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페로브스카이트 전구체 및 제1 유기 용매를 포함하는 페로브스카이트 전구체 혼합 용액을 기판에 코팅하여, 페로브스카이트 전구체 용액 층을 형성하는 단계;상기 페로브스카이트 전구체 용액 층을 커버하고, 열처리 시 페로브스카이트 전구체 용액 층의 용매 증발을 지연시키는 코팅 층을 형성하는 단계; 및페로브스카이트 전구체 용액 층 및 이를 커버하는 코팅 층이 형성된 기판을 열처리하는 단계를 포함하고,상기 열처리하는 단계에서, 상기 페로브스카이트 전구체 용액 층 내에서 페로브스카이트 그레인(grain)이 형성되는 것을 특징으로 하며,상기 코팅층이 페로브스카이트 전구체 용액 층의 용매 증발을 지연시키는 정도에 따라, 페로브스카이트 그레인의 크기를 1 nm 내지 4 μm의 범위에서 제어할 수 있는,페로브스카이트 박막의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 페로브스카이트 전구체는 메틸암모늄 아이오딘화물(methylammonium iodide, CH3NH3I) 및 아이오딘화납(lead iodide, PbI2)을 포함하는 것을 특징으로 하는,페로브스카이트 박막의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 제1 유기 용매는 감마부티로락톤(γ-Butyrolactone, GBL), 디메틸설폭시드(dimethylsulfoxide, DMSO) 및 디메틸포름아미드(dimethylformamide, DMF) 중 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는,페로브스카이트 박막의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 코팅 층은 단분자, 고분자, 및 시트재(sheet material) 중 적어도 어느 하나로 형성되는 것을 특징으로 하는,페로브스카이트 박막의 제조 방법
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제4항에 있어서,상기 코팅층을 단분자 및 고분자 중 적어도 어느 하나로 형성하는 경우,상기 코팅 층은,상기 단분자 및 고분자 중 적어도 어느 하나와, 상기 페로브스카이트 전구체 불용성인 제2 유기 용매를 포함하는 혼합 용액을 상기 페로브스카이트 전구체 용액 층 상에 코팅하여 형성하는 것을 특징으로 하는,페로브스카이트 박막의 제조 방법
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제5항에 있어서,상기 제2 유기 용매는 톨루엔(toluene), 클로로벤젠(chlorobenzene), 디클로로벤젠(dichlorobenzene), 및 클로로포름(chloroform) 중 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는,페로브스카이트 박막의 제조 방법
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제4항에 있어서,상기 코팅 층을 단분자 및 고분자 중 적어도 어느 하나와 시트재로 형성하는 경우,상기 코팅 층은,상기 단분자 및 고분자 중 적어도 어느 하나와, 상기 페로브스카이트 전구체 불용성인 제2 유기 용매를 포함하는 혼합 용액을 상기 페로브스카이트 전구체 용액 층 상에 코팅하여, 혼합 용액 코팅 층을 형성하고,혼합 용액 코팅 층 상에 시트재를 배치시켜 형성하는 것을 특징으로 하는,페로브스카이트 박막의 제조 방법
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제4항에 있어서,상기 단분자는 [6,6]-페닐-C61-뷰티르산 메틸 에스테르([6,6]-phenyl-C 61 -butyric acid methyl ester, PCBM), P-DTS(FBTTh2)2, 및 Spiro-MeOTAD 중 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는,페로브스카이트 박막의 제조 방법
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제4항에 있어서,상기 고분자는 폴리(3-헥실티오펜) (Poly(3-hexylthiophene), P3HT)를 포함하는 것을 특징으로 하는,페로브스카이트 박막의 제조 방법
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제4항에 있어서,상기 시트재는 유리 시트(glass sheet) 또는 플라스틱 테이프(plastic tape)인 것을 특징으로 하는,페로브스카이트 박막의 제조 방법
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제4항에 있어서,상기 코팅 층을 단분자로 형성하는 경우,상기 페로브스카이트 그레인의 크기는 300 nm 내지 3 μm인 것을 특징으로 하는,페로브스카이트 박막의 제조 방법
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제4항에 있어서,상기 코팅 층을 고분자로 형성하는 경우,상기 페로브스카이트 그레인의 크기는 1 nm 내지 100 nm인 것을 특징으로 하는,페로브스카이트 박막의 제조 방법
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제4항에 있어서,상기 코팅 층을 단분자 및 고분자로 형성하는 경우,상기 페로브스카이트 그레인의 크기는 10 nm 내지 2 μm인 것을 특징으로 하는,페로브스카이트 박막의 제조 방법
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제4항에 있어서,상기 코팅 층을 시트재로 형성하는 경우,상기 페로브스카이트 그레인의 크기는 200 nm 내지 1 μm인 것을 특징으로 하는,페로브스카이트 박막의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 코팅 층을 형성하는 단계 이전에,상기 페로브스카이트 전구체 용액 층 상에, 상기 페로브스카이트 전구체 불용성인 제2 유기 용매를 처리하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는,페로브스카이트 박막의 제조 방법
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제1 전극;상기 제1 전극과 접촉하는 기판;상기 기판 상에 배치되고, 제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에 따라 제조된 페로브스카이트 박막; 및상기 페로브스카이트 박막에 배치된 제2 전극을 포함하는,태양 전지
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제16항에 있어서,상기 페로브스카이트 그레인의 크기는 1 μm 내지 4 μm인 것을 특징으로 하는,태양 전지
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