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인듐전구체 및 아연전구체를 산에 녹여 혼합물을 준비하는 단계;상기 혼합물에 인 화합물을 넣어 In(Zn)P계코어를 형성하는 단계;상기 혼합물에 셀레늄 화합물 및 상기 아연전구체를 넣어 상기 In(Zn)P계코어상에 코팅된 제1 쉘을 형성하는 단계; 및상기 혼합물에 황 화합물 및 상기 아연전구체를 넣어 상기 제1 쉘 상에 코팅된 제2 쉘을 형성하는 단계; 를 포함하고,상기 혼합물을 준비하는 단계는 100℃ 내지 140℃ 에서 6시간이상 진공에서 수행하며,상기 코어를 형성하는 단계는 실온에서 상기 인 화합물을 넣은 후 가열 승온법(heating-up)을 수행하여 승온하고, 200℃ 내지 400℃에서 10분 내지 30분 동안 유지시켜 코어가 형성되고,상기 가열 승온법(heating-up)의 온도는 400℃이하로 수행하며,상기 In(Zn)P계코어를 형성하는 단계에서 형성된 In(Zn)P계코어는 코어 내에 In, Zn 및 P를 포함하고 코어 표면에 Zn층이 형성되는 구조를 갖는 것을 특징으로 하고,상기 제1 쉘은 ZnSe으로 형성되고, 상기 제2 쉘은 ZnS로 형성된 것을 특징으로 하는 양자점 제조방법
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제1항에 있어서,상기 인듐전구체는 아세트산인듐(Indium acetate) 또는 인듐 아세토네이트(Indium acetylacetonate)을 포함하는 것을 특징으로 하는 양자점 제조방법
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제1항에 있어서,상기 아연전구체는 아세트산아연(zinc acetate), 아연 아세토네이트(Zinc acetylacetonate), 스테아르산아연(zinc stearate) 및 올래산아연(zinc oleate)중 선택되는 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 양자점 제조방법
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제1항에 있어서,상기 산은 카르복실산 리간드인 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 양자점 제조방법
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제4항에 있어서,상기 카르복실산 리간드는 팔미트산(palmitic acid), 스테아르산(Stearic acid), 미리스트산(Myristic acid) 또는 올레산(oleic acid)을 포함하는 것을 특징으로 하는 양자점 제조방법
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제1항에 있어서,상기 혼합물을 준비하는 단계에서,상기 아연전구체는 상기 인듐전구체를 1mmol기준으로 0
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7
제1항에 있어서,상기 혼합물을 준비하는 단계에서,상기 산은 상기 인듐전구체를 1mmol기준으로 3
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제1항에 있어서,상기 양자점의 방출 FWHM(full width at half maximum)값이 40nm이하인 것을 특징으로 하는 양자점 제조방법
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9
제1항에 있어서,상기 코어를 형성하는 단계에서,상기 인 화합물은 상기 인듐전구체를 1mmol기준으로 0
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10
제1항에 있어서,상기 인 화합물은 트리스포스핀(Tris(trimethylsilyl)phosphine ((TMS)3P)을 포함하는 것을 특징으로 하는 양자점 제조방법
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삭제
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삭제
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제1항에 있어서,상기 셀레늄 화합물은 TOP(Trioctylphosphine)Se를 포함하는 것을 특징으로 하는 양자점 제조방법
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제1항에 있어서,상기 황 화합물은 1- dodecanethiol (1-DDT)를 포함하는 것을 특징으로 하는 양자점 제조방법
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제1항에 있어서,상기 제1 쉘 및 상기 제2 쉘은 SILAR (Successive Ion Layer Adsorption and Reaction) 법을 수행하여 형성되는 것을 특징으로 하는 양자점 제조방법
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17
제16항에 있어서,상기 SILAR (Successive Ion Layer Adsorption and Reaction) 법은 200℃ 내지 400℃ 온도에서 수행되는 것을 특징으로 하는 양자점 제조방법
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제1항에 있어서,상기 양자점의 크기는 1
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제1항에 있어서,상기 양자점의 발광파장은 380nm 내지 750nm의 파장에서 발광하는 것을 특징으로 하는 양자점 제조방법
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가열 승온법(heating-up)을 수행하여 In(Zn)P계로 형성된 코어; 상기 코어 상에 코팅된 제1 쉘; 및상기 제1 쉘 상에 코팅되며, 상기 코어가 외부로부터 산화되는 것을 보호하는 제2 쉘; 을 포함하고,상기 제1 쉘은 ZnSe로 형성되고, 상기 제2 쉘은 ZnS로 형성되며,상기 In(Zn)P계코어는 코어 내에 In, Zn 및 P를 포함하고 코어 표면에 Zn층이 형성되는 구조를 갖는 것을 특징으로 하고,방출 FWHM(full width at half maximum)값이 40nm이하인 것을 특징으로 하는 양자점
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제20항에 있어서,상기 양자점의 크기는 1
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제20항에 있어서,상기 양자점의 발광파장은 380nm 내지 750nm의 파장에서 발광하는 것을 특징으로 하는 양자점
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제20항에 있어서,상기 코어는 인듐 과 인의 비율이 인듐을 1mmol기준으로 상기 인의 함량이 0
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제1항의 양자점 제조방법으로 제조된 양자점
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