| 1 |
1
개폐가 가능하도록 제공되는 격벽에 의해 제1 영역 및 제2 영역으로 분할되며, 상기 제1 영역에는 전기분해를 위한 전해질이 저장되는 전해조;상기 전해조의 제1 영역에 침지되도록 제공되며, 상기 전해조 측면과 이격되어 제공되는 양극; 및상기 전해조의 제1 영역의 바닥면에 배치된 알루미늄을 포함하는 음극을 포함하는 알루미늄-스칸듐 합금 제조장치
|
| 2 |
2
제1항에 있어서, 상기 격벽이 개방되어, 제1 영역에서 제조된 알루미늄-스칸듐 합금이 제2 영역으로 이동되는 것을 특징으로 하는 알루미늄-스칸듐 합금 제조장치
|
| 3 |
3
제1항에 있어서, 상기 격벽이 티타늄, 백금 및 탄탈럼 중에서 선택된 1종 이상으로 이루어진 것을 특징으로 하는 알루미늄-스칸듐 합금 제조장치
|
| 4 |
4
제1항에 있어서, 상기 전해질은 불화물, 염화물 또는 이들의 혼합물인 것을 특징으로 하는 알루미늄-스칸듐 합금 제조장치
|
| 5 |
5
제4항에 있어서, 상기 불화물은 헥사플루오로알루민산나트륨(Na3AlF6), 헥사플루오로알루민산칼륨(K3AlF6), 플루오린화알루미늄(AlF3), 플루오린화칼슘(CaF2), 플루오린화나트륨(NaF), 플루오린화칼륨(KF), 플루오린화브로민칼륨(KBrF4), 플루오린화수소칼륨(KHF2), 헥사플루오로인산칼슘(KPF6), 헥사플루오로규산칼륨(K2SiF6), 헥사플루오로알루민산리튬(Li3AlF6), 헥사플루오로알루민산암모늄((NH4)3AlF6) 및 플루오로인산칼륨(KPO2F2) 중에서 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 알루미늄-스칸듐 합금 제조장치
|
| 6 |
6
제4항에 있어서, 상기 염화물은 염화리튬(LiCl), 염화칼륨(KCl), 염화크롬(CrCl2), 염화칼슘(CaCl2) 및 염화브롬(BrCl) 중에서 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 알루미늄-스칸듐 합금 제조장치
|
| 7 |
7
제1항에 있어서,상기 양극은 탄소, 철 및 니켈 중에서 선택된 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 알루미늄-스칸듐 합금 제조장치
|
| 8 |
8
개폐가 가능하도록 제공되는 격벽에 의해 제1 영역 및 제2 영역으로 분할되는 전해조의 상기 제1 영역에 전해질, 산화 알루미늄 및 산화 스칸듐을 투입하는 단계;전해조에 전류를 인가하고 전기 분해를 실시하여 알루미늄-스칸듐 합금을 생성하는 생성 단계;전류를 차단하고 상기 격벽을 상승하여, 전해조 내 상기 제2 영역으로 알루미늄-스칸듐 합금을 배출하는 배출단계;상기 격벽을 하강하는 밀폐단계; 및상기 제2 영역 내의 알루미늄-스칸듐 합금을 회수하는 단계를 포함하는 알루미늄-스칸듐 합금 제조방법
|
| 9 |
9
제8항에 있어서,상기 배출단계에서 배출되는 알루미늄-스칸듐 합금은 최초 투입된 알루미늄 중량의 75 내지 85 중량%인 것을 특징으로 하는 알루미늄-스칸듐 합금 제조방법
|
| 10 |
10
제8항에 있어서,상기 밀폐단계 이후, 전해조에 산화 알루미늄 및 산화 스칸듐을 추가로 투입하고, 상기 생성단계, 배출단계, 밀폐단계 및 회수단계로 이루어지는 알루미늄-스칸듐 합금 제조를 2회 이상 반복하는 것을 특징으로 하는 알루미늄-스칸듐 합금 제조방법
|
| 11 |
11
제10항에 있어서,산화 알루미늄을 먼저 투입하고 이후, 산화 스칸듐을 투입하는 것을 특징으로 하는 알루미늄-스칸듐 합금 제조방법
|
| 12 |
12
제10항에 있어서상기 추가로 투입되는 산화 알루미늄은 회수된 알루미늄-스칸듐 합금의 93 내지 98 중량%인 것을 특징으로 하는 알루미늄-스칸듐 합금 제조방법
|
| 13 |
13
제10항에 있어서,상기 추가로 투입되는 산화 스칸듐은 회수된 알루미늄-스칸듐 합금의 2 내지 7 중량%인 것을 특징으로 하는 알루미늄-스칸듐 합금 제조방법
|
