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a)수정란 배양장치 몸체의 식각 용액이 주입되는 제1채널 및 비식각 용액이 주입되는 제2채널, 상기 제1채널 및 제2채널과 일측이 연통하는 배양공간, 상기 배양공간과 타측이 연통하는 배출채널의 형상과 대응하는 형상을 양각으로 형성한 마스터 몰드를 성형틀에 수용하여 준비하는 단계;b)상기 마스터 몰드가 준비된 성형틀에 액상의 폴리디메틸실록산(PDMS, Polydimethylsiloxane)을 인입하는 단계;c)폴리디메틸실록산(PDMS)이 인입된 성형틀을 진공챔버에 수용한 후, 진공을 이용하여 폴리디메틸실록산(PDMS)에서 기포를 제거하는 단계;d)상기 폴리디메틸실록산(PDMS) 기포가 제거되면, 성형틀을 오븐에 수용한 후, 열로 상기 폴리디메틸실록산(PDMS)을 경화시켜 몸체를 형성하는 단계;e)상기 폴리디메틸실록산(PDMS)의 경화가 완료되어 몸체가 형성되면, 상기 마스터 몰드에서 몸체를 분리하는 단계;f)상기 마스터 몰드와 접하던 몸체의 개방면에 폴리카보네이트 재질로 된 상판을 접합하는 단계;g)상기 몸체의 배양공간에 식각 용액 및 비식각 용액을 주입하여 배양공간에 주름모사면을 형성하는 단계;를 포함하는 난관을 모사한 수정란 배양장치의 제조방법
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청구항 9에 있어서,상기 마스터 몰드는a-1)실리콘웨이퍼로 된 기판의 상면에 몰드베이스층을 형성하는 단계와;a-2)상기 기판상에 형성된 몰드베이스층의 상면에 포토레지스트층을 형성하는 단계와;a-3)상기 포토레지스트층 상면에 배양장치 몸체의 이미지 형상과 반대되는 이미지로 타공된 포토마스크를 위치한 후 빛으로 노광하는 단계와;a-4)상기 포토마스크 제거 후, 상기 포토레지스트층 중 노광되지 않은 부분을 제외한 노광된 부분의 포토레지스트층이 제거되도록 현상하는 단계와;a-5)상기 현상으로 노광된 부분의 포토레지스트층이 제거됨에 따라 노출된 상기 몰드베이스층을 에칭액으로 에칭하는 단계와;a-6)상기 에칭이 완료되면 상기 포토레지스트층을 제거한 후, 기판에서 마스터 몰드를 이형하여 마스터 몰드를 완성하는 단계;를 포함하는 난관을 모사한 수정란 배양장치의 제조방법
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청구항 9항에 있어서,상기 마스터 몰드는상기 배양공간으로 연통하는 제1채널 및 제2채널은 서로 교번으로 배치되어 배양공간과 연통하는 것을 난관을 모사한 수정란 배양장치의 제조방법
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청구항 9에 있어서,상기 g)단계에서 상기 몸체의 배양공간에 주름모사면을 형성하는 단계에서,상기 주름모사면은상기 몸체를 식각하는 식각 용액을 배양공간 전, 후 길이방향으로 흘려, 식각 용액의 농도 구배 및 유속에 따른 식각 작용으로 식각되어 형성하는 난관 모사 수정란 배양장치의 제조방법
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