소인돌로퀴나졸린디온(polyisoindoloquinazolinedione) 및 폴리테트라조피렌(polytetraazopyrene)으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함하고,상기 다공성 지지체는, 전해질 물질, 제1첨가제 및 제2첨가제가 지지체의 기공 내부에 함침되어 형성되는 것이고,상기 제1첨가제의 함량 및 상기 제2첨가제 함량의 총 합은, 상기 전해질 물질 100 중량부에 대하여, 6 내지 10 중량부이고,상기 전해질막층은 전해질막이 2개 이상 적층된 것이고, 상기 2개 이상 적층된 전해질막 중, 최외측에 적층된 전해질막의 상기 제1첨가제 및 제2첨가제의 함량의 합은, 최내측에 적층되고, 상기 다공성 지지체층에 접하는 전해질막의 상기 제1첨가제 및 제2첨가제의 함량의 합보다 크며, 상기 다공성 지지체층에 접한 부분으로부터 상기 전해질막층의 외표면을 향해 갈수록 점점 증가하는 것인,가스 투과도 조절 강화복합막
2 2
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3 3
삭제
4 4
제1항에 있어서, 상기 제1 첨가제의 함량 및 상기 제2 첨가제 함량의 총 합은, 상기 전해질 물질 100 중량부에 대하여, 1 내지 10 중량부인 것인, 강화복합막
5 5
제1항에 있어서, 상기 다공성 지지체층은 두께가 1 ㎛ 내지 30 ㎛ 이고, 70% 이상의 공극율을 갖고, 0
6 6
제1항에 있어서, 상기 다공성 지지체층 내 전해질 함침율이 90% 이상인 것인, 강화복합막
7 7
◈청구항 7은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
8 8
삭제
9 9
삭제
10 10
제1항에 있어서,상기 전해질막층은, 탄화수소계 물질로만 형성된 전해질을 포함하고, 상기 전해질막층은 제1 첨가제와 제2 첨가제 중 제1 첨가제만을 포함하는 것인,강화복합막
11 11
제1항에 있어서,상기 전해질막층은, 불소계 물질로만 형성된 전해질을 포함하고, 상기 전해질막층은 제1 첨가제와 제2 첨가제를 모두 포함하는 것인,강화복합막
12 12
제1항에 있어서,상기 전해질막층은,술폰화된 과불소화계 고분자, 술폰화된 탄화수소계 고분자, N-도데실피리디미늄 클로라이드(N-Dodecylpyridiminum chloride), 세틸 트라이메틸암모늄 브로마이드(Cetyltrimethylammonium bromide (CTAB)), 소듐 도데실 설페이트(Sodium dodecylsulfate (SDS)), 플루오로닉 F127(Pluoronic F127), 트리톤-X100(Triton-X100), 트윈-80(Tween-80), 소듐 클로레이트(Sodium chlorate (SC)), 소듐 도데실 벤젠 설포네이트(Sodium dodecyl benzene sulfonate (SDBS)), 소듐 도데실 설페이트(Sodiumdodecyl sulfate (SDS)), 디도데실다이메틸암모늄 브로마이드(Didodecyldimethylammonium bromide (DDAB)) 및 디옥틸 설포숙시네이트 소듐염(Dioctyl sulfosuccinate sodium salt (Na-AOT))으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함하는 제3 첨가제;를 더 포함하는 것인,강화복합막
13 13
유기 용매에 전해질 물질, 제1 첨가제 및 제2 첨가제를 분산시키는 혼합 용액 제조단계;이형 필름 상에 상기 혼합 용액으로 전해질막을 형성하는 전해질막층 제조단계;상기 제조된 전해질막을 건조하는 전해질막층 건조단계; 및다공성 지지체의 일면 또는 양면 상에 전해질막을 형성하는 전해질막층 전사단계;를 포함하고,상기 전해질 물질은, 술폰화된 과불소화계 고분자, 술폰화된 탄화수소계 고분자, 폴리페닐설폰(polyphenylsulfone), 폴리페닐렌(polyphenylene), 폴리에스테르(polyester), 폴리페닐렌 옥사이드(poly(phenylene oxide)), 폴리페닐렌설파이드(poly(phenylene sulfide)), 폴리술폰(polysulfone), 폴리아릴렌에테르술폰(poly(arylene ether sulfone)), 폴리아릴렌티오에테르술폰(poly(arylenethioether sulfone)), 폴리아릴렌에테르케톤(poly(arylene ether ketone), 폴리아릴렌티오에테르케톤(poly(aryelen thioether ketone), 술폰화 폴리에테르이미드계, 술폰화 폴리에테르술폰계, 술폰화 폴리에테르-에테르케톤계, 술폰화 부분불소계 및 술폰화 불소계 고분자로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함하고;상기 제1 첨가제는,트롤록스(Trolox), 하이드로퀴논(hydroquinone), 이미다졸(imidazole), 벤즈옥사졸(benzoxazole), 벤즈티아졸(benzthiazole), 옥사 디아졸(oxadiazole), 이미드(imide), 아마이드(amide), 피리딘(pyridine), 피롤(pyrrole), 유레아(urea), 퀴녹살린(quinoxaline), 피리미딘(pyrimidine), 피라진-2-카르복실산, 피라진-2,3-디카르복실산, 2(-나프탈렌-2-일)-1-(나프탈렌-7-일)히드라진, 4-(3-(피리딘-4-일)프로필)피리딘, 2,2'-바이피리딘 및 트리스(5-옥소-L-프롤리나토-N1,O2)-(9CI) 세륨(III) 염 내의 리간드로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 유기화합물 또는 이들의 고분자형태를 포함하는 것이거나,세륨, 망간, 코발트, 아연 및 구리로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 금속 이온 또는 금속 이온염을 포함하는 분말, 결정 및 젤 중 하나이고;상기 제2 첨가제는, 질소를 포함하는 헤테로 고분자 화합물로서,폴리아마이드 (polyamide), 폴리이민(polyimine), 폴리하이드라지드(polyhydrazide), 폴리시오하이드라지드(polythiohydrazide), 폴리유레 아(polyurea), 폴리시오유레아 (polythiourea), 폴리피롤(polypyrrole), 폴리퓨란(polyfuran), 폴리시오펜(polythiophene), 폴리시아누레이트(polycyanurate), 폴리프탈로시아닌(polyphthalocyanine), 폴리벤조옥사졸(polybenzoxazole), 폴리벤조시아졸(polybenzothiazole), 폴리히단토인(polyhydantoin), 폴리바라반산(poly(parabanicacid)), 폴리퀴녹살린(polyquinoxaline), 폴리피라진(polypyrazine), 폴리피라졸(polypyrazole), 폴리트리아진(poly(as-triazine)),폴리트리아졸린(polytriazoline), 폴리퀴놀린(polyquinoline), 폴리안트라졸린(polyanthrazoline), 폴리시아졸린(polythiazoline), 폴리이미딘 (polyimidine),폴리벤족사지논(polybenzoxazinone), 폴리벤족사진디온(polybenzoxazinedione), 폴리퀴나졸린디온(polyquinazolinedione), 폴리이소인돌로퀴나졸린디온(polyisoindoloquinazolinedione) 및 폴리테트라조피렌(polytetraazopyrene)으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함하는 것인,제1항에 따른 강화복합막의 제조방법
14 14
제13항에 있어서,상기 전해질막층은 전해질막이 2개 이상 적층된 것이고,상기 혼합 용액 제조단계는, 제1 첨가제와 제2 첨가제 중 하나 이상의 함량이 상이한, 2개 이상의 혼합 용액을 제조하는 것이고,상기 전해질막 제조단계는, 상기 제1 첨가제와 상기 제2 첨가제 중 하나 이상의 함량이 상이한 혼합 용액들을 이용하여, 상기 제1 첨가제와 상기 제2 첨가제 중 하나 이상의 함량이 상이한 전해질막을 2개 이상 제조하는 것이고,상기 전해질막 전사 단계는, 상기 제1 첨가제와 상기 제2 첨가제 함량이 상이한 2개 이상의 전해질막을 다공성 지지체에 각각 순차적으로 전사하는 것인,강화복합막의 제조방법
15 15
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16 16
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17 17
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순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 산업통상자원부 한국에너지기술연구원 핵심연구개발사업 도심주행용 수소전기버스 핵심기술 개발
2 미래창조과학부 한국에너지기술연구원 기관 주요사업 연료전지용 고치수안정성 저가 고분자막 개발