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고굴절 나노 무기 산화물과 벤조산 화합물을 혼합한 후에, 50 ℃ 내지 150 ℃의 온도에서 0
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제1항에 있어서,상기 고굴절 나노 무기 산화물은 지르코니아, 티타니아, 알루미나, 실리카, 삼산화안티몬, 산화주석, 산화아연, 산화마그네슘으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인 분산성이 향상된 고굴절 유무기 복합체의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 벤조산 화합물은 4-아미노벤조산, 4-클로로메틸벤조산, 4-브로모메틸벤조산, 4-아미노메틸벤조산, 4-페닐아조벤조산, 4-메틸설포닐벤조산, 4-클로로설포닐벤조산, 및 이들을 함유하는 유기 화합물 또는 유기금속 화합물로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인 분산성이 향상된 고굴절 유무기 복합체의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 고굴절 나노 무기 산화물과 벤조산 화합물은 혼합 후에 제1 유기 용매를 첨가하여 0
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제4항에 있어서, 상기 제1 유기 용매는 디메틸클로라이드, 아세톤, 에틸아세트산, 헥산, (디에틸)에테르, 클로로포름, 및 아세토니트릴로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 사용하여 혼합 교반한 후에, 40 ℃ 내지 100 ℃의 온도에서 용매를 증발시키고 기상법으로 열처리 공정을 수행하는 분산성이 향상된 고굴절 유무기 복합체의 제조 방법
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제4항에 있어서, 상기 제1 유기 용매는 테트라하이드로퓨란(THF), 디메틸포름아미드, 톨루엔, 다이메틸설폭사이드, 및 피리딘로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 사용하여 혼합 교반한 후에, 액상법으로 열처리 공정은 수행하는 분산성이 향상된 고굴절 유무기 복합체의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 UV 경화수지 단량체는 1,6-다이헥산다이아크릴레이트인 분산성이 향상된 고굴절 유무기 복합체의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 고굴절 유무기 복합체와 UV 경화 수지 단량체는 혼합한 후 제2 유기 용매 존재 하에서 10 ℃ 내지 50 ℃의 온도에서 0
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제8항에 있어서, 상기 제2 유기 용매는 디메틸클로라이드, 아세톤, 에틸아세트산, 헥산, (디에틸)에테르, 클로로포름, 및 아세토니트릴로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인 분산성이 향상된 고굴절 유무기 복합체의 제조 방법
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제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 따라 제조된 분산성이 향상된 고굴절 유무기 복합체를 포함하는 광학 하드 코팅 필름
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