| 1 |
1
유기 수지 내에 나노 입자가 분산된 코팅층을 기판 상에 제조하되, 상기 코팅층의 표면은 상기 유기 수지로 제공되는 제1 영역, 및 상기 나노 입자로 제공되는 제2 영역을 포함하는 단계; 상기 코팅층의 상기 제2 영역을 제외한 상기 제1 영역을 선택적으로(selectively) 식각하는 단계; 및 상기 유기 수지를 제외한 상기 나노 입자 상에 선택적으로 자기조립막을 형성하는 단계를 포함하는 초발수 구조체의 제조 방법
|
| 2 |
2
제1 항에 있어서, 상기 나노 입자는 서로 응집되어, 클러스터(cluster)로 제공되고, 상기 클러스터는, 상기 유기 수지 내에 제공되는 제1 부분; 및 상기 유기 수지로부터 돌출된 제2 부분을 포함하는 초발수 구조체의 제조 방법
|
| 3 |
3
제1 항에 있어서, 상기 기판 상에 상기 코팅층을 제조하는 단계는, 상기 유기 수지 및 상기 나노 입자를 준비하는 단계;상기 유기 수지 및 상기 나노 입자를 혼합하여, 코팅 용액을 제조하는 단계; 및상기 코팅 용액을 기판 상에 코팅하는 단계를 포함하는 초발수 구조체의 제조 방법
|
| 4 |
4
제1 항에 있어서, 상기 기판 상에 상기 코팅층을 제조하는 단계는, 상기 유기 수지 및 상기 나노 입자를 준비하는 단계;상기 유기 수지를 상기 기판 상에 코팅한 후, 상기 나노 입자를 상기 기판 상에 분사하여, 상기 코팅층을 형성하는 단계; 및상기 코팅층을 경화시키는 단계를 포함하는 초발수 구조체의 제조 방법
|
| 5 |
5
제1 항에 있어서, 상기 나노 입자는, 산화물 입자이고, 노출된 상기 나노 입자의 표면에 OH기가 생성되고, OH기에 의해 상기 나노 입자의 표면에 선택적으로 상기 자기조립막이 형성되는 것을 포함하는 초발수 구조체의 제조 방법
|
| 6 |
6
제1 항에 있어서, 상기 유기 수지 및 상기 나노 입자는 식각 선택비를 갖는 물질로 형성된 것을 포함하는 초발수 구조체의 제조 방법
|
| 7 |
7
기판; 및상기 기판 상의 초발수층을 포함하되,상기 초발수층은, 유기 수지, 상기 유기 수지 내에 분산된 나노 입자, 및 노출된 상기 나노 입자의 표면에 선택적으로 제공된 자기조립막을 포함하고,상기 초발수층의 표면은, 상기 유기 수지로 제공되는 제1 영역, 및 상기 나노 입자로 제공되는 제2 영역을 포함하고, 상기 제1 영역은, 오목부를 구성하며,상기 나노 입자는 서로 응집되어 클러스터로 제공되고, 상기 클러스터는, 상기 유기 수지 내에 제공되는 제1 부분, 및 상기 유기 수지로부터 돌출된 제2 부분을 포함하고, 상기 자기조립막은, 상기 제2 부분을 덮는 것을 포함하는 초발수 구조체
|
| 8 |
8
제7 항에 있어서, 상기 제1 영역의 상기 오목부는, 상기 제1 영역이 식각되어 형성된 것을 포함하는 초발수 구조체
|
| 9 |
9
삭제
|
| 10 |
10
삭제
|
