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기판의 상면에 배열되는 전극과 상기 기판의 배면에 배열되는 패턴형 전극을 구비한 제1 플라즈마 소스; 및기판의 상면 또는 배면에 배열되는 전극을 구비한 제2 플라즈마 소스;를 포함하고,상기 제1 플라즈마 소스의 패턴형 전극과 상기 제2 플라즈마 소스를 마주하게 배치하되, 상기 제1 플라즈마 소스의 패턴형 전극과 상기 제2 플라즈마 소스의 기판 면 또는 전극과 서로 간격을 두고 배치되게 하고,상기 제1 플라즈마 소스 상하면의 전극 및 상기 제2 플라즈마 소스의 전극에 전압을 인가하되, 상기 제1 플라즈마 소스의 패턴형 전극에 인가되는 전압의 극성과 공간을 두고 마주보는 제2 플라즈마 소스 면의 전극에 인가되는 전압의 극성은 전기적으로 서로 다른 극성이 되게 하고, 상기 제1 플라즈마 소스의 배면에 배열된 패턴형 전극에 인가되는 전압과 상기 제1 플라즈마 소스의 상면에 배열되는 전극도 전기적으로 서로 다른 극성이 되게 하여, 상기 제1 플라즈마 소스의 패턴형 전극 면에서 플라즈마를 방전시키고, 상기 제1 플라즈마 소스의 패턴형 전극과 마주보는 편에 배치된 상기 제2 플라즈마 소스의 전극 사이에 전기장이 형성되어 상기 전기장에 의해 입자 대전이 활성화되게 하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생장치
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기판의 상면에 배열되는 전극과 상기 기판의 배면에 배열되는 패턴형 전극을 구비한 제1 플라즈마 소스; 및기판의 상면에 배열되는 패턴형 전극과 기판의 배면에 배열되는 전극을 구비한 제2 플라즈마 소스;를 포함하고,상기 제1 플라즈마 소스의 패턴형 전극과 상기 제2 플라즈마 소스를 마주하게 배치하되, 상기 제1 플라즈마 소스의 패턴형 전극면과 상기 제2 플라즈마 소스의 패턴형 전극면이 서로 간격을 두고 마주보고 배치되게 하고,상기 제1 플라즈마 소스 기판 배면의 패턴형전극과 기판 상면의 전극 및 상기 제2 플라즈마 소스 기판 상면의 패턴형 전극과 기판 하면의 전극에 전압을 인가하되, 상기 제1 플라즈마 소스의 패턴형 전극에 인가되는 전압의 극성과 마주보는 제2 플라즈마 소스의 패턴형 전극에 인가되는 전압의 극성은 전기적으로 서로 다른 극성이 되게 하고, 상기 제1 플라즈마 소스의 배면에 배열된 패턴형 전극에 인가되는 전압과 상기 제1 플라즈마 소스의 상면에 배열되는 전극도 전기적으로 서로 다른 극성이 되게 하고, 상기 제1 플라즈마 소스의 배면에 배열된 패턴형 전극에 인가되는 전압과 상기 제2 플라즈마 소스의 배면에 배열된 전극에 인가되는 전압은 전기적으로 서로 같은 극성이 되게 하여, 상기 마주보는 제1 플라즈마 소스의 패턴형 전극과 상기 제2 플라즈마 소스의 패턴형 전극에서 각각 플라즈마를 방전시키고, 상기 제1 플라즈마 소스의 패턴형 전극과 마주보는 편에 배치된 상기 제2 플라즈마 소스의 패턴형 전극 사이에 전기장이 형성되어 상기 전기장에 의해 전자에 의한 입자 대전이 활성화 되게 하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생장치
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제1항에 있어서, 상기 제2 플라즈마 소스의 상면 또는 배면에 배열되는 전극은 평판형 또는 패턴형 전극인 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생장치
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제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 제1 플라즈마 소스의 상면에 배열되는 전극은 평판형 또는 패턴형 전극인 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생장치
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제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 전극에 인가되는 인가전압은, 플라즈마 방전을 일으키기 위한 방전용 전압을 온/오프 식으로 인가하고, 상기 방전용 전압이 오프 타임일 동안은 전기장 형성용 전압을 인가하며, 상기 방전용 전압은 상기 전기장 형성용 전압에 비해 고전압인 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생장치
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제1항 또는 제2항에 있어서, 먼지, 폴리머, 기화된 액체, 또는 유해 가스를 포함하는 입자를 상기 제1 플라즈마 소스와 제2 플라즈마 소스 사이에 유입시켜 플라즈마로 처리하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생장치
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7
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 제1 플라즈마 소스와 제2 플라즈마 소스 사이에 수증기를 유입시켜 플라즈마로 처리하여 및 를 발생시키고, 상기 전기장으로 전자의 충돌을 야기하여 를 분해시키는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생장치
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