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열처리 공간을 가지는 로(furnace);소재의 적어도 일부가 삽입되는 공간을 형성하도록 휘어진 부분 또는 홈(groove)을 가지고 상기 소재가 상기 열처리 공간으로 진입하도록 배치되는 컨베이어; 및상기 열처리 공간에서 상기 컨베이어의 이송에 의해 상기 소재에 접촉하여 상기 소재의 적어도 일부가 상기 휘어진 부분 또는 홈으로 들어가거나 상기 휘어진 부분 또는 홈에서 나오도록 배치되는 지지대; 를 포함하는 균일 열처리 장치
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제1항에 있어서,상기 소재가 상기 열처리 공간으로 진입하기 전에 상기 소재의 형태를 소정의 형태로 가공하는 가공부를 더 포함하고,상기 휘어진 부분 또는 홈의 형태는 상기 소정의 형태에 대응되는 균일 열처리 장치
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제2항에 있어서,상기 가공부는 분말을 압축 성형하여 상기 소재를 가공하는 균일 열처리 장치
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제1항에 있어서,상기 컨베이어는 제2 휘어진 부분 또는 제2 홈을 더 가지고,상기 소재는 상기 휘어진 부분 또는 홈에 삽입되는 꼭지점과 상기 제2 휘어진 부분 또는 제2 홈에 삽입되는 제2 꼭지점을 가지는 균일 열처리 장치
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열처리 공간을 가지는 로(furnace);소재의 적어도 일부가 삽입되는 공간을 형성하도록 휘어진 부분 또는 홈(groove)을 가지고 상기 소재가 상기 열처리 공간으로 진입하도록 배치되는 컨베이어; 및상기 열처리 공간에서 상기 컨베이어에 의해 상기 소재에 접촉하도록 배치되는 지지대; 를 포함하고,상기 지지대는 상기 소재를 상기 휘어진 부분 또는 홈으로 밀고 상기 휘어진 부분 또는 홈으로부터 빼는 균일 열처리 장치
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열처리 공간을 가지는 로(furnace);소재의 적어도 일부가 삽입되는 공간을 형성하도록 휘어진 부분 또는 홈(groove)을 가지고 상기 소재가 상기 열처리 공간으로 진입하도록 배치되는 컨베이어;상기 열처리 공간에서 상기 컨베이어에 의해 상기 소재에 접촉하도록 배치되는 지지대; 및상기 소재가 상기 컨베이어에 의해 이송되는 방향과 반대인 방향으로 상기 지지대를 이동시키는 지지대 제어부를 포함하는 균일 열처리 장치
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열처리 공간을 가지는 로(furnace);소재의 적어도 일부가 삽입되는 공간을 형성하도록 휘어진 부분 또는 홈(groove)을 가지고 상기 소재가 상기 열처리 공간으로 진입하도록 배치되는 컨베이어;상기 열처리 공간에서 상기 컨베이어에 의해 상기 소재에 접촉하도록 배치되는 지지대; 및상기 지지대의 상기 컨베이어에 대한 이격 거리를 제어하는 지지대 제어부를 포함하는 균일 열처리 장치
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제1항에 있어서,상기 로는 상기 열처리 공간에 분포되어 상기 소재와의 상호 작용에 의해 산화되는 가스를 가지는 균일 열처리 장치
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분말을 압축 성형하여 소정의 형태를 가지는 펠렛(pellet)을 가공하는 가공부;내부에 상기 펠렛과의 상호 작용에 의해 산화되는 가스가 분포된 로(furnace);상기 소정의 형태에 대응되는 휘어진 부분 또는 홈(groove)을 가지고 상기 펠렛이 상기 로의 내부로 진입하도록 배치되는 컨베이어;상기 로의 내부에 배치되어 상기 펠렛을 상기 휘어진 부분 또는 홈으로 밀어 넣거나 상기 펠렛을 상기 휘어진 부분 또는 홈으로부터 빼는 지지대; 를 포함하는 균일 환원 장치
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