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이온층 측정 포인트에서의 이온층 측정 결과로부터 이온층의 상태를 모델링하는 프로세서를 이용하여 이온층을 감시하는 방법에 있어서,상기 프로세서의 수신부를 통하여, 상기 이온층 측정 포인트에서 측정한 복수 개의 이온층 투과 포인트들 각각에 대한 이온층 투과 지연 시간 오차 측정값을 수신하는 단계;상기 프로세서의 제어부를 통하여, 상기 복수 개의 이온층 투과 포인트들에 대하여 두 개 이상의 모델링 식들 중 어떤 모델링 식을 사용할 수 있는지 확인하는 단계;상기 제어부를 통하여, 상기 확인에 대한 결과를 기초로 상기 이온층 측정 포인트에서 이온층의 상태를 모델링하기 위하여 사용할 모델링 식을 결정하는 단계; 및상기 제어부를 통하여, 결정한 상기 모델링 식에 상기 이온층 투과 지연 시간 오차 측정값을 대입하여 이온층의 상태를 모델링하는 단계;를 포함하고,상기 확인하는 단계는,상기 복수 개의 이온층 투과 포인트들에 대하여 상수 모델링 식, 1차 함수 모델링 식, 및 2차 함수 모델링 식 중 어떤 모델링 식을 사용할 수 있는지 확인하는 제1 확인 단계;를 포함하고,상기 제1 확인 단계는,상기 복수 개의 이온층 투과 포인트들에 대하여 1차 함수 모델링 식 기반의 카이-스퀘어 일관성 검사(Chi-suqare consistency check)를 수행하여, 상기 복수 개의 이온층 투과 포인트들에 대하여 상기 1차 함수 모델링 식을 이용할 수 있는지 확인하는 제2 확인 단계;를 포함하는, 이온층 감시 방법
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제1 항에 있어서,상기 제1 확인 단계는,상기 제2 확인 단계를 통한 확인 결과 상기 복수 개의 이온층 투과 포인트들에 대하여 상기 1차 함수 모델링 식을 이용할 수 있는 경우, 상기 이온층 측정 포인트에서 사용 가능한 상기 이온층 투과 포인트들의 개수가 소정의 개수 이상인지 확인하는 제3 확인 단계;를 포함하는, 이온층 감시 방법
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제4 항에 있어서,상기 모델링 식을 결정하는 단계는,상기 제3 확인 단계를 통한 확인 결과 사용 가능한 상기 이온층 투과 포인트들의 개수가 상기 소정의 개수 미만인 경우, 상기 1차 함수 모델링 식을 상기 이온층 측정 포인트에서 이온층의 상태를 모델링하기 위하여 사용할 모델링 식으로 결정하는 단계;를 포함하는, 이온층 감시 방법
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제4 항에 있어서,상기 제1 확인 단계는,상기 제3 확인 단계를 통한 확인 결과 사용 가능한 상기 이온층 투과 포인트들의 개수가 상기 소정의 개수 이상인 경우, 상기 복수 개의 이온층 투과 포인트들에 대하여 2차 함수 모델링 식 기반의 카이-스퀘어 일관성 검사를 수행하여, 상기 복수 개의 이온층 투과 포인트들에 대하여 상기 2차 함수 모델링 식을 이용할 수 있는지 확인하는 제4 확인 단계;를 포함하는, 이온층 감시 방법
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제6 항에 있어서,상기 모델링 식을 결정하는 단계는,상기 제4 확인 단계를 통한 확인 결과 상기 복수 개의 이온층 투과 포인트들에 대하여 상기 2차 함수 모델링 식의 이용이 불가능한 경우, 상기 1차 함수 모델링 식을 상기 이온층 측정 포인트에서 이온층의 상태를 모델링하기 위하여 사용할 모델링 식으로 결정하는 단계;를 포함하는, 이온층 감시 방법
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제6 항에 있어서,상기 제1 확인 단계는,상기 제4 확인 단계를 통한 확인 결과 상기 복수 개의 이온층 투과 포인트들에 대하여 상기 2차 함수 모델링 식을 이용할 수 있는 경우, 상기 복수 개의 이온층 투과 포인트들의 분포 양호도가 양호도 기준치 이상인지 확인하는 제5 확인 단계;를 포함하는, 이온층 감시 방법
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제8 항에 있어서,상기 모델링 식을 결정하는 단계는,상기 제5 확인 단계를 통한 확인 결과 상기 분포 양호도가 상기 양호도 기준치 이상인 경우 상기 2차 함수 모델링 식을 상기 이온층 측정 포인트에서 이온층의 상태를 모델링하기 위하여 사용할 모델링 식으로 결정하고,상기 제5 확인 단계를 통한 확인 결과 상기 분포 양호도가 상기 양호도 기준치 미만인 경우 상기 1차 함수 모델링 식을 상기 이온층 측정 포인트에서 이온층의 상태를 모델링하기 위하여 사용할 모델링 식으로 결정하는 단계;를 포함하는, 이온층 감시 방법
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제4 항에 있어서,상기 소정의 개수는, 2차 함수 모델링 식 적용을 위해 필요한 함수 값의 최소 개수인 6개인, 이온층 감시 방법
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제1 항에 있어서,상기 제1 확인 단계는,상기 제2 확인 단계를 통한 확인 결과 상기 복수 개의 이온층 투과 포인트들에 대하여 상기 1차 함수 모델링 식의 이용이 불가능한 경우, 상기 복수 개의 이온층 투과 포인트들에 대하여 상수 모델링 식 기반의 카이-스퀘어 일관성 검사를 수행하여, 상기 복수 개의 이온층 투과 포인트들에 대하여 상기 상수 모델링 식을 이용할 수 있는지 확인하는 제6 확인 단계;를 포함하는, 이온층 감시 방법
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제11 항에 있어서,상기 모델링 식을 결정하는 단계는,상기 제6 확인 단계를 통한 확인 결과 상기 복수 개의 이온층 투과 포인트들에 대하여 상기 상수 모델링 식을 이용할 수 있는 경우, 상기 상수 모델링 식을 상기 이온층 측정 포인트에서 이온층의 상태를 모델링하기 위하여 사용할 모델링 식으로 결정하고,상기 제6 확인 단계를 통한 확인 결과 상기 복수 개의 이온층 투과 포인트들에 대하여 상기 상수 모델링 식의 이용이 불가능한 경우, 상기 이온층 투과 지연 시간 오차 측정값에 weighted least square 신호 처리 식을 상기 이온층 측정 포인트에서 이온층의 상태를 모델링하기 위하여 사용할 모델링 식으로 결정하는 단계;를 포함하는, 이온층 감시 방법
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제1 항에 있어서,상기 수신하는 단계 이전,상기 프로세서의 측정부를 통하여, 복수 개의 이온층 투과 포인트들 각각에 대한 이온층 투과 지연 시간 오차 측정값을 측정하는 단계;를 더 포함하고,상기 수신하는 단계는,상기 측정부의 측정 결과를 수신하는 단계;를 포함하는, 이온층 감시 방법
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제1 항에 있어서,상기 수신하는 단계 이전,상기 제어부를 통하여, 상기 이온층 측정 포인트에서 측정 가능한 복수 개의 이온층 투과 포인트들을 결정하는 단계;를 포함하는, 이온층 감시 방법
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제14 항에 있어서,상기 이온층 투과 포인트들을 결정하는 단계는,복수의 이온층 투과 포인트들 중 상기 이온층 측정 포인트를 중심으로 하고 소정의 반지름을 가지는 원의 범위 내에 존재하는 포인트들을 이온층 투과 지연 시간을 측정하기 위한 포인트들로 결정하는 단계;를 포함하는, 이온층 감시 방법
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컴퓨터를 이용하여 제1 항, 제4 항 내지 제15 항의 방법 중 어느 하나의 방법을 실행시키기 위하여 컴퓨터 판독 가능한 매체에 저장된 컴퓨터 프로그램
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이온층 측정 포인트에서 측정한 복수 개의 이온층 투과 포인트들 각각에 대한 이온층 투과 지연 시간 오차 측정값을 수신하는 수신부;상기 복수 개의 이온층 투과 포인트들에 대하여 두 개 이상의 모델링 식들 중 어떤 모델링 식을 사용할 수 있는지 확인하고, 상기 확인에 대한 결과를 기초로 상기 이온층 측정 포인트에서 이온층의 상태를 모델링하기 위하여 사용할 모델링 식을 결정하고, 결정한 상기 모델링 식에 상기 이온층 투과 지연 시간 오차 측정값을 대입하여 이온층의 상태를 모델링하는 제어부;를 포함하고,상기 제어부는, 상기 복수 개의 이온층 투과 포인트들에 대하여 상수 모델링 식, 1차 함수 모델링 식, 및 2차 함수 모델링 식 중 어떤 모델링 식을 사용할 수 있는지 확인하고,상기 제어부는, 상기 복수 개의 이온층 투과 포인트들에 대하여 1차 함수 모델링 식 기반의 카이-스퀘어 일관성 검사(Chi-suqare consistency check)를 수행하여, 상기 복수 개의 이온층 투과 포인트들에 대하여 상기 1차 함수 모델링 식을 이용할 수 있는지 확인하는, 이온층 감시 장치
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제17 항에 있어서,상기 제어부는,상기 복수 개의 이온층 투과 포인트들에 대하여 상기 1차 함수 모델링 식을 이용할 수 있는 경우, 상기 이온층 측정 포인트에서 사용 가능한 상기 이온층 투과 포인트들의 개수가 소정의 개수 이상인지 확인하고,사용 가능한 상기 이온층 투과 포인트들의 개수가 상기 소정의 개수 이상인 경우, 상기 복수 개의 이온층 투과 포인트들에 대하여 2차 함수 모델링 식 기반의 카이-스퀘어 일관성 검사를 수행하여, 상기 복수 개의 이온층 투과 포인트들에 대하여 상기 2차 함수 모델링 식을 이용할 수 있는지 확인하고,상기 복수 개의 이온층 투과 포인트들에 대하여 상기 2차 함수 모델링 식을 이용할 수 있는 경우, 상기 복수 개의 이온층 투과 포인트들의 분포 양호도가 양호도 기준치 이상인지 확인하는, 이온층 감시 장치
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제20 항에 있어서,상기 제어부는,사용 가능한 상기 이온층 투과 포인트들의 개수가 상기 소정의 개수 미만인 경우, 상기 복수 개의 이온층 투과 포인트들에 대하여 상기 2차 함수 모델링 식의 이용이 불가능한 경우, 또는 상기 분포 양호도가 상기 양호도 기준치 미만인 경우 상기 1차 함수 모델링 식을 상기 이온층 측정 포인트에서 이온층의 상태를 모델링하기 위하여 사용할 모델링 식으로 결정하고,상기 분포 양호도가 상기 양호도 기준치 이상인 경우 상기 2차 함수 모델링 식을 상기 이온층 측정 포인트에서 이온층의 상태를 모델링하기 위하여 사용할 모델링 식으로 결정하는, 이온층 감시 장치
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제17 항에 있어서,상기 제어부는,상기 복수 개의 이온층 투과 포인트들에 대하여 상기 1차 함수 모델링 식의 이용이 불가능한 경우, 상기 복수 개의 이온층 투과 포인트들에 대하여 상수 모델링 식 기반의 카이-스퀘어 일관성 검사를 수행하여, 상기 복수 개의 이온층 투과 포인트들에 대하여 상기 상수 모델링 식을 이용할 수 있는지 확인하는, 이온층 감시 장치
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제22 항에 있어서,상기 제어부는,상기 복수 개의 이온층 투과 포인트들에 대하여 상기 상수 모델링 식을 이용할 수 있는 경우, 상기 상수 모델링 식을 상기 이온층 측정 포인트에서 이온층의 상태를 모델링하기 위하여 사용할 모델링 식으로 결정하고,상기 복수 개의 이온층 투과 포인트들에 대하여 상기 상수 모델링 식의 이용이 불가능한 경우, 상기 이온층 투과 지연 시간 오차 측정값에 weighted least square 신호 처리 식을 상기 이온층 측정 포인트에서 이온층의 상태를 모델링하기 위하여 사용할 모델링 식으로 결정하는, 이온층 감시 장치
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