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열린 기공 구조를 포함하는 다공성 고분자 지지체를 준비하는 단계;전해액을 준비하는 단계; 및상기 전해액에 상기 다공성 고분자 지지체를 침지하는 방법으로, 상기 다공성 고분자 지지체의 상기 열린 기공 구조로 상기 전해액이 함침되어, 전해질을 제조하는 단계를 포함하되,상기 전해질에서, 상기 전해액 및 다공성 고분자 지지체의 무게비는 40:1 내지 100:1인 것을 포함하는 전해질의 제조 방법
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제1 항에 있어서,상기 전해액은, 유기 용매를 포함하고, 전기 변색 물질 또는 전해질 염 중에서 적어도 어느 하나를 포함하는 전해질의 제조 방법
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제2 항에 있어서,상기 전해액은 변색 보조제를 더 포함하는 전해질의 제조 방법
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제1 항에 있어서,상기 다공성 고분자 지지체의 평균 기공의 크기는 100 ㎛ 이상 및 2000 ㎛ 미만인 것을 포함하는 전해질의 제조 방법
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제1 항에 있어서,상기 다공성 고분자 지지체의 기공률은 81 % 초과 98 % 미만인 것을 포함하는 전해질의 제조 방법
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제1 항에 있어서,상기 전해액에 상기 다공성 고분자 지지체가 침지되되, 상기 전해액에 상기 다공성 고분자 지지체가 용해되지 않는 것을 포함하는 전해질의 제조 방법
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제1 항에 있어서,상기 전해질의 압축률은 99 % 내지 85 %인 것을 포함하는 전해질의 제조 방법
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제1 항에 있어서,상기 전해질의 신장률은 101 % 내지 130%인 것을 포함하는 전해질의 제조 방법
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열린 기공 구조를 포함하는 다공성 고분자 지지체; 및상기 다공성 고분자 지지체의 상기 열린 기공 구조에 함침된 전해액을 포함하되,상기 전해액 및 상기 다공성 고분자 지지체의 무게비가 40:1 내지 100:1인 것을 포함하는 전해질
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제9 항에 있어서,상기 전해액은, 유기 용매를 포함하고, 전기 변색 물질 또는 전해질 염 중에서 적어도 어느 하나를 포함하는 전해질
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제1 전극;상기 제1 전극과 이격 배치된 제2 전극; 및 상기 제1 전극 및 제2 전극 사이에 배치된, 제9 항에 따른 전해질을 포함하는 전기 변색 소자
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제11 항에 있어서,상기 전해질은 유기 용매를 포함하고, 전기 변색 물질 또는 전해질 염 중에서 적어도 어느 하나를 포함하는 전기 변색 소자
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제12 항에 있어서,상기 전해질이 상기 유기 용매 및 전기 변색 물질을 포함하는 경우, 변색 보조제를 더 포함하는 전기 변색 소자
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제12 항에 있어서,상기 전해질이 상기 유기 용매 및 전해질 염을 포함하는 경우, 상기 제1 전극 및 제2 전극은 전기 변색 물질로 코팅되는 것을 포함하는 전기 변색 소자
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