| 1 |
1
챔버 내에서 발생되는 플라즈마 방출광을 감지하기 위해 상기 챔버 내에서 발생되는 증착물질을 필터링하는 필터링 장치에 있어서,상기 플라즈마 방출광을 감지하는 광감지부;상기 광감지부의 일측에 형성되어, 상기 증착물질을 차단하여 상기 광감지부를 보호하는 보호막;상기 광감지부를 둘러싸며, 공정과정에서 발생되는 외부 영향을 차단하는 케이스;상기 플라즈마 방출광이 상기 광감지부에 도달하기 위한 광로를 제공하고, 상기 케이스의 내측면과 인접하고, 상기 증착물질이 유입되는 방향에 대하여 횡방향으로 설치되어 상기 증착물질의 적어도 일부를 필터링하는 다수개의 격벽들을 포함하는 필터부; 상기 챔버 내에서 이루어지는 공정에서 이용되는 공정가스를 포함하는 필터링가스를 상기 챔버 내로 분출하기 위한 필터링가스 경로로서, 상기 광감지부와 인접하여 형성된 필터링가스 경로; 및상기 필터링가스를 주입함으로써, 상기 광감지부를 향해 운동하는 증착물질의 적어도 일부의 운동방향을 산란시키는 가스주입부;를 포함하되,상기 가스주입부는 상기 필터링가스를 펄스(Pulse) 방식에 따른 제1 출력 주기 및 지속파 방식(Continuous wave)에 따른 제2 출력주기를 선택적으로 적용하여 상기 플라즈마 방출광의 투과방향 및 상기 증착물질의 운동방향의 반대 방향으로 주입함으로써, 상기 광감지부를 향해 운동하는 증착물질을 산란시켜 상기 격벽들에증착시키는 것을 특징으로 하는 플라즈마의 광학적 진단을 위한 필터링 장치
|
| 2 |
2
삭제
|
| 3 |
3
삭제
|
| 4 |
4
삭제
|
| 5 |
5
제1항에 있어서, 상기 광감지부로부터 감지된 플라즈마 방출광의 스펙트럼을 계측하는 분광기; 및상기 계측된 스펙트럼을 화면으로 나타내는 표시부;를 더 포함하는 플라즈마의 광학적 진단을 위한 필터링 장치
|
| 6 |
6
제1항에 있어서, 상기 광감지부의 일측에 형성되어, 광감지부로 입사(入射) 하는 상기 플라즈마 방출광을 집속하는 집속렌즈를 더 포함하는 플라즈마의 광학적 진단을 위한 필터링 장치
|
| 7 |
7
제1항에 있어서,상기 필터링 장치는 상기 챔버의 적어도 일 부분에 삽입되어, 상기 플라즈마 방출광을 감지하고, 감지된 플라즈마 방출광을 이용하여 상기 플라즈마를 광학적으로 진단하는 것을 특징으로 하는 것을 더욱 포함하는 플라즈마의 광학적 진단을 위한 필터링 장치
|
| 8 |
8
스퍼터링(sputtering) 챔버; 및상기 챔버로부터 발생되는 플라즈마 방출광을 감지하는 광감지부, 상기 광감지부의 일측에 형성되어, 증착물질을 차단하여 상기 광감지부를 보호하는 보호막, 상기 광감지부를 둘러싸며, 공정과정에서 발생되는 외부 영향을 차단하는 케이스, 상기 플라즈마 방출광이 상기 광감지부에 도달하기 위한 광로를 제공하고, 상기 케이스의 내측면과 인접하며, 상기 챔버 내에서 발생되는 증착물질이 유입되는 방향에 대하여 횡방향으로 설치되어 상기 증착물질의 적어도 일부를 필터링하는 다수개의 격벽들을 포함하는 필터부, 상기 챔버 내에서 이루어지는 공정에서 이용되는 공정가스를 포함하는 필터링가스를 상기 챔버 내로 분출하기 위한 필터링가스 경로로서, 상기 광감지부와 인접하여 형성된 필터링가스 경로 및 상기 필터링가스를 주입함으로써, 상기 광감지부를 향해 운동하는 증착물질의 적어도 일부의 운동방향을 산란시키는 가스주입부를 포함하는 필터링 장치;를 포함하되,상기 가스주입부는 상기 필터링가스를 펄스(Pulse) 방식에 따른 제1 출력 주기 및 지속파 방식(Continuous wave)에 따른 제2 출력주기를 선택적으로 적용하여 상기 플라즈마 방출광의 투과방향 및 상기 증착물질의 운동방향의 반대 방향으로 주입함으로써, 상기 광감지부를 향해 운동하는 증착물질을 산란시켜 상기 격벽들에증착시키는 것을 특징으로 하는 스퍼터링 챔버 오염 방지 시스템
|
| 9 |
9
삭제
|
| 10 |
10
삭제
|
| 11 |
11
제8항에 있어서, 상기 광감지부로부터 감지된 플라즈마 방출광의 스펙트럼을 계측하는 분광기; 및상기 계측된 스펙트럼을 화면으로 나타내는 디스플레이를 더 포함하는 스퍼터링 챔버 오염 방지 시스템
|
| 12 |
12
제8항에 있어서,상기 스퍼터링 챔버는 상기 플라즈마 방출이 이루어지는 것을 특징으로 하는 스퍼터링 챔버 오염 방지 시스템
|
| 13 |
13
제8항에 있어서,상기 필터링 장치는 상기 스퍼터링 챔버의 일체로서 구비되는 것을 특징으로 하는 스퍼터링 챔버 오염 방지 시스템
|
