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제1 세라믹 소재의 코팅재를 모재 표면에 물리적 기상증착법(PVD)으로 코팅하는 단계(단계 1); 상기 단계 1에서 코팅된 제1 세라믹 소재의 코팅재에 균열을 발생시키는 단계(단계 2); 및상기 단계 2에서 발생된 균열의 틈을 제2 세라믹 소재의 코팅재로 화학적 기상증착법(CVD)을 통해 코팅하는 단계(단계 3);를 포함하고상기 제1 세라믹 소재의 코팅재 및 제2 세라믹 소재의 코팅재는 동일한 세라믹 소재를 포함하는 것을 특징으로 하는 물리적 기상증착법 및 화학적 기상증착법의 융합에 의한 모재 표면에 세라믹 소재의 코팅재를 코팅하는 방법
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제1항에 있어서, 상기 제1 세라믹 소재의 코팅재 및 제2 세라믹 소재의 코팅재는 탄화규소(SiC)인 것을 특징으로 하는 물리적 기상증착법 및 화학적 기상증착법의 융합에 의한 모재 표면에 세라믹 소재의 코팅재를 코팅하는 방법
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제1항에 있어서, 상기 단계 1의 모재는 흑연 또는 탄소/탄소 복합재 소재로 구성되는 것을 특징으로 하는 물리적 기상증착법 및 화학적 기상증착법의 융합에 의한 모재 표면에 세라믹 소재의 코팅재를 코팅하는 방법
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제1항에 있어서, 상기 단계 1의 물리적 기상증착법(PVD)은 스퍼터링(sputtering), 전자빔 증착법(E-beam evaporation), 열증착법, 레이저분자빔 증착법 및 펄스레이저증착법을 포함하는 군으로부터 선택되는 적어도 1종 이상의 방법으로 수행되는 것을 특징으로 하는 물리적 기상증착법 및 화학적 기상증착법의 융합에 의한 모재 표면에 세라믹 소재의 코팅재를 코팅하는 방법
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제1항에 있어서, 상기 단계 1의 코팅 후에 이온빔을 조사하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 물리적 기상증착법 및 화학적 기상증착법의 융합에 의한 모재 표면에 세라믹 소재의 코팅재를 코팅하는 방법
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제5항에 있어서, 상기 이온빔 에너지의 크기는 50 내지 500 KeV 인 것을 특징으로 하는 물리적 기상증착법 및 화학적 기상증착법의 융합에 의한 모재 표면에 세라믹 소재의 코팅재를 코팅하는 방법
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제1항에 있어서, 상기 단계 2의 균열은 상기 단계 1에서 제1 세라믹 소재의 코팅재가 코팅된 모재를 500 내지 2000℃의 온도로 가열하여 발생시키는 것을 특징으로 하는 물리적 기상증착법 및 화학적 기상증착법의 융합에 의한 모재 표면에 세라믹 소재의 코팅재를 코팅하는 방법
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제1항에 있어서, 상기 단계 3의 화학적 기상증착법(CVD)은 유기 금속 화학증착법(Metal-Organic Chemical Vapor Deposition, MOCVD), 수소 기상증착법(Hydride Vapor Phase Epitaxy, HVPE) 및 플라즈마 향상 화학기상증착법(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition, PECVD)을 포함하는 군으로부터 선택되는 적어도 1종 이상의 방법으로 수행되는 것을 특징으로 하는 물리적 기상증착법 및 화학적 기상증착법의 융합에 의한 모재 표면에 세라믹 소재의 코팅재를 코팅하는 방법
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