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챔버 하우징; 상기 챔버 하우징 내에 배치되며, 내부에 반응 공간을 정의하고 상기 반응 공간과 연통된 제 1 및 제 2 단부들을 갖는 중공 실린더형 챔버;상기 중공 실린더형 챔버의 내부 공간 내에 적재되는 분말 상에 코팅될 화합물을 형성하기 위한 전구체 가스를 공급하는 가스 공급부;상기 중공 실린더형 챔버의 제 1 및 제 2 단부 중 적어도 어느 하나와 상기 가스 공급부를 연통시키는 전구체 유로; 및 상기 중공 실린더형 챔버의 반응 공간으로부터 배기 가스를 배출하는 가스 배출부를 포함하며,상기 전구체 유로는 상기 챔버 하우징의 내벽과 상기 중공 실린더형 챔버의 외벽 사이에 정의되는 공간을 포함하고, 상기 공간에 의해 상기 공간과 상기 중공 실린더형 챔버 내의 압력이 균일한 압력 분포를 갖는 분말 코팅 반응기
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제 1 항에 있어서, 상기 중공 실린더형 챔버가 재치되어 외기와 단절되도록 기밀을 유지하는 챔버 하우징을 더 포함하고, 상기 챔버 하우징의 일 측에 상기 가스 공급부가 연결되고, 상기 챔버 하우징의 타 측에 상기 가스 배출부가 연결되어, 상기 챔버 하우징의 내벽과 상기 중공 실린더형 챔버 사이에 상기 전구체 유로가 형성되는 분말 코팅 반응기
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제 1 항에 있어서, 상기 중공 실린더형 챔버는 상기 제 1 단부와 상기 제 2 단부 사이에 상기 반응 공간과 상기 중공 실린더형 챔버의 외부를 연통시키는 중간 개구부를 더 포함하고, 상기 중간 개구부를 통하여 상기 전구체 가스 또는 상기 배기 가스의 유출입이 일어나는 분말 코팅 반응기
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제 4 항에 있어서, 상기 중간 개구부는 상기 전구체 가스 또는 상기 배기 가스의 상기 반응 공간 내의 출입은 허용하고, 상기 분말의 외부 유출을 막는 필터에 의해 차폐된 분말 코팅 반응기
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제 1 항에 있어서, 상기 중공 실린더형 챔버의 상기 제 1 단부 및 제 2 단부에 각각 배치되는 제 1 임펠러 및 제 2 임펠러를 더 포함하며, 상기 제 1 임펠러 및 상기 제 2 임펠러의 회전은 분말 코팅 공정 중에 상기 반응 공간 내에서 일 단부로 치우친 상기 분말을 다른 단부로 이동시키기 위해 제어되는 분말 코팅 반응기
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제 1 항에 있어서, 상기 중공 실린더형 챔버는 상기 반응 공간 내에 적재된 상기 분말의 교반을 위해 회전하고, 회전 동력부로부터 상기 중공 실린더형 챔버의 회전력 전달은 상기 중공 실린더형 챔버의 외주와 접촉하는 마찰 풀리에 의해 수행되는 분말 코팅 반응기
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챔버 하우징; 상기 챔버 하우징 내에 배치되며, 내부에 반응 공간을 정의하고 상기 반응 공간과 연통된 제 1 및 제 2 단부들을 각각 가지며, 측 방향으로 나란히 이격 배치된 복수의 중공 실린더형 챔버들;상기 복수의 중공 실린더형 챔버들의 각 내부 공간 내에 적재되는 분말 상에 코팅될 화합물을 형성하기 위한 전구체 가스를 공급하는 가스 공급부;상기 복수의 중공 실린더형 챔버들의 각 제 1 및 제 2 단부 중 적어도 어느 하나와 상기 가스 공급부를 연통시키는 전구체 유로; 및 상기 복수의 중공 실린더형 챔버들의 각 반응 공간으로부터 배기 가스를 배출하는 가스 배출부를 포함하며,상기 전구체 유로는 상기 챔버 하우징의 내벽과 상기 중공 실린더형 챔버의 외벽 사이에 정의되는 공간을 포함하고, 상기 공간에 의해 상기 공간과 상기 중공 실린더형 챔버 내의 압력이 균일한 압력 분포를 갖는 분말 코팅 반응기
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제 8 항에 있어서, 상기 복수의 중공 실린더형 챔버들 내부의 각 반응 공간에 동종의 또는 이종의 분말이 적재되는 분말 코팅 반응기
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제 8 항에 있어서, 상기 복수의 중공 실린더형 챔버들이 재치되어 외기와 단절되도록 기밀을 유지하는 챔버 하우징을 더 포함하고, 상기 챔버 하우징의 일 측에 상기 가스 공급부가 연결되고, 상기 챔버 하우징의 타 측에 상기 가스 배출부가 연결되어, 상기 챔버 하우징의 내벽과 상기 복수의 중공 실린더형 챔버들 사이에 상기 전구체 유로가 형성되는 분말 코팅 반응기
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제 10 항에 있어서, 상기 복수의 중공 실린더형 챔버들이, 상기 전구체 유로를 따라 흐르는 상기 전구체 가스의 흐름 방향이 상기 복수의 중공 실린더형 챔버들의 연장 방향에 평행하도록 정렬 배치되는 분말 코팅 반응기
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제 10 항에 있어서, 상기 복수의 중공 실린더형 챔버들이, 상기 전구체 유로를 따라 흐르는 상기 전구체 가스의 흐름 방향이 상기 복수의 중공 실린더형 챔버들의 연장 방향과 수직하도록 정렬 배치되는 분말 코팅 반응기
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제 8 항에 있어서, 상기 복수의 중공 실린더형 챔버들 중 적어도 어느 하나는 상기 제 1 단부와 상기 제 2 단부 사이에 상기 반응 공간과 중공 실린더형 챔버의 외부를 연통시키는 중간 개구부를 갖고, 상기 중간 개구부를 통하여 상기 전구체 가스 또는 상기 배기 가스의 유 출입이 일어나는 분말 코팅 반응기
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제 13 항에 있어서, 상기 중간 개구부는 상기 전구체 가스 또는 상기 배기 가스의 상기 반응 공간 내의 출입은 허용하고, 상기 분말의 외부 유출을 막는 필터에 의해 차폐된 분말 코팅 반응기
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제 8 항에 있어서, 상기 중공 실린더형 챔버의 상기 제 1 및 제 2 단부에 각각 배치되는 제 1 임펠러 및 제 2 임펠러를 더 포함하며, 상기 제 1 임펠러 및 상기 제 2 임펠러의 회전은 분말 코팅 공정 중에 상기 반응 공간 내에서 일 단부로 치우친 상기 분말을 다른 단부로 이동시키기 위해 제어되는 분말 코팅 반응기
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제 8 항에 있어서, 상기 복수의 중공 실린더형 챔버들 중 적어도 하나는 각 반응 공간 내에 적재된 상기 분말의 교반을 위해 회전하고, 회전 동력부로부터 상기 중공 실린더형 챔버의 회전력 전달은 상기 중공 실린더형 챔버의 외주와 접촉하는 적어도 하나 이상의 마찰 풀리에 의해 수행되는 분말 코팅 반응기
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