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금속 원료를 용해하기 위한 열원부가 적어도 하나 이상 장착되는 용해 챔버, 상기 용해 챔버의 내부에 위치되어 상기 열원부에 의하여 용해된 금속 용탕을 저장하는 수냉 도가니, 상기 수냉 도가니의 외주부에 제공되어 설정량의 금속 용탕을 상기 수냉 도가니의 외부로 유출시키는 용탕 유출부, 상기 수냉 도가니의 하부에 장착되고 상기 용탕 유출부에서 유출되는 금속 용탕을 가스제트의 분사에 의하여 액적으로 분쇄하는 가스 분무기, 및 상기 용해 챔버의 하부에 위치되고 상기 분쇄된 액적을 분사가스의 분사에 의하여 금속 분말로 제조하는 분사 챔버를 포함하고, 상기 수냉 도가니는 금속 원료를 제1 열원부재에 의하여 예비적으로 금속 용탕으로 용해하는 원료 용해부, 상기 원료 용해부에서 예비 용해된 금속 용탕을 제2 열원부재에 의하여 재용해시켜 균질화하는 용탕 균질화부, 및 상기 용탕 균질화부로부터 공급되어 상기 용탕 유출부로 유출되는 금속 용탕을 제3 열원부재에 의하여 승온시키는 출탕 승온부를 포함하는 것인, 가스 분사를 이용한 금속 분말의 제조 장치
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제1항에 있어서,상기 용탕 유출부는 상기 수냉 도가니의 상단면 외주부에 적어도 하나 이상 형성되는 용탕 유출홈을 포함하는 것인, 가스 분사를 이용한 금속 분말의 제조 장치
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제1항에 있어서,상기 용해 챔버에는 상기 수냉 도가니 내부에 용해용 금속 원료를 공급하는 원료 공급부가 설치되는 것인, 가스 분사를 이용한 금속 분말의 제조 장치
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제1항에 있어서,상기 수냉 도가니에는 상기 수냉 도가니를 일방향으로 기울어지게 제어하는 경사 제어부가 설치되는 것인, 가스 분사를 이용한 금속 분말의 제조 장치
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제2항에 있어서,상기 용탕 유출홈은 상기 수냉 도가니 상단면에 반원형으로 형성되는 것인, 가스 분사를 이용한 금속 분말의 제조 장치
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제1항에 있어서,상기 가스 분무기는 그 길이 방향을 따라서 다수개의 제트 홀이 적어도 일 열 이상 형성되는 선형 가스 분무기를 포함하는 것인, 가스 분사를 이용한 금속 분말의 제조 장치
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제7항에 있어서,상기 선형 가스 분무기는 용탕 줄기에 대하여 서로 마주보게 적어도 한 쌍 이상으로 배치되는 것인, 가스 분사를 이용한 금속 분말의 제조 장치
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제1항에 있어서,상기 가스 분무기는 그 길이 방향을 따라서 하나 또는 다수개의 제트 슬릿이 적어도 일 열 이상 형성되는 선형 가스 분무기를 포함하는 것인, 가스 분사를 이용한 금속 분말의 제조 장치
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제9항에 있어서,상기 선형 가스 분무기는 용탕 줄기에 대하여 서로 마주보게 적어도 한 쌍 이상으로 배치되는 것인, 가스 분사를 이용한 금속 분말의 제조 장치
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제1항에 있어서,상기 가스 분무기는 그 길이 방향을 따라서 다수개의 제트 홀이 적어도 일 열 이상 형성되는 환형 가스 분무기를 포함하는 것인, 가스 분사를 이용한 금속 분말의 제조 장치
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제11항에 있어서,상기 다수개의 제트 홀은 동심원을 따라 형성되는 것인, 가스 분사를 이용한 금속 분말의 제조 장치
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제1항에 있어서,상기 가스 분무기는 그 길이 방향을 따라서 하나 또는 다수개의 제트 슬릿이 적어도 일 열 이상 형성되는 환형 가스 분무기를 포함하는 것인, 가스 분사를 이용한 금속 분말의 제조 장치
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제13항에 있어서,상기 제트 슬릿은 동심원을 따라 형성되는 것인, 가스 분사를 이용한 금속 분말의 제조 장치
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