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플라즈마의 정보 획득 시스템에 있어서,상기 플라즈마의 특성을 진단하기 위하여 상기 플라즈마의 광학적 특성을 진단하기 위한 제1 지표 정보와, 상기 플라즈마로 인하여 유발되는 전기적 특성을 진단하기 위한 제2 지표 정보를 포함하는 상기 플라즈마의 진단 지표 정보를 입력받는 플라즈마 정보 입력 장치; 및상기 입력받은 플라즈마의 제1 지표 정보 또는 제2 지표 정보를 이용하여, 상기 플라즈마의 특성 정보를 획득하는 플라즈마 분석부; 를 포함하고,상기 플라즈마 정보 입력 장치는, 상기 플라즈마의 방전이 이루어지는 플라즈마 공정용 챔버의 내부 벽면에 일체로 평행하게 결합되어 상기 챔버 내부와 인접하고, 일면에 전하가 축적되며, 상기 플라즈마 공정용 챔버 내부의 공정 기판과 동일한 재질을 포함하는 유전체, 상기 유전체의 다른 일면에 위치하여 상기 챔버와 공간적으로 구분되며, 상기 플라즈마의 방출광을 수집하는 광섬유를 포함하고, 상기 광섬유를 이용하여 상기 플라즈마의 광학적 특성을 진단하기 위한 제1 지표 정보를 입력받는 제1입력부; 및상기 유전체의 다른 일면에 위치하여 상기 챔버와 공간적으로 구분되는 제1 전극 및 상기 제1 전극과 동일 평면상에 위치하고, 상기 제1 전극과 전기적으로 절연되어 상기 제1 전극과 동일한 중심점을 가지며 상기 유전체의 다른 일면에 위치하는 제2 전극을 포함하고, 상기 제1 입력부와 결합되며, 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극으로부터 상기 플라즈마의 전기적 특성을 진단하기 위한 제2 지표 정보를 입력 받는 제2 입력부; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마의 정보 획득 시스템
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제1항에 있어서, 상기 플라즈마 분석부는, 상기 제1 지표 정보 또는 상기 제2 지표 정보를 이용하여, 상기 플라즈마의 밀도 분포 정도 또는 상기 플라즈마에 포함되는 복수개의 성분들에 대한 성분별 강도 분포 정보를 획득하는 것을 특징으로 하는 플라즈마의 정보 획득 시스템
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제1항에 있어서, 상기 플라즈마의 광학적 특성을 진단하기 위한 제1 지표 정보는, 상기 광섬유로부터 수집되는 방출광의 스펙트럼인 것을 특징으로 하는 플라즈마의 정보 획득 시스템
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제1항에 있어서,상기 플라즈마로 인하여 유발되는 전기적 특성을 진단하기 위한 제2 지표 정보는, 상기 플라즈마의 밀도 정보 또는 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극으로부터 측정되는 정전 용량 정보인 것을 특징으로 하는 플라즈마의 정보 획득 시스템
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제1항에 있어서,상기 플라즈마 정보 입력 장치는, 상기 플라즈마의 방전이 이루어지는 플라즈마 공정용 챔버에 일체로서 구비되고,상기 플라즈마 분석부는,상기 제1 입력부가 입력받은 제1 지표 정보로부터 상기 챔버 공간에서 상기 플라즈마에 포함되는 복수개의 성분들에 대하여 성분별 강도 분포 정보를 획득하는 강도 분포 정보 획득부;상기 제2 입력부가 입력받은 제2 지표 정보로부터 상기 챔버 공간에서 상기 플라즈마의 밀도 분포 정보를 획득하는 밀도 분포 정보 획득부; 및상기 밀도 분포 정보 및 상기 성분별 강도 분포 정보를 이용하여, 상기 플라즈마의 밀도 분포와 상기 플라즈마에 포함되는 각 성분들 간의 관계를 판단하는 플라즈마 성분 판단부; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마의 정보 획득 시스템
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제1항에 있어서,상기 플라즈마의 정보 입력 장치는, 대기압 플라즈마의 특성을 진단하기 위하여 대기압 플라즈마 젯으로부터 상기 대기압 플라즈마의 진단 지표 정보를 입력받는 것을 특징으로 하는 플라즈마의 정보 획득 시스템
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제1항에 있어서,상기 획득한 플라즈마의 특성 정보를 표시하는 출력부;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마의 정보 획득 시스템
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제1항에 있어서,상기 플라즈마의 정보 획득 시스템은, 플라즈마 공정용 챔버에 일체로서 구비되는 것을 특징으로 하는 플라즈마의 정보 획득 시스템
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플라즈마의 정보 획득 방법에 있어서,플라즈마 정보 입력 장치가 상기 플라즈마의 특성을 진단하기 위하여 상기 플라즈마의 광학적 특성을 진단하기 위한 제1 지표 정보와, 상기 플라즈마로 인하여 유발되는 전기적 특성을 진단하기 위한 제2 지표 정보를 포함하는 상기 플라즈마의 진단 지표 정보를 입력받는 단계; 및플라즈마 분석부가 상기 입력받은 플라즈마의 제1 지표 정보 또는 제2 지표 정보를 이용하여, 상기 플라즈마의 특성 정보를 획득하는 단계; 를 포함하고,상기 플라즈마의 진단 지표 정보를 입력받는 단계는, 상기 플라즈마의 방전이 이루어지는 플라즈마 공정용 챔버의 내부 벽면에 일체로 평행하게 결합되어 상기 챔버 내부와 인접하고, 일면에 전하가 축적되며, 상기 플라즈마 공정용 챔버 내부의 공정 기판과 동일한 재질을 포함하는 유전체, 상기 유전체의 다른 일면에 위치하여 상기 챔버와 공간적으로 구분되며, 상기 플라즈마의 방출광을 수집하는 광섬유를 포함하는 제1 입력부가, 상기 광섬유를 이용하여 상기 플라즈마의 광학적 특성을 진단하기 위한 제1 지표 정보를 입력받는 단계; 및 상기 유전체의 다른 일면에 위치하여 상기 챔버와 공간적으로 구분되는 제1 전극 및 상기 제1 전극과 동일 평면상에 위치하고, 상기 제1 전극과 전기적으로 절연되어 상기 제1 전극과 동일한 중심점을 가지며 상기 유전체의 다른 일면에 위치하는 제2 전극을 포함하는 제2 입력부가, 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극 으로부터 상기 플라즈마의 전기적 특성을 진단하기 위한 제2 지표 정보를 입력 받는 단계; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마의 정보 획득 방법
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제10항에 있어서,상기 플라즈마의 광학적 특성을 진단하기 위한 제1 지표 정보는, 상기 광섬유로부터 수집되는 방출광의 스펙트럼인 것을 특징으로 하는 플라즈마의 정보 획득 방법
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제10항에 있어서,상기 플라즈마로 인하여 유발되는 전기적 특성을 진단하기 위한 제2 지표 정보는, 상기 플라즈마의 밀도 정보 또는 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극으로부터 측정되는 정전 용량 정보인 것을 특징으로 하는 플라즈마의 정보 획득 방법
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제10항에 있어서,상기 플라즈마의 특성 정보는, 상기 플라즈마의 밀도 분포 정도 또는 상기 플라즈마에 포함되는 복수개의 성분들에 대한 성분별 강도 분포 정보인 것을 특징으로 하는 플라즈마의 정보 획득 방법
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제10항에 있어서,상기 플라즈마 정보 입력 장치는, 상기 플라즈마의 방전이 이루어지는 플라즈마 공정용 챔버에 일체로서 구비되고,상기 플라즈마의 특성 정보를 획득하는 단계는, 상기 제1 입력부가 입력받은 제1 지표 정보로부터 상기 챔버 공간에서 상기 플라즈마에 포함되는 복수개의 성분들에 대하여 성분별 강도 분포 정보를 획득하는 단계;상기 제2 입력부가 입력받은 제2 지표 정보로부터 상기 챔버 공간에서 상기 플라즈마의 밀도 분포 정보를 획득하는 단계; 및상기 밀도 분포 정보 및 상기 성분별 강도 분포 정보를 이용하여, 상기 플라즈마의 밀도 분포와 상기 플라즈마에 포함되는 각 성분들 간의 관계를 판단하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마의 정보 획득 방법
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제10항에 있어서,상기 획득한 플라즈마의 특성 정보를 표시하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마의 정보 획득 방법
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플라즈마 정보 입력 장치에 있어서,상기 플라즈마의 방전이 이루어지는 플라즈마 공정용 챔버의 내부 벽면에 일체로 평행하게 결합되어 상기 챔버 내부와 인접하고, 일면에 전하가 축적되며, 상기 플라즈마 공정용 챔버 내부의 공정 기판과 동일한 재질을 포함하는 유전체, 상기 유전체의 다른 일면에 위치하여 상기 챔버와 공간적으로 구분되며, 상기 플라즈마의 방출광을 수집하는 광섬유를 포함하고, 상기 광섬유를 이용 하여 상기 플라즈마의 광학적 특성을 진단하기 위한 제1 지표 정보를 입력받는 제1입력부; 및상기 유전체의 다른 일면에 위치하여 상기 챔버와 공간적으로 구분되는 제1 전극 및 상기 제1 전극과 동일 평면상에 위치하고, 상기 제1 전극과 전기적으로 절연되어 상기 제1 전극과 동일한 중심점을 가지며 상기 유전체의 다른 일면에 위치하는 제2 전극을 포함하고, 상기 제1 입력부와 결합되며, 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극으로부터 상기 플라즈마의 전기적 특성을 진단하기 위한 제2 지표정보를 입력 받는 제2 입력부; 를 포함하는 플라즈마 정보 입력 장치
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제17항에 있어서,상기 제1 전극 및 상기 제2 전극이 동일한 중심점을 갖고, 각각 원형의 형상을 갖는 것을 특징으로 하는 플라즈마 정보 입력 장치
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제17항에 있어서,상기 제1 전극 및 상기 제2 전극은 공면 전극으로 구비되고, 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극 사이에는 절연체가 위치하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 정보 입력 장치
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제17항에 있어서,상기 유전체는 실리콘 웨이퍼 또는 유리인 것을 특징으로 하는 플라즈마 정보 입력 장치
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