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입자크기가 10 내지 2000㎚이고, 비표면적이 1 내지 150㎡/g인 결정성 금속산화물의 표면을 400∼900℃에서 1∼10시간 동안 암모니아 가스로 처리하여 표면개질된 결정성 금속산화물
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제1항에 있어서,상기 결정성 금속산화물은 비결정성 구조인 실리카를 제외한 알루미나, 지르코니아, 티타니아, 세리아, 망간산화물, BaTiO3, 아연산화물, 철산화물, 및 Y2O3 중 적어도 하나를 포함하는 표면개질된 결정성 금속산화물
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삭제
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제1항에 있어서,상기 암모니아 가스의 유량을 0
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제1항 또는 제2항 또는 제4항에 따른 표면개질된 결정성 금속산화물 및 수지를 포함하는 하이브리드 재료
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제5항에 있어서,상기 수지는 폴리아미드이미드, 폴리에스테르이미드 및 폴리아믹애시드로부터 선택되는 1종 이상의 수지인 하이브리드 재료
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다음의 단계들을 포함하는 하이브리드 재료의 제조방법:입자크기가 10 내지 2000㎚이고, 비표면적이 1 내지 150㎡/g인 결정성 금속산화물을 400∼900℃에서 1∼10시간 동안 암모니아 가스로 처리하여 표면을 개질시키는 단계; 상기 표면개질된 결정성 금속산화물을 수계 또는 알코올계 용매에 분산시켜 금속산화물 분산졸을 제조하는 단계; 및상기 금속산화물 분산졸에 유기 용매를 첨가한 후, 수지를 첨가하여 금속산화물과 수지를 하이브리드화시키는 단계
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삭제
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제7항에 있어서,상기 표면을 개질시키는 단계에서, 상기 암모니아 가스의 유량은 0
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제7항에 있어서,상기 표면개질된 결정성 금속산화물 분산졸을 제조하는 단계는, 표면개질된 결정성 금속산화물과 수계 또는 알코올계 용매를 1:10 내지 1:30의 중량비로 혼합하는 것을 포함하는 하이브리드 재료의 제조방법
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제7항에 있어서,상기 하이브리드화 단계에서, 상기 유기 용매는 N-메틸-2-피롤리돈, 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, 셀룰솔브류 용매, 글리콜류 용매 및 케톤류 용매로부터 선택되는 1종 이상의 용매인 하이브리드 재료의 제조방법
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제7항에 있어서,상기 하이브리드화 단계에서, 상기 수지는 폴리아미드이미드, 폴리에스테르이미드 및 폴리아믹애시드로부터 선택되는 1종 이상의 수지인 하이브리드 재료의 제조방법
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제7항에 있어서,상기 하이브리드화 단계에서, 상기 표면개질된 결정성 금속산화물은 상기 수지 100중량부에 대하여 1∼50중량부로 포함되는 하이브리드 재료의 제조방법
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제5항에 따른 하이브리드 재료를 포함하는 유·무기 하이브리드 코팅제
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제5항에 따른 하이브리드 재료를 포함하는 유·무기 하이브리드 필름
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