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a) 팔라듐 촉매 존재 하에서 쿼터티오펜(quaterthiophene) 유도체 화합물 및 브롬과 플루오르로 치환된 벤조티아디아졸(benzothiadiazole) 유도체 화합물을 반응시킴으로써 대칭적 구조를 갖는 하기 화학식 2로 표시되는 화합물을 생성하는 단계;b) 하기 화학식 2로 표시되는 화합물에 브롬화제를 첨가하여 반응시켜 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물을 생성하는 단계; 및c) 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물을 팔라듐 촉매 존재 하에서 비티오펜(bithiophene) 유도체 화합물과 반응시키는 단계를 포함하는, 하기 화학식 1로 표시되는 고분자 화합물 제조방법;[화학식 1][화학식 2][화학식 3]상기 식들 중에서 R은 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 30의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기, 탄소수 1 내지 30의 직쇄 또는 분지쇄의 알콕시기, 또는 탄소수 6 내지 30의 아릴기이고, 상기 알킬기, 알콕시기 및 아릴기는 각각 독립적으로 하나 이상의 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 히드록시기, 아미노기 또는 카르복시기로 치환될 수 있으며, 상기 알킬기, 알콕시기 및 아릴기는 각각 독립적으로 하나 이상의 헤테로 원자를 포함할 수 있고, X는 각각 독립적으로 H 또는 F이며,n은 1 내지 500 중 어느 하나의 정수이다
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제7항에 있어서,상기 식들 중에서 R은 각각 독립적으로 에틸헥실, 부틸옥틸, 헥실데실 및 옥틸도데실로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종인 것을 특징으로 하는 고분자 화합물의 제조방법
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제7항에 있어서,상기 팔라듐 촉매는 PdCl2, Pd(OAc)2, Pd(CH3CN)2Cl2, Pd(PhCN)2Cl2, Pd2(dba)3 및 Pd(PPh3)4로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종인 것을 특징으로 하는 고분자 화합물의 제조방법
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제7항에 있어서,상기 쿼터티오펜(quaterthiophene) 유도체 화합물은 (3,3'''-비스(2-옥틸도데실)-[2,2':5',2'':5'',2'''-쿼터티오펜]-5,5'''-일)비스(트리메틸스탄네인) 또는 (3'',4'-디플루오로-3,3'''-비스(2-옥틸도데실)-[2,2':5',2'':5'',2'''-쿼터티오펜]-5,5'''-디일)비스(트리메틸스탄네인)인 것을 특징으로 하는 고분자 화합물의 제조방법
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제7항에 있어서,상기 브롬과 플루오르로 치환된 벤조티아디아졸(benzothiadiazole) 유도체 화합물은 4-브로모-5-플루오로-7-(4-(2-옥틸도데실)티오펜-2-일)벤조[c][1,2,5]티아디아졸인 것을 특징으로 하는 고분자 화합물의 제조방법
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제7항에 있어서,상기 비티오펜 유도체 화합물은 5,5'-비스(트리메틸스타닐)-2,2'-비티오펜 또는 (3,3'-디플루오로-[2,2'-비티오펜]-5,5'-디일)비스(트리메틸스탄네인)인 것을 특징으로 하는 고분자 화합물의 제조방법
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