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입사되는 전자기파의 주파수 별로 전자기파투과도가 결정되는 인공구조체셀로서,중간층;상기 중간층의 일측에 배치되는 평판링형상의 제1 공진기;및상기 중간층의 타측에 배치되는 평판막대형상의 제2 공진기;를 포함하고,상기 제1 공진기는 상기 제1 공진기의 너비를 정의하는 아우터셸(outershell)과 이너셸(innershell)을 포함하고,상기 제2 공진기의 일단과 타단은 상기 아우터셸과 상기 이너셸의 사이에 위치하는 것을 특징으로 하는,인공구조체셀
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제1 항에 있어서,상기 제1 공진기의 몸체는 상기 제2 공진기의 일단과 타단에 대응하는 위치에 배치되는 것을 특징으로 하는,인공구조체셀
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제3 항에 있어서,상기 중간층, 상기 제1 공진기, 및 상기 제2 공진기는 벤딩(bending)되며,상기 중간층, 상기 제1 공진기, 및 상기 제2 공진기가 벤딩되는 경우 상기 전자기파투과도가 변경되는 것을 특징으로 하는,인공구조체셀
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입사되는 전자기파의 주파수-상기 주파수는 제1 차단주파수, 제2 차단주파수, 및 전달대역을 포함함-별로 전자기파투과도가 결정되는 인공구조체로서,상기 인공구조체는 적어도 둘 이상의 인공구조체셀;을 포함하고,상기 인공구조체셀은 중간층; 상기 중간층의 일측에 배치되는 제1 공진기;및 상기 중간층의 타측에 배치되는 제2 공진기;를 포함하고, 상기 인공구조체셀은 상기 제1 차단주파수를 포함하는 제1 차단대역과 상기 제2 차단주파수를 포함하는 제2 차단대역에서 상기 전자기파를 차단하며, 상기 제1 차단주파수와 상기 제2 차단주파수 사이의 전달대역에서는 상기 전자기파를 투과시키는 것을 특징으로 하고,상기 제1 공진기의 형상은 평판링형상이고, 상기 제2 공진기의 형상은 평판막대형상이며,상기 제1 공진기는 상기 제1 공진기의 너비를 정의하는 아우터셸(outershell)과 이너셸(innershell)을 포함하고,상기 제2 공진기의 일단과 타단은 상기 아우터셸과 상기 이너셸의 사이에 위치하는 것을 특징으로 하는,인공구조체
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제5 항에 있어서,상기 전달대역은 상기 제1 차단주파수에 가까운 제1 대역 및 상기 제2 차단주파수에 가까운 제2 대역을 포함하고,상기 주파수의 변경에 따라 상기 전자기파투과도의 변경되는 값은 상기 제2 대역보다 상기 제1 대역에서 큰 것을 특징으로 하는,인공구조체
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제6 항에 있어서,상기 제1 공진기는 제1 공진주파수에서 최소의 전자기파투과도를 가지고, 상기 제2 공진기는 제2 공진주파수에서 최소의 전자기파투과도를 가지는인공구조체
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제7 항에 있어서,상기 제2 공진기의 일단과 타단은 상기 제1 공진기가 위치하는 영역에 대응되도록 배치되고,상기 제1 공진주파수와 상기 제2 공진주파수는 상기 제1 차단주파수와 상기 제2 차단주파수 사이의 주파수인 것을 특징으로 하는,인공구조체
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제8 항에 있어서,상기 인공구조체셀의 상기 제1 공진기에는 상기 제1 차단주파수의 전자기파에 의해 최대의 유도전류가 형성되고, 상기 인공구조체셀의 상기 제2 공진기에는 상기 제2 차단주파수의 전자기파에 의해 최대의 유도전류가 형성되는 것을 특징으로 하는,인공구조체
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제9 항에 있어서,상기 제1 차단주파수와 상기 제2 차단주파수에서 상기 인공구조체셀은 상기 전자기파의 에너지의 최대의 양을 흡수하는 것을 특징으로 하는,인공구조체
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제8 항에 있어서,상기 인공구조체가 곡률을 가지도록, 상기 인공구조체가 굽혀지는 것을 특징으로 하는,인공구조체
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제12 항에 있어서,상기 인공구조체는 상기 인공구조체의 중심부에 가까운 제1 영역 및 상기 인공구조체의 가장자리에 가까운 제2 영역을 포함하고,상기 제1 영역에는 제1 유도전류가 형성되고, 상기 제2 영역에는 제2 유도전류가 형성되되,상기 제1 유도전류의 세기는 상기 제2 유도전류의 세기 보다 큰 것을 특징을 하는,인공구조체
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제13 항에 있어서,상기 제1 영역의 전자기파투과도는 상기 제2 영역의 전자기파투과도보다 작은 것을 특징으로 하는,인공구조체
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제14 항에 있어서,상기 곡률이 증가할수록, 상기 제2 영역의 전자기파투과도는 더 작아지는 것을 특징으로 하는,인공구조체
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