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평면 형태로 마련된 제1 초음파 발생부; 및돔 형태로 마련된 제2 초음파 발생부;를 포함하고,상기 제1 초음파 발생부는 제1 측정 대상을 향하여 평면파 형태로 제1 초음파를 발생시키고, 상기 제2 초음파 발생부는 상기 제1 측정 대상으로부터 이격 배치된 제2 측정 대상을 향하여 집속되는 형태로 제2 초음파를 발생시키는 초음파 센서
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제1항에 있어서,상기 제1 측정 대상은 손가락 표면에 배치된 지문이고, 상기 제2 측정 대상은 손가락 내부에 배치된 지정맥인 초음파 센서
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3
제1항에 있어서,상기 제2 초음파 발생부는 상기 제2 측정 대상을 향하여 오목하게 형성되고, 상기 제1 초음파 발생부는 상기 제2 초음파 발생부의 상단과 동일 평면이 되도록 배치되는 초음파 센서
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4
제1항에 있어서,상기 제1 초음파 발생부 및 상기 제2 초음파 발생부는 어레이 형태로 구성되고, 상기 제1 초음파 발생부 및 상기 제2 초음파 발생부는 서로 교대로 배치되는 초음파 센서
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5
제1항에 있어서,상기 제1 초음파 발생부 및 상기 제2 초음파 발생부는 개별적으로 작동되어, 상기 제1 초음파 및 상기 제2 초음파가 순차적으로 또는 동시적으로 발생되는 초음파 센서
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6
돔 형태 영역 및 평면 형태 영역을 포함하는 기판을 제공하는 단계; 및상기 돔 형태 영역 및 평면 형태 영역에 각각 초음파 발생부를 형성하는 단계;를 포함하고,상기 초음파 발생부는 상기 돔 형태 영역 및 평면 형태 영역에 동시에 형성되는 초음파 센서의 제조 방법
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7
제6항에 있어서,상기 돔 형태 영역 및 평면 형태 영역을 포함하는 기판을 제공하는 단계는,기판을 제공하는 단계;상기 기판의 표면에 실리콘 질화물을 증착하는 단계;상기 실리콘 질화물을 원 형태로 식각하는 단계; 및상기 기판을 식각하는 단계;를 포함하는 초음파 센서의 제조 방법
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8
제7항에 있어서,상기 기판을 식각하는 단계에서,상기 기판의 상면에 상기 돔 형태 영역이 형성되고,상기 기판의 상면에서 상기 돔 형태 영역으로부터 이격되게 상기 평면 형태 영역이 정의되며,상기 돔 형태 영역은 상기 원 형태로 식각된 실리콘 질화물 하부에 형성되고, 상기 돔 형태 영역의 상단 직경은 상기 실리콘 질화물의 식각 직경보다 크게 형성되는 초음파 센서의 제조 방법
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9
제7항에 있어서,상기 돔 형태 영역 및 평면 형태 영역을 포함하는 기판을 제공하는 단계는,상기 기판을 식각하는 단계 후에,상기 기판으로부터 실리콘 질화물을 제거하는 단계; 및상기 기판의 표면에 실리콘 산화물을 증착하는 단계;를 더 포함하는 초음파 센서의 제조 방법
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10
제6항에 있어서,상기 돔 형태 영역 및 평면 형태 영역에 각각 초음파 발생부를 형성하는 단계는,상기 돔 형태 영역 및 상기 평면 형태 영역에 납을 전극 형태로 패터닝하는 단계;상기 납 상에 압전물질을 멤브레인 형태로 패터닝하는 단계;상기 기판을 열처리하는 단계; 및상기 압전물질 상에 금을 전극 형태로 패터닝하는 단계;를 포함하는 초음파 센서의 제조 방법
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11
제6항에 있어서,상기 돔 형태 영역 및 평면 형태 영역에 각각 초음파 발생부를 형성하는 단계 후에,상기 기판의 상면에 포토레지스트를 증착하는 단계;상기 기판의 하면에 알루미늄 패턴을 형성하는 단계;상기 기판의 하면을 식각하는 단계; 및상기 기판의 상면에 증착된 포토레지스트를 제거하는 단계;를 더 포함하는 초음파 센서의 제조 방법
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12
제11항에 있어서,상기 기판의 하면에 알루미늄 패턴을 형성하는 단계는,상기 기판의 하면에 알루미늄을 증착하는 단계; 및상기 평면 형태 영역 및 돔 형태 영역에 대응하도록 상기 알루미늄을 식각하는 단계;를 포함하고,상기 기판의 하면을 식각하는 단계에서, 상기 기판의 돔 형태 영역보다 상기 평면 형태 영역에서 식각 깊이가 더 깊은 초음파 센서의 제조 방법
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13
제1 초음파를 발생시켜 지문을 인식하는 지문 인식부;제2 초음파를 발생시켜 지정맥을 인식하는 지정맥 인식부; 및상기 지문 인식부에서 인식된 지문 및 상기 지정맥 인식부에서 인식된 지정맥을 고려하여 본인 인증을 수행하는 인증부;를 포함하고,상기 지문 인식부는 지문을 향하여 평면파 형태로 제1 초음파를 발생시키도록 평면 형태로 마련되고, 상기 지정맥 인식부는 지정맥을 향하여 집속되는 형태로 제2 초음파를 발생시키도록 돔 형태로 마련되는 보안 시스템
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제13항에 있어서,상기 인증부는 상기 지문 인식부에서 인식된 지문 및 상기 지정맥 인식부에서 인식된 지정맥을 동기화시켜, 상기 지문의 위치에 따른 상기 지정맥의 위치 및 패턴을 분석한 후에, 상기 지문의 위치에 따른 상기 지정맥의 위치 및 패턴과 상기 인증부에 기저장된 지정맥에 대한 정보의 일치 여부를 판단하는 보안 시스템
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15
제13항에 있어서,상기 인증부는 상기 지문 인식부에서 인식된 지문 및 상기 지정맥 인식부에서 인식된 지정맥과 상기 인증부에 기저장된 지문에 대한 정보 및 지정맥에 대한 정보의 일치 여부를 판단하는 보안 시스템
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