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저온 저압 용액 공정을 기반으로 한 레이저 프린터용 고분자 전사지 및 전사 공정 최적화 방법

  • 기술번호 : KST2019031463
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 저온 저압 용액 공정을 기반으로 한 레이저 프린터용 고분자 전사지 및 전사 공정 최적화 방법에 관한 것으로, 1) PVDF(Polyvinylidene fluoride), PMMA(Poly(methyl methacrylate) 등의 폴리머 고분자 재료 물질을 사용하여 OHP 필름 위에 고분자 폴리머 시트지를 제작하였으며, 2) 120~170℃의 저온, 5-9bar의 저압 용액공정을 사용하여 기판을 제조하기 때문에 저비용, 대면적에서 고분자 폴리머 기판의 두께를 조절 가능하며, 3) 외국기업이 독점하고 있는 고가의 전사용지 없이 고해상도의 레이저 전사 프린터가 가능한 기술을 제공한다.
Int. CL B41M 5/44 (2006.01.01) B41M 5/48 (2006.01.01) B41M 5/24 (2006.01.01)
CPC B41M 5/44(2013.01) B41M 5/44(2013.01) B41M 5/44(2013.01)
출원번호/일자 1020170025297 (2017.02.27)
출원인 광운대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1928355-0000 (2018.12.06)
공개번호/일자 10-2018-0098769 (2018.09.05) 문서열기
공고번호/일자 (20181212) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2017.02.27)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 광운대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 노원구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 하태준 대한민국 서울특별시 송파구
2 박반석 대한민국 서울특별시 중구
3 전준영 대한민국 부산광역시 연제구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인우인 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 ***, *층(역삼동, 중평빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 광운대학교 산학협력단 서울특별시 노원구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2017.02.27 수리 (Accepted) 1-1-2017-0196713-10
2 보정요구서
Request for Amendment
2017.03.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2017-0032165-92
3 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2017.03.14 수리 (Accepted) 1-1-2017-0253763-64
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.03.27 수리 (Accepted) 4-1-2017-5046666-19
5 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2017.10.16 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
6 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2017.12.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2017-0184648-39
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2017.12.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0894411-67
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2017.12.21 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2017-1279141-18
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2017.12.21 수리 (Accepted) 1-1-2017-1279119-13
10 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2018.02.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0142493-42
11 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2018.04.09 수리 (Accepted) 1-1-2018-0353643-41
12 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2018.04.09 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2018-0353646-88
13 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2018.08.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0588626-66
14 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2018.09.28 수리 (Accepted) 1-1-2018-0961405-31
15 [법정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
2018.09.28 수리 (Accepted) 1-1-2018-0961526-57
16 법정기간연장승인서
2018.10.11 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2018-0158227-80
17 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2018.10.18 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2018-1029484-45
18 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2018.10.18 수리 (Accepted) 1-1-2018-1029483-00
19 등록결정서
Decision to Grant Registration
2018.11.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0781274-15
20 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2018.11.27 수리 (Accepted) 1-1-2018-1180433-81
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번호 청구항
1 1
OHP 필름과; 상기 OHP 필름 위에 PVDF(Polyvinylidene fluoride) 고분자 폴리머 물질을 코팅하여 형성된 고분자 폴리머 시트지와; 상기 고분자 폴리머 시트지와 반응하는 핫멜트지를 구비하는 레이저 프린터용 고분자 전사지가 제작되며, 레이저 프린터를 통하여 전사하고자 하는 전사체를 상기 고분자 폴리머 시트지에 프린팅한 후, 상기 고분자 폴리머 시트지와 상기 핫멜트지는 열/압착기에 의해 120~170℃의 저온, 5-9bar의 저압 용액 공정(solution process)을 통해 접착되며, 상기 핫멜트지가 접착된 상기 고분자 폴리머 시트지를 직물에 전사하고, 전사된 직물에 남아 있는 잔여 고분자 폴리머가 제거되는 방식을 사용하며, 상기 OHP 필름은 아세톤, 메탄올, 이소프로판올(IPA), 증류수(DI)에 각각 10분 동안 음파진동기로 세척하고, 상기 고분자 폴리머 물질과 상기 OHP 필름의 접착성 향상과 표면 친수성화를 위하여 상기 OHP 필름의 표면을 UV 오존 처리(파장 253nm, 28 mW/cm2의 powder density level)를 일정 시간 동안 실시하는, 저온 저압 용액 공정을 기반으로 한 레이저 프린터용 고분자 전사지
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삭제
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삭제
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제1항에 있어서, 상기 고분자 폴리머 시트지를 사용한 전사는 평면 소재의 전사 또는 유연한 굴곡이나 원형과 같은 소재의 면에도 레이저 프린터 전사가 가능한 것을 특징으로 하는 저온 저압 용액 공정을 기반으로 한 레이저 프린터용 고분자 전사지
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제1항에 있어서, 상기 열/압착기의 압력은 5∼9bar, 열압착 온도는 120~170℃, 열압착 시간은 60~90초 사이 인 최적화된 저온, 저압력의 공정을 사용하는 것을 특징으로 하는 저온 저압 용액 공정을 기반으로 한 레이저 프린터용 고분자 전사지
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(1) OHP 필름 상에 특정 열에 반응하여 녹는 PVDF(Polyvinylidene fluoride) 고분자 폴리머 물질을 코팅하여 증착된 고분자 폴리머 시트지를 형성하는 단계; (2) 상기 고분자 폴리머 시트지 위에 전사하고자 하는 인쇄물을 레이저 프린터를 사용하여 전사하는 단계; (3) 상기 인쇄물과 상기 고분자 폴리머 시트지의 접합 반응을 위한 1차 열처리 단계; (4) 상기 인쇄물을 전사할 직물 위에 상기 고분자 폴리머 시트지를 접착하는 단계;(5) 고분자 폴리머를 제거하기 위한 2차 열처리 단계; 및 (6) 상기 고분자 폴리머가 완전히 제거되고, 상기 인쇄물이 전사된 완성단계를 포함하며,상기 단계 (1)은 고분자 폴리머 물질을 전사할 OHP 필름을 아세톤, 메탄올, 이소프로판올(IPA), 증류수(DI)에 각각 10분 동안 음파진동기로 세척하는 단계; 고분자 폴리머 물질과 상기 OHP 필름의 접착성 향상과 표면 친수성화를 위하여 상기 OHP 필름의 표면을 UV 오존 처리(파장 253nm, 28 mW/cm2의 powder density level)를 20분 동안 실시하는 단계;핫멜트지와 반응하는 PVDF 용액은 P(VDF-TrFE) copolymer powder와 DMF(Dimethylformamide) solvent를 소정 비율로 교반하여 제작하는 단계; 상기 제작된 PVDF 용액을 UV 오존 처리된 상기 OHP 필름 위에 스핀 코팅 공정법으로 고분자 폴리머 물질을 전사하며, 스핀 코팅 전사 조건은 첫 번째 스텝에선 1000rpm/10초, 두 번째 스텝에선 6000rpm/60초로 PVDF 용액을 전사하는 단계; 전사된 PVDF/OHP 필름 구조의 필름을 핫플레이트에 120℃에서 60분 동안 가열하여 용매를 날려주어 상기 핫멜트지와 반응하는 상기 고분자 폴리머 시트지가 제작되는 단계를 포함하며,상기 1차 열처리 단계와 상기 2차 열처리 단계는 열/압착기에 의해 120~170℃의 저온, 5-9bar의 저압 용액 공정(solution process)을 통해 열처리되는, 저온 저압 용액 공정을 기반으로 한 레이저 프린터용 고분자 전사지의 전사 공정 최적화 방법
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삭제
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제7항에 있어서, 상기 단계 (3)은상기 인쇄물이 전사된 PVDF 고분자 폴리머 시트지에 상기 핫멜트지와 접착을 위해 PVDF 폴리머 시트지는 150℃/ 5bar/ 90초로 상기 열/압착기에 반응시켜 상기 핫멜트지와 접착시키는, 저온 저압 용액 공정을 기반으로 한 레이저 프린터용 고분자 전사지의 전사 공정 최적화 방법
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제10항에 있어서, 상기 단계 (4)는 상기 핫멜트지가 접착된 상기 고분자 폴리머 시트지를 상기 직물에 인쇄하는 단계로써, 상기 직물과 상기 고분자 폴리머 시트지를 상기 열/압착기에서 150℃/ 5bar / 30초로 반응을 시킨 후, 상기 고분자 폴리머 시트지와 상기 직물을 식혀주어 잉크가 상기 직물에 접착되게 하는, 저온 저압 용액 공정을 기반으로 한 레이저 프린터용 고분자 전사지의 전사 공정 최적화 방법
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제7항에 있어서, 상기 단계 (5)는 전사된 직물에 남아 있는 잔여 고분자 폴리머가 제거되기 위하여 테프론 시트지를 상기 직물에 올려준 후 150℃/ 5bar / 40초 동안 열/압착해주는, 저온 저압 용액 공정을 기반으로 한 레이저 프린터용 고분자 전사지의 전사 공정 최적화 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 미래창조과학부 고려대학교 이공분야기초연구사업_중견연구자지원사업_중견연구 지능형 신경 접속을 위한 마이크로 및 나노 뉴로전자 기술 연구